触控液晶面板与其制造方法
【专利摘要】本发明揭露一种触控液晶面板与其制造方法。此触控液晶面板包含彩色滤光片基板和晶体管基板。在此触控液晶面板的制造方法中，首先提供第一玻璃基板。接着，于一预设烘烤温度下，形成感测阵列于第一玻璃基板的第一表面上。此感测阵列的材质为氧化铟锡，且片电阻值为30欧姆/平方以下。然后，设置彩色滤光片与共同电极层于第一玻璃基板的第二表面上，以形成彩色滤光片基板，其中第二表面是相对于第一表面。接着，提供晶体管基板。然后，将彩色滤光片基板与晶体管基板组合，以形成液晶面板。接着，对液晶面板进行薄化制程，以薄化晶体管基板的第二玻璃基板。
【专利说明】触控液晶面板与其制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明是有关于一种触控液晶面板与其制造方法，特别是有关于一种应用外挂式 触控技术（Oncell)的触控感测阵列的液晶面板与其制造方法。
【背景技术】
[0002] 近年来，轻薄的平面显示器已成为各种电子产品广泛使用的显示器。为了达到使 用便利性、外观简洁以及多功能的目的，许多信息产品已由传统的键盘或滑鼠等输入装置， 转变为使用触控面板（TouchPanel)作为输入装置。
[0003] 随着平面显示器与触控输入装置的技术快速发展，为了在有限的体积下，让使用 者有较大的可视画面以及提供更方便的操作模式，某些电子产品将触控面板与显示面板结 合，而构成触控显示面板。由于触控显示面板兼具显示面板的显示功能，以及触控面板输入 操作的便利性。因此，触控显示面板已经逐渐成为许多电子产品，如掌上型电脑（handheld PC)、个人化数字助理（PersonalDigitalAssistance;PDA)或是智能手机（smartphone) 等产品的重要配备。
[0004] 触控面板的操作原理为，当一导体物件（例如手指）接触到触控面板的触控感测 阵列时，触控感测阵列的电气特性（例如电阻值或电容值）会随着改变，并导致触控感测阵 列的偏压改变。此电气特性上的改变会转换为控制信号传送至外部的控制电路板上，并经 由处理器进行数据处理并运算得出结果。接着，再通过外部控制电路板输出一显示信号至 显示面板中，并经由显示面板将影像显示在使用者眼前。
[0005] 在目前的各种触控技术中，外挂式触控技术（Oncell)具有低成本、容易组装的优 势，因此最为受到欢迎。在外挂式触控技术中，感测阵列的片电阻值会影响触控感应的效 能。例如，若感测阵列的片电阻值较大，触控驱动电路就需要耗费较多的电能来进行触控感 测。
[0006] 因此，需要一种触控液晶面板与其制造方法，其可提供具有较低片电阻值的感测 阵列。
【发明内容】
[0007] 本发明的一方面是在提供于一种触控液晶面板与其制造方法。此制造方法是利用 高温烘烤制程来形成具有较低片电阻值的感测阵列，以提供具有较佳触控感测效能的触控 液晶面板。
[0008] 根据本发明的一实施例，此触控液晶面板包含彩色滤光片基板、晶体管基板以及 液晶层。彩色滤光片基板包含第一玻璃基板、感测阵列、多个彩色滤光片以及共同电极层。 第一玻璃基板具有第一表面和第二表面，其中第一表面是相对于第二表面。感测阵列是设 置于第一玻璃基板的第一表面上，其中感测阵列的材质为氧化铟锡，此感测阵列的片电阻 值是小于或等于30欧姆/平方。彩色滤光片是设置于第一玻璃基板的第二表面上。共同 电极层是设置于彩色滤光片上。晶体管基板包含第二玻璃基板以及像素层。第二玻璃基板 是经过薄化制程处理，且具有0. 2毫米以下的厚度。像素层是设置于第二玻璃基板上，其中 像素层包含多个像素单元，每一像素单元包含晶体管开关和像素电极。液晶层设置于彩色 滤光片基板和晶体管基板之间
