单片式电容触摸屏的制作方法
【专利摘要】一种单片式电容触摸屏，包括透明基板以及遮蔽层，所述遮蔽层的内表面与所述透明基板相连，在所述遮蔽层的外表面形成有光密度大于所述遮蔽层光密度的盖底层，所述遮蔽层的外侧边缘距所述透明基板的周围侧边存在间距，在靠近所述遮蔽层的内侧边缘位置设置有光密度大于遮蔽层光密度的遮蔽增强层，所述遮蔽增强层环绕所述遮蔽层的内侧周边设置，且所述遮蔽增强层的一部分位于遮蔽层与所述透明基板之间，而另一部分从所述遮蔽层的内侧边缘处伸出。本发明的侧边不会产生侧蚀现象，且本发明的遮蔽层的遮光效果好，可避免在内侧边缘处发生漏光现象。
【专利说明】单片式电容触摸屏
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种触控技术，尤其是一种单片式电容触摸屏。
【背景技术】
[0002]随着信息技术、无线通讯技术等信息产业的快速发展，人们对电子产品的需求与日俱增，为了使产品更方便人们操作和使用，许多电子产品已开始采用触摸屏作为输入装置，触摸屏作为一种全新的人机交流方式，因其具有生动直观的操作接口且符合人体的使用习惯，在人们生活和工作中，应用越来越广泛。
[0003]传统的电容触摸屏通常包括保护盖板和触控感应模块，所述保护盖板和触控感应模块通过OCA胶相粘合，该种结构形式的电容触摸屏厚度较厚且透光性能较差；而单片式电容触控屏是通过在透明基板上直接镀制透明导电线路层，实现保护盖板与触控感应模块的一体化，省去了至少一片玻璃或薄膜，减少了贴合次数，其厚度更薄，透光率更高，已逐步成为电容触摸屏发展主流之一。
[0004]参见图1，传统的单片式电容触摸屏通常包括透明基板Γ，在所述透明基板的周边设置有遮蔽层Ir，该遮蔽层1Γ主要用以遮盖位于透明基板周边的线路层，以避免透明基板周边的线路层而通过透明基板透视于外，进而影响单片式触摸屏的视观效果，图1中，所述遮蔽层IP内侧部分为触摸屏的可视区12'，其用以对外向用户提供操作界面且显示相应图像；在加工制作单片式电容触摸屏时，由于黑色或灰色材料比白色或其它有色材料的光密度较高，在加工制造过程中，光密度相对较高的材料的工艺更容易控制，所以常见的单片式电容触摸屏的遮蔽层IP通常设置为黑色或灰色。
[0005]随着产品使用者对触摸屏外观多样化的需求，近年来，电容触摸屏的遮蔽层逐渐出现其它色彩，如白色、金色或红色等色彩的电容触摸屏；由于白色、金色或红色等色彩的光阻或油墨材料的光密度较低，在采用这些光密度较低的光阻或油墨制作遮蔽层时，为了达到良好的遮光效果，遮蔽层的厚度通常加工的比较厚，该厚度较厚的遮蔽层存在以下问题:(I)在该种结构形式的遮蔽层上制作线路层时，因遮蔽层厚度较厚，极易造成线路层出现断线现象；(2)由于遮蔽层的光密度较低，如工艺控制不好，制作完成的触摸屏在与LCM贴合后，LCM发出的光线，很容易在遮蔽层出现漏光现象；尤其是在遮蔽层的内侧边缘处，因工艺原因，其厚度相对较薄，很容易发生光线漏光现象；另外，在所述遮蔽层外表面上制作光密度相对较大的盖底层时，因制作所述盖底层而产生的相应材料残留很容易在透明基板边缘处显露于外，进而影响整个触摸屏产品的外观效果；(3)在对所述透明基材进行二次强化时，因遮蔽层与透明基板之间存在的高度差较大，在透明基板上贴附抗酸膜时，致使抗酸膜与透明基板贴附的不是很紧密，进而在透明基板强化过程中，氢氟酸渗透至透明基板侧边而对透明基板造成侧蚀现象；基于以上触摸屏所存在的问题，有必要对此种结构的单片式电容触摸屏进一步做出改进。
【发明内容】
[0006]本发明要解决的技术问题是提供一种单片式电容触摸屏，该单片式电容触摸屏的侧边不会产生侧蚀现象，且本发明的遮蔽层的遮光效果好，不会在内侧边缘处发生漏光现象。
