1.一种集成电路IC，包括按照至少第一和第二高度的行对齐的单元的实体的块；
其中所述单元的实体选自标准单元的至少第一和第二库，所述标准单元的第一和第二库根据所述单元的实体的性能标准分别具有所述第一和第二高度的整数倍的高度；和
其中从所述第一和第二库中选择的标准单元分别按照所述第一和第二高度的行对齐。
2.根据权利要求1所述的IC，其中所述第一和第二高度的行的各自数目对应于总宽度的比率，所述比率是针对所述块中的单元的实体布置分别从所述第一和第二库选择的标准单元所需要的。
3.一种使用电子设计自动化EDA工具的集成电路IC的块的物理设计的方法，其中所述EDA工具包括处理器和耦合到所述处理器的存储器，所述方法包括：
在所述存储器中提供具有所述IC块的单元的实体的硬件描述的寄存器传输级RTL设计，以及提供标准单元的至少第一和第二库，所述第一和第二库分别具有单元的行的不同的第一和第二高度的整数倍的高度；
综合工具根据所述单元的实体的性能标准为所述RTL设计中的单元的实体从不同的库选择标准单元；和
布置工具将从所述第一和第二库选择的标准单元分别按照所述第一和第二高度的行对齐。
4.根据权利要求3的方法，其中所述综合工具估计第一高度的行的总宽度与第二高度的行的总宽度的比率，所述比率是针对块中的所述单元的实体布置分别从所述第一和第二库选择的标准单元所需要的，以及根据所述比率提供所述第一和第二高度的行的各自的数目。
5.一种非暂态计算机可读存储介质，其存储用于包括处理器和耦合到所述处理器的存储器的电子设计自动化EDA工具的指令，其中当执行所述指令时，导致所述EDA工具执行来自于寄存器传输级RTL设计和来自于标准单元的至少第一和第二库的集成电路IC的块的物理设计的方法，其中所述RTL设计具有所述IC块的单元的实体的硬件描述，所述第一和第二库分别具有单元的行的第一和第二高度的整数倍的高度，所述RTL设计和所述标准单元的库被提供在所述存储器中，该方法包括：
综合工具根据所述单元的实体的性能标准为所述RTL设计中的所述单元的实体从不同的库选择标准单元；和
布置工具将从所述第一和第二库选择的标准单元分别按照第一和第二高度的行对齐。
6.根据权利要求5的非暂态计算机可读存储介质，其中所述综合工具估计所述第一高度的行的总宽度与所述第二高度的行的总宽度的比率，所述比率是针对块中的所述单元的实体布置分别从第一和第二库选择的标准单元所需要的，以及根据所述比率提供所述第一和第二高度的行的各自的数目。