[0009] 根据本发明另一实施例，在此触控液晶面板的制造方法中，首先进行彩色滤光片 基板制造步骤，以提供彩色滤光片基板。在彩色滤光片基板制造步骤中，首先提供第一玻璃 基板，其中第一玻璃基板具有第一表面和第二表面，第一表面是相对于第二表面。接着，进 行感测阵列形成步骤，以于预设烘烤温度下，在第一玻璃基板的第一表面上形成感测阵列， 其中感测阵列的材质为氧化铟锡，感测阵列的片电阻值是小于或等于30欧姆/平方。然 后，设置多个彩色滤光片于第一玻璃基板的第二表面上。接着，设置共同电极层于彩色滤光 片上，以形成彩色滤光片基板。在彩色滤光片基板制造步骤后，接着提供晶体管基板。此晶 体管基板包含第二玻璃基板以及像素层。像素层是设置于第二玻璃基板上，其中像素层包 含多个像素单元，每一像素单元包含晶体管开关和像素电极。然后，将彩色滤光片基板和晶 体管基板组合，并将液晶层设置于彩色滤光片基板和晶体管基板之间，以形成液晶面板。接 着，对液晶面板进行薄化制程，以薄化液晶面板的第二玻璃基板。
[0010] 由上述说明可知，本发明实施例的触控液晶面板制造方法是利用烘烤制程来形成 电阻值为30欧姆/平方以下的感测阵列，以提供具有较佳触控感测效能的触控液晶面板。 另外，本发明实施例的触控液晶面板亦进行单边薄化制程，以使触控液晶面板更为轻薄。
【专利附图】
【附图说明】
[0011] 为让本发明的上述和其他目的、特征、和优点能更明显易懂，上文特举数个较佳实 施例，并配合所附附图，作详细说明如下：
[0012] 图1是绘示根据本发明实施例的触控液晶面板的制造方法的流程示意图；
[0013] 图2a-图2f是绘示对应至本发明实施例的触控液晶面板制造方法的各步骤的触 控液晶面板剖面结构示意图；
[0014] 图3是绘示根据本发明实施例的触控液晶面板的制造方法的流程示意图；
[0015] 图4a是绘示本发明实施例的彩色滤光片基板的剖面结构示意图；
[0016] 图4b是绘示本发明实施例的触控液晶面板的剖面结构示意图；
[0017]图5是绘示本发明实施例的感测阵列的图案结构。
【具体实施方式】
[0018] 请同时参照图1和图2a-图2f，图1是绘示根据本发明实施例的触控液晶面板的 制造方法100的流程不意图，图2a_图2f是绘不对应至触控液晶面板制造方法100的各步 骤的触控液晶面板剖面结构示意图。在触控液晶面板制造方法100中，首先进行彩色滤光 片基板提供步骤110,以提供彩色滤光片基板。本实施例的彩色滤光片基板提供步骤Iio包 含基板提供步骤112、感测阵列形成步骤114、彩色滤光片设置步骤116以及共同电极层设 置步骤118。在以下的叙述中，将详细介绍彩色滤光片基板提供步骤110。
[0019] 在本实施例的彩色滤光片基板提供步骤110中，首先进行基板提供步骤112,以提 供玻璃基板210,如图2a所示。玻璃基板210具有第一表面212和第二表面214,其中第一 表面212是相对于第二表面214。
[0020] 然后，进行感测阵列形成步骤114,以于预设烘烤温度下形成感测阵列220于玻璃 基板210的第一表面212上，如图2b所示。在本实施例中，此预设烘烤温度为摄氏230度 以上，而感测阵列220是利用溅镀的方式来形成于玻璃基板210上，但本发明的实施例并不 受限于此。另外，本实施例的感测阵列220的材质为氧化铟锡（IndiumTinOxide;ΙΤ0)， 且具有600埃(A)至1400埃之间的厚度。
[0021] 感测阵列形成步骤114是用以形成片电阻值在30欧姆/平方以下的感测阵列 220,以减少触控感测电路进行感测作业所需的电能。在本实施例中，感测阵列220的图形 是利用微影制程来形成，且包含互相垂直交错的氧化铟锡线段L，如图5所示。然而，本发明 实施例的感测阵列220的图形并不受限于此实施例。