[0007]为解决上述技术问题，本发明采用下述技术方案:该单片式电容触摸屏，包括透明基板以及环绕所述透明基板周边设置的遮蔽层，所述遮蔽层的内表面与所述透明基板相连，在所述遮蔽层的外表面形成有光密度大于所述遮蔽层光密度的盖底层，所述遮蔽层的外侧边缘距所述透明基板的周围侧边存在间距，在靠近所述遮蔽层的内侧边缘位置设置有光密度大于遮蔽层光密度的遮蔽增强层，所述遮蔽增强层环绕所述遮蔽层的内侧周边设置，且所述遮蔽增强层的一部分位于遮蔽层与所述透明基板之间，而另一部分从所述遮蔽层的内侧边缘处伸出。
[0008]根据本发明的设计构思，本发明在所述遮蔽层的外侧边缘与透明基板的间距处设置有光密度低于所述盖底层的填充层，所述填充层的厚度大于等于所述遮蔽层而小于等于遮蔽层与盖底层的厚度之和。
[0009]根据本发明的设计构思，所述盖底层的外侧边缘向所述遮蔽层外表面内侧缩进而在遮蔽层的边缘处形成间距，所述填充层覆盖该间距；所述盖底层的内侧边缘位于所述遮蔽增强层的外表面内侧且所述盖底层的内侧边缘与所述遮蔽增强层的内侧边缘亦存在间距。
[0010]根据本发明的设计构思，本发明遮蔽层为多层结构，且所述遮蔽层的各层的内侧边缘到所述透明基板的周边的距离逐层缩减，所述遮蔽增强层位于所述遮蔽层的最下层且所述遮蔽增强层的内侧边从所述遮蔽层最下层的内侧边缘处伸出。
[0011]根据本发明的设计构思，本发明遮蔽层各层的外侧边缘至所述透明基板的周边的距离相等。
[0012]根据本发明的设计构思，本发明遮蔽增强层的厚度为1-3μπι，宽度为300-500 μ m ;且位于所述遮蔽层与所述透明基板之间的遮蔽增强层的宽度为90-200 μ m。
[0013]根据本发明的设计构思，本发明遮蔽增强层的宽度为350-450 μ m，且位于所述遮蔽层与所述透明基板的遮蔽增强层的宽度为110-180 μ m。
[0014]根据本发明的设计构思，本发明遮蔽层的外侧边缘与所述透明基板的周围侧边的间距为350-450 μ m，所述盖底层的外侧边缘与所述遮蔽层的外侧边缘的间距为150-300 μ mD
[0015]与现有技术相比，本发明具有下述有益效果:(1)由于本发明的遮蔽层的外侧边缘距所述透明基板的周围侧边存在间距，在对触摸屏进行二次强化而在透明基板上贴附抗酸膜时，抗酸膜在该间距处贴附的比较紧凑，进而避免了氢氟酸渗透至透明基板侧边而对透明基板造成侧蚀现象；(2)又因为本发明在遮蔽层的外表面形成有盖底层，且在遮蔽层的内侧边缘处设置有遮蔽增强层，该盖底层和遮蔽增强层的光密度比较高，遮光效果较好，当触摸屏与LCM贴合后，由于遮蔽层的外表面以及内侧边缘处具有光密度相对较大的盖底层和遮蔽增强层遮挡，LCM发出的光线，不会在在遮蔽层以及遮蔽层的内侧边缘处产生漏光现象；(3)由于本发明的遮蔽层的外侧边缘与所述透明基板的侧边之间设置有间距，且盖底层的外侧边缘向遮蔽层外表面内侧缩进一定间距，这样，在制作盖底层时，如果制作盖底层的材料存在残留，由于间距的存在，可保证制作盖底层的相应的材料残留最大限度的位于该艰巨内，由于该间距内的材料残留具有遮蔽层遮挡，进而可防止因制作盖底层所产生的相应的材料残留，造成触摸屏边缘被玷污而形成黑边或灰边等外部不良现象；(4)本发明在所述遮蔽层的外侧边缘和所述盖底层外侧边缘与所述透明基板的侧边的间距处设置填充层，该填充层可在产品二次强化后，防止LCM发出的光经触摸屏边缘预留的余量处发出，提高了触摸屏的防漏光性能；(5)由于发明遮蔽层的各层的内侧边缘与所述透明基板的周边的距离逐层缩减，在该种结构形式的遮蔽层上设置线路层时，由于各层之间较为平缓上升，因此，位于透明基板可视区的触控线路在盖底层或遮蔽层上设置线路时而不会产生断线，从而提闻了广品品质。
