1.一种感应膜的制作过程，所述感应膜包括导电网格(50)，其特征在于，所述制作过程包括：
步骤S1，在基底(10)上设置至少一个具有第一图案的绝缘层(20)；
步骤S2，在所述绝缘层(20)的裸露表面上以及所述基底(10)的裸露表面上设置光阻层(30)；
步骤S3，采用具有第二图案的光罩(40)对所述光阻层(30)进行图案化，使得部分所述基底(10)裸露，形成具有所述第二图案的所述光阻层(30)，所述第一图案的部分与所述第二图案的部分重叠；
步骤S4，在裸露的所述基底(10)的表面上设置导电材料，形成所述导电网格(50)；以及
步骤S5，去除所述绝缘层(20)和图案化的所述光阻层(30)。
2.根据权利要求1所述的制作过程，其特征在于，所述光阻层(30)为正性光阻层。
3.根据权利要求1所述的制作过程，其特征在于，所述光阻层(30)的厚度大于所述绝缘层(20)的厚度。
4.根据权利要求2所述的制作过程，其特征在于，所述步骤S3包括：
在所述光阻层(30)的远离所述绝缘层(20)的表面上罩设所述光罩(40)，所述光罩(40)包括遮光部(41)与透光部(42)；
对罩设有所述光罩(40)的所述光阻层(30)进行曝光；以及
对曝光后的所述光阻层(30)进行显影，使得所述透光部(42)下方对应区域的所述光阻层(30)被去除，形成具有所述第二图案的所述光阻层(30)。
5.根据权利要求1所述的制作过程，其特征在于，所述导电材料为金属，所述基底(10)包括导电基底(12)，所述绝缘层(20)设置在所述导电基底(12)的表面上，在所述步骤S4中，采用电镀的方式设置所述导电材料。
6.根据权利要求5所述的制作过程，其特征在于，所述基底(10)还包括衬底(11)，所述导电基底(12)设置在所述衬底(11)的表面上，所述绝缘层(20)设置在所述导电基底(12)的远离所述衬底(11)的表面上。
7.根据权利要求5所述的制作过程，其特征在于，在所述步骤S5之后，所述制作过程还包括：
去除所述基底(10)的步骤。
8.根据权利要求1所述的制作过程，其特征在于，在所述步骤S5之后，所述制作过程还包括：
在所述导电网格(50)以及所述基底(10)的裸露表面上设置绝缘固定层。
9.根据权利要求1所述的制作过程，其特征在于，在所述步骤S4中，形成所述导电网格(50)的同时还形成了包括多个边框引线的边框引线区(70)。
10.一种触摸屏的制作方法，包括感应膜的制作过程，其特征在于，所述制作过程为权利要求1至9中任一项所述的制作过程。