[0022] 值得注意的是，本实施例的触控液晶面板是采用外挂式触控技术（Oncell)，因此 感测阵列形成步骤114仅需一道光罩即可形成感测阵列220的图形。
[0023] 在感测阵列形成步骤114之后，接着依序进行彩色滤光片设置步骤116和共同电 极层设置步骤118,以于玻璃基板210的第二表面214上设置彩色滤光片230和共同电极 层C0M，以获得彩色滤光片基板P，如图2c所示。彩色滤光片230是包含彩色色阻232和黑 色矩阵234。在本实施例中，彩色色阻232可包含红色色阻、蓝色色阻和绿色色阻，但本发 明的实施例并不受限于此。共同电极层COM是设置于彩色滤光片230上，以将彩色滤光片 230夹设于玻璃基板210与共同电极层COM之间。
[0024] 在彩色滤光片基板提供步骤110之后，接着进行晶体管基板提供步骤120,以提供 晶体管基板240,如图2d所示。晶体管基板240包含玻璃基板242和像素层244LCC0MLC。 像素层244是设置于玻璃基板242上，且包含多个像素单元（未绘示）。每一像素单元包含 晶体管开关和像素电极，以依序接收影像数据信号来控制液晶层的液晶分子的排列方式。
[0025] 在晶体管基板提供步骤120之后，接着进行组合步骤130,以将晶体管基板240与 彩色滤光片基板P组合，并将液晶层LC设置于该彩色滤光片基板和该晶体管基板之间，以 获得触控液晶面板200,其中触控液晶面板200的共同电极层COM位于液晶层LC和彩色滤 光片230之间。在本实施例中，晶体管基板240与彩色滤光片基板P的组合是利用可剥胶 贴合来完成，但本发明的实施例并不受限于此。
[0026] 在组合步骤130之后，接着进行薄化步骤140,以薄化触控液晶面板200。在本实 施例中，薄化步骤140是针对晶体管基板240的玻璃基板242进行薄化，以将玻璃基板242 的厚度从〇. 4毫米减至0. 2毫米，即减少50%的厚度。
[0027] 从以上说明可知，本发明实施例的触控液晶面板的制造方法100是利用感测阵列 形成步骤114来提供片电阻值在30欧姆/平方以下的感测阵列220,以减少触控感测电路 进行感测作业所需的电能。另外，本发明实施例的触控液晶面板的制造方法100亦包含薄 化制程，以提供轻薄的触控液晶面板200。
[0028] 请同时参照图3,其是绘示根据本发明实施例的触控液晶面板的制造方法300的 流程示意图。触控液晶面板制造方法300是类似于触控液晶面板制造方法100,但不同之处 在于触控液晶面板制造方法300还包含封胶步骤310和320。
[0029] 彩色滤光片基板提供步骤310的封胶步骤310是介于感测阵列形成步骤114和彩 色滤光片设置步骤116之间。封胶步骤310是于彩色滤光片设置步骤116进行之前，在感 测阵列220上形成封胶层410,如图4a所示。封胶层410是用以保护感测阵列220,以避免 感测阵列220于后续的制程中损坏。在本实施例中，封胶层410可利用可剥胶来形成，但本 发明的实施例并不受限于此。
[0030] 封胶步骤320是介于组合步骤130和薄化步骤140之间。封胶步骤320是于薄化 步骤140进行之前，在触控液晶面板的侧表面上形成封胶层420,如图4b所示。封胶层420 是用以保护触控液晶面板的侧表面，以避免触控液晶面板的侧表面于后续的制程中损坏。 类似于封胶层410,本实施例的封胶层420亦可利用可剥胶来形成，但本发明的实施例并不 受限于此。
[0031] 由以上说明可知，本发明实施例的触控液晶面板制造方法300是利用封胶步骤 310和320来形成封胶层410和420,以防止薄化步骤140对感测阵列220和触控液晶面板 的侧表面产生伤害。本发明实施例的触控液晶面板制造方法300不但简化触控液晶面板的 生产流程，更兼顾薄膜晶体管设计标准，进而提供更可靠的触控液晶面板。