【专利附图】
【附图说明】
[0016]图1为传统单片式电容触摸屏的俯视结构示意图；
图2为本发明的俯视结构示意图，
图3为本发明图2中A-A向的剖视结构示意图，图中只是象征性的示出了遮蔽层的结构，该结构中遮蔽层的单层或多层结构均作为一个整体结构示出。
[0017]图4为本发明图3中B区的局部放大结构示意图；
图5为本发明图2中A-A向的另一种结构形式的剖视结构示意图，图中象征性的示出了遮蔽层为三层时的结构。
[0018]图6为本发明图5中C区的局部放大结构示意图。
【具体实施方式】
[0019]首先，需要进行说明的是，本发明所称的透明基材I为透明材质，该透明材质可以是无碱玻璃或透明柔性树脂板，当然也可以是有碱玻璃；透明柔性树脂板可以是聚对苯二甲酸乙二脂(PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或聚碳酸脂。本发明所称的遮蔽层、盖底层、遮蔽增强层以及填充层既可采用油墨材料制成，也可采用光阻材料所制成，光密度较大的材料可选择黑色或灰色油墨或光阻，光密度较小的材料，可选择白色、红色或金色等色彩的油墨或光阻。
[0020]参见图2、图3和图4，本发明的单片式电容触摸屏，包括透明基材I，在靠近所述透明基材I的周边位置设置有遮蔽层11，遮蔽层11环绕透明基板I的周边设置。所述遮蔽层11的内侧为触摸屏的可视区12，在该可视区12内设置有感应电极区，在感应电极区的周边设置有线路层，所述线路层与所述感应电极区电性连接。而遮蔽层11的主要作用就是为了遮盖位于透明基板周边的线路层，以避免线路层透视于外而影响单片式电容触摸屏的视觉效果。
[0021]本发明的遮蔽层11如采用光密度较低的材料制作，比如采用白色、金色或红色等光阻或油墨材料制作时，由于该类材料的光密度比较低，为对光线达到良好的遮蔽效果，遮蔽层11通常加工的比较厚，进而，在遮蔽层11周边设置线路层时，线路层很容易产生断线现象；为避免遮蔽层11厚度过厚而致使线路层产生断线现象，且提高遮蔽层11对光线的遮蔽性能，本发明在遮蔽层11的外表面还形成有盖底层13，该盖底层13的材料的光密度大于遮蔽层11材料的光密度，比如盖底层13可采用光密度较高的黑色或灰色光阻或油墨而制成，而遮蔽层11可采用光密度相对较小的白色、金色或红色等光密度相对较小的光阻或油墨材料而制成。
[0022]由于本发明的遮蔽层11的外表面设置有盖底层13，且该盖底层13的光密度较大，因此，该种结构形式的遮蔽层11的厚度可相对做的较薄，且本发明的遮蔽层11各层之间为层阶式结构，在该种结构形式的遮蔽层上设置线路层时，由于各层之间较为平缓上升，因此，位于透明基板可视区的触控线路在盖底层或遮蔽层上设置线路时而不会产生断线，进而使产品良率得到提升。
[0023]同时，为避免在加工制作所述盖底层13时，制作所述盖底层13的材料在透明基板11的边缘处产生残留，而影响触摸屏产品边缘的呈现效果，比如:因制作所述盖底层13而产生的材料残留，在透明基板I的边缘处经透明基板I显露于外；本发明的盖底层13的边缘位于所述遮蔽层11的外表面内侧，也就是说，本发明的盖底层13的边缘向遮蔽层11的外表面内侧缩进一定距离，即所述遮蔽层11的外侧边缘与所述遮盖层11的外侧边缘存在间距，该间距优选为150-300 μ m。由于该间距的存在，在制作所述盖底层13时，即使产生相应材料的残留，由于该材料残留位于该间距内，因该间距的范围为所述遮蔽层11所覆盖，因此，可保证残留的材料不会从透明基板I处而显露于外，进而使单片式触摸屏的产品良率得到进一步提升。
[0024]同样的，为了避免制作盖底层13所产生的相应材料残留而在遮蔽层11内侧边缘处显露于外，本发明的盖底层13的内侧边缘亦位于所述遮蔽层11的外表面内侧位置，即盖底层13的内侧边缘向所述遮蔽层11外表面内侧缩进而在遮蔽层11的边缘处形成间距；在制作盖底层13时，由于盖底层13的内侧边缘位于遮蔽层11的外表面内侧位置，且盖底层13与遮蔽层11的内侧边缘存在间距，因此，即使盖底层13的产生相应的材料残留，该材料残留也会位于遮蔽层11的内侧，而不会通过透明基板I而显露于外，进而确保产品品质。
[0025]另外，由于遮蔽层11内侧边缘处的边缘厚度较薄，如采用光密度较低的材料制作遮蔽层11时，遮蔽层11内侧边缘处的遮蔽性能较差，很容易发生漏光现象，为避免该不良现象，本发明在所述遮蔽层11的内侧边缘处设置遮蔽增强层14，该遮蔽增强层14的材料的光密度大于遮蔽层11材料的光密度；所述遮蔽增强层14环绕所述遮蔽层11的内侧周边设置，且遮蔽增强层14的一部分位于遮蔽层11与所述透明基板I之间，而另一部分从所述遮蔽层11的内侧边缘伸出；为避免制作盖底层13而产生的相应材料残留而在遮蔽层11内侧边缘处显露于外，所述盖底层13的内侧边缘位于所述遮蔽增强层14的外表面内侧位置，且所述盖底层13的内侧边缘与所述遮蔽增强层14的内侧边缘亦存在间距。
[0026]由以上结构可以看出，由于本发明的遮蔽层11的外表面覆盖有光密度相对较大的盖底层13，遮蔽层11的内侧边缘处设置有光密度相对较大的遮蔽增强层14，在该盖底层13和遮蔽增强层14的作用下，遮蔽层11以及遮蔽层11的内侧边缘处均不会产生漏光现象；另外，由于盖底层13的内侧边缘位于所述遮蔽增强层14的外表面内侧位置，该结构也可避免在制作该盖底层13时，因盖底层13所产生的材料残留使触摸屏的可视区12受到侵蚀的现象。
[0027]作为本发明的实施例，本发明的遮蔽增强层14的厚度为1_3μπι，宽度为300-500 μ m;且使位于所述遮蔽层11与所述透明基板I之间的遮蔽增强层14的宽度为90-200 μ m。为使本发明的效果达到最优，作为本发明的优选方案，所述遮蔽增强层14的宽度优选为350-450 μ m，且位于所述遮蔽层11与所述透明基板I的遮蔽增强层14的宽度优选为 110-180 μ m。
[0028]此外，为防止在二次强化时，氢氟酸渗透至透明基板I的侧边而对本发明的透明基板I造成侧蚀现象，本发明的遮蔽层11设置在透明基板I的内部，也就是说，遮蔽层11的外侧边缘相对透明基板I的外侧边缘向透明基板I的内部缩进一定距离，使所述遮蔽层11的外侧边缘与所述透明基板I的周围侧边存在间距，该间距优选为350-450 μ m ;由于该间距的存在，在对触摸屏进行二次强化而在透明基板I上贴附抗酸膜时，抗酸膜在该间距处与所述透明基板I贴附的比较紧凑，进而可防止氢氟酸渗透至透明基板I的侧边而对透明基板I造成侧蚀现象。
[0029]同时，在对触摸屏进行二次强化后，为防止光线从透明基板的侧边间距处漏出，本发明在遮蔽层11的外侧边缘和外侧边缘与透明基板的间距处设置有填充层15，同时，在盖底层13的外侧边缘相对遮蔽层11的外侧边缘向遮蔽层11内部缩进而形成的间距处亦覆盖该填充层15，该填充层15光密度小于所述盖底层13的材料的光密度，填充层15的厚度优选大于或等于遮蔽层11的厚度，而小于等于遮蔽层11与盖底层13的厚度之和。
[0030]参见图5和图6，作为对本发明上述实施例中的遮蔽层11的进一步细化，作为示例，图5和图6中所示出的遮蔽层11为三层结构，且所述遮蔽层11的各层的内侧边缘至所述透明基板I的周边的距离逐层缩减，进而使所述遮蔽层11各层之间从下到上形成层阶式结构。另外，为了保证遮蔽层11遮蔽效果，本发明的遮蔽层11各层的外侧边缘至所述透明基板I的周边的距离优选为等距离设置。遮蔽增强层14位于所述遮蔽层11的最下层位置且所述遮蔽增强层14的内侧边从所述遮蔽层11最下层的内侧边缘处伸出。