[0032] 虽然本发明已以数个实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，在本发明所属 【技术领域】中任何具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作各种的更动与 润饰，因此本发明的保护范围当视所附的权利要求书所界定的范围为准。
【权利要求】
1. 一种触控液晶面板，其特征在于，包含： 一彩色滤光片基板，该彩色滤光片基板包含：一第一玻璃基板，具有一第一表面和一第 二表面，其中该第一表面是相对于该第二表面；一感测阵列，设置于该第一玻璃基板的该第 一表面上，其中该感测阵列的材质为氧化铟锡，该感测阵列的片电阻值是小于或等于30欧 姆/平方；多个彩色滤光片，设置于该第一玻璃基板的该第二表面上；以及一共同电极层， 设置于所述多个彩色滤光片上； 一晶体管基板，该晶体管基板包含：一第二玻璃基板，经过薄化制程处理，且具有〇. 2 毫米以下的厚度；以及一像素层，设置于该第二玻璃基板上，其中该像素层包含多个像素单 元，每一所述像素单元包含一晶体管开关和一像素电极；以及 一液晶层，设置于该彩色滤光片基板和该晶体管基板之间。
2. 根据权利要求1所述的触控液晶面板，其特征在于，该感测阵列的厚度是介于600埃 至1400埃之间。
3. -种触控液晶面板的制造方法，其特征在于，包含： 进行一彩色滤光片基板制造步骤，以提供一彩色滤光片基板，其中该彩色滤光片基板 制造步骤包含：提供一第一玻璃基板，其中该第一玻璃基板具有一第一表面和一第二表面， 该第一表面是相对于该第二表面；进行一感测阵列形成步骤，以于一预设烘烤温度下形成 一感测阵列于该第一玻璃基板的该第一表面上，其中该感测阵列的材质为氧化铟锡，该感 测阵列的片电阻值是小于或等于30欧姆/平方；设置多个彩色滤光片于该第一玻璃基板的 该第二表面上；以及设置一共同电极层于所述多个彩色滤光片上，以形成该彩色滤光片基 板； 提供一晶体管基板，其中该晶体管基板包含：一第二玻璃基板；以及一像素层，设置于 该第二玻璃基板上，其中该像素层包含多个像素单元，每一所述像素单元包含一晶体管开 关和一像素电极； 将该彩色滤光片基板和该晶体管基板组合，并将一液晶层设置于该彩色滤光片基板和 该晶体管基板之间，以形成一液晶面板；以及 对该液晶面板进行一薄化制程，以薄化该液晶面板的该第二玻璃基板。
4. 根据权利要求3所述的触控液晶面板的制造方法，其特征在于，该感测阵列的厚度 是介于600埃至1400埃之间。
5. 根据权利要求3所述的触控液晶面板的制造方法，其特征在于，该预设烘烤温度为 摄氏230度以上。
6. 根据权利要求3所述的触控液晶面板的制造方法，其特征在于，该第二玻璃基板经 过该薄化制程处理后，具有〇. 2毫米以下的厚度。
7. 根据权利要求3所述的触控液晶面板的制造方法，其特征在于，该彩色滤光片基板 制造步骤还包含一封胶步骤，以于该感测阵列上形成一封胶层来保护该感测阵列。
8. 根据权利要求3所述的触控液晶面板的制造方法，其特征在于，将该彩色滤光片基 板和该晶体管基板组合的该步骤包含一封胶步骤，该封胶步骤是于该液晶面板的多个侧面 上形成一封胶层来保护该液晶面板的所述多个侧面。
9. 根据权利要求3所述的触控液晶面板的制造方法，其特征在于，该感测阵列形成步 骤包含一微影制程，以使该感测阵列具有一预设图案。
【文档编号】G06F3/041GK104238167SQ201310251795
【公开日】2014年12月24日 申请日期:2013年6月24日 优先权日:2013年6月24日
【发明者】吴许合, 苏炳源, 林侑正, 李杏樱, 蔡昆华 申请人:瀚宇彩晶股份有限公司