[0031]采用该层阶式结构设置的遮蔽层11，由于遮蔽层11各层的内侧边缘与所述透明基板I的周边的距离逐层缩减，在该种结构形式的遮蔽层11上设置线路层时，由于各层之间的坡度平缓上升，可避免在遮蔽层11上或盖底层13上设置线路时产生断线现象，进而使产品良率得到提高。另外，遮蔽增强层14位于所述遮蔽层11的最下层位置，也可确保在遮蔽层11的内侧边缘处不会产生漏光现象。
[0032]显而易见的是，本发明中的遮蔽层11亦可设置为其它数目的多层结构，同样的，多层结构形式下的遮蔽层11，其各层的内侧边缘至所述透明基板I的周边的距离亦逐层缩减，亦在所述遮蔽层11各层之间从下到上形成层阶式结构，同时，确保所述遮蔽增强层14位于所述遮蔽层11的最下层位置，且使所述遮蔽增强层14的内侧边从所述遮蔽层11最下层的内侧边缘处伸出。该种结构形式的遮蔽层11和遮蔽增强层14结构，可防止在遮蔽层11上布线时，线路层产生断线现象；同时，遮蔽增强层14结构可确保在遮蔽层11的内侧边缘处不会产生漏光现象。
【权利要求】
1.一种单片式电容触摸屏，包括透明基板以及环绕所述透明基板周边设置的遮蔽层，所述遮蔽层的内表面与所述透明基板相连，其特征在于，在所述遮蔽层的外表面形成有光密度大于所述遮蔽层光密度的盖底层，所述遮蔽层的外侧边缘距所述透明基板的周围侧边存在间距，在靠近所述遮蔽层的内侧边缘位置设置有光密度大于遮蔽层光密度的遮蔽增强层，所述遮蔽增强层环绕所述遮蔽层的内侧周边设置，且所述遮蔽增强层的一部分位于遮蔽层与所述透明基板之间，而另一部分从所述遮蔽层的内侧边缘处伸出。
2.如权利要求1所述的单片式电容触摸屏，其特征在于，在所述遮蔽层的外侧边缘与透明基板的间距处设置有光密度低于所述盖底层的填充层，所述填充层的厚度大于等于所述遮蔽层而小于等于遮蔽层与盖底层的厚度之和。
3.如权利要求2所述的单片式电容触摸屏，其特征在于，所述盖底层的外侧边缘向所述遮蔽层外表面内侧缩进而在遮蔽层的边缘处形成间距，所述填充层覆盖该间距；所述盖底层的内侧边缘位于所述遮蔽增强层的外表面内侧且所述盖底层的内侧边缘与所述遮蔽增强层的内侧边缘亦存在间距。
4.如权利要求3所述的单片式电容触摸屏，其特征在于，所述遮蔽层为多层结构，且所述遮蔽层的各层的内侧边缘到所述透明基板的周边的距离逐层缩减，所述遮蔽增强层位于所述遮蔽层的最下层且所述遮蔽增强层的内侧边从所述遮蔽层最下层的内侧边缘处伸出。
5.如权利要求4所述的单片式电容触摸屏，其特征在于，所述遮蔽层各层的外侧边缘至所述透明基板的周边的距离相等。
6.如权利要求1至5任一项所述的单片式电容触摸屏，其特征在于，所述遮蔽增强层的厚度为1-3 μ m，宽度为300-500 μ m;且位于所述遮蔽层与所述透明基板之间的遮蔽增强层的宽度为90-200 μ m。
7.如权利要求6所述的单片式电容触摸屏，其特征在于，所述遮蔽增强层的宽度为350-450 μ m,且位于所述遮蔽层与所述透明基板的遮蔽增强层的宽度为110-180 μ m。
8.如权利要求7所述的单片式电容触摸屏，其特征在于，所述遮蔽层的外侧边缘与所述透明基板的周围侧边的间距为350-450 μ m，所述盖底层的外侧边缘与所述遮蔽层的外侧边缘的间距为150-300 μ m。
【文档编号】G06F3/044GK104461199SQ201410728409
【公开日】2015年3月25日 申请日期:2014年12月3日 优先权日:2014年12月3日
【发明者】胡峰, 袁天下, 赖正宪 申请人:伯恩光学(惠州)有限公司