触控显示装置及其形成方法与流程

1.本揭示内容涉及触控显示装置及其形成方法。


背景技术：

2.近年来随着触控显示装置技术的蓬勃发展，触控显示装置已被广泛地运用于各类电子装置中。电极线路主要是以黄光制程，透过湿式蚀刻处理，图案化电极线路。
3.然而，湿式蚀刻处理过程中，需要大量的光罩，并且需使用多种反应溶剂(例如显影液以及蚀刻液等)，步骤复杂，成本高，现有技术实有待改善的必要。
4.中国台湾tw i521417b号专利，教示在双面电极结构，可以将透明阻挡层设置于透明基板的第一表面上，再于透明阻挡层以及透明基板的另一表面上形成导电膜，透明阻挡层的设置，可以避免激光蚀刻任一表面上的导电膜时，损伤另一表面上导电膜。
5.中国cn 105073334b号专利，教示将激光脉冲长度以及波长调整于适当范围，使导电材料可吸收激光的能量，以避免利用激光蚀刻导电材料形成电极线路时，损伤电极线路。
6.如何提供一种适用于单面电极结构的触控显示装置及其形成方法，可以激光蚀刻取代湿式蚀刻电极线路，无须限制激光脉冲长度以及波长，即可避免激光损伤单面电极结构中的元件，是所欲解决的问题。


技术实现要素：

7.本揭示内容的一些实施方式提供一种触控显示装置，包含透明盖板、图案化触控感测膜层、遮光层以及紫外光阻挡层。透明盖板包含第一表面以及相对于第一表面的第二表面。图案化触控感测膜层覆盖于透明盖板的第一表面上。遮光层设置于透明盖板的部分第一表面上，并且位于透明盖板以及图案化触控感测膜层之间，其中遮光层沿垂直方向投影于透明盖板上的区域，定义出周边区，并且将透明盖板上相邻于周边区的其他区域，定义为可视区。紫外光阻挡层阻隔紫外光照射遮光层，其中紫外光阻挡层位于遮光层以及图案化触控感测膜层之间，并且覆盖遮光层。
8.在一些实施方式中，紫外光阻挡层覆盖于遮光层上，延伸覆盖可视区中的第一表面，并且紫外光阻挡层为透明阻挡层。
9.在一些实施方式中，紫外光阻挡层仅覆盖于遮光层上。
10.在一些实施方式中，还包含周边走线，设置于图案化触控感测膜层上，其中周边走线沿垂直方向上投影于透明盖板的位置，是位于周边区中。
11.在一些实施方式中，还包含透明绝缘层，其中透明绝缘层的第一部分设置于周边走线上，透明绝缘层的第二部分设置于可视区上的图案化触控感测膜层上。
12.在一些实施方式中，还包含桥接线，设置于透明绝缘层的第二部分上。
13.在一些实施方式中，还包含桥接线，设置于透明盖板上的可视区中，并且紫外光阻挡层包覆桥接线，其中紫外光阻挡层为透明绝缘层。
14.在一些实施方式中，图案化触控感测膜层覆盖紫外光阻挡层，并且延伸覆盖部分
第一表面，以分隔桥接线上的紫外光阻挡层与遮光层上的紫外光阻挡层。
15.在一些实施方式中，还包含周边走线，设置于图案化触控感测膜层上，其中周边走线在垂直方向上投影于透明盖板的位置，是位于周边区中。
16.在一些实施方式中，还包含保护层，设置于图案化触控感测膜层上。
17.在一些实施方式中，紫外光阻挡层的材料为油墨或光阻。
18.本揭示内容的一些实施方式提供一种形成触控显示装置的方法，包含：提供透明盖板，包含第一表面以及相对于第一表面的第二表面；覆盖遮光层于透明盖板的部分第一表面上，其中遮光层沿垂直方向投影于透明盖板上的区域，定义出周边区，并且将透明盖板上相邻于周边区的其他区域，定义为可视区；覆盖紫外光阻挡层于遮光层上；形成触控感测膜层于该紫外光阻挡层上；以及使用激光，蚀刻触控感测膜层为图案化触控感测膜层。
19.在一些实施方式中，覆盖紫外光阻挡层于遮光层上的步骤中，紫外光阻挡层覆盖于遮光层上，并且延伸覆盖可视区中的第一表面，并且紫外光阻挡层为透明材料。
20.在一些实施方式中，覆盖紫外光阻挡层于遮光层上的步骤中，紫外光阻挡层仅覆盖于遮光层上。
21.在一些实施方式中，在覆盖遮光层于透明盖板的第一表面上的步骤之后，还包含设置桥接线于透明盖板上的该可视区中；以及在覆盖紫外光阻挡层于遮光层上的步骤中，还包含将紫外光阻挡层包覆桥接线，其中紫外光阻挡层为透明绝缘材料。
附图说明
22.通过阅读以下参考附图对实施方式的详细描述，可以更完整地理解本揭示内容。
23.图1a至图1h示例性地描述根据本揭示内容的一些实施方式中制造触控显示装置的各制程阶段的剖面示意图；
24.图1i示例性地描述根据本揭示内容的一些实施方式中的触控显示装置的上视图；
25.图2a至图2f示例性地描述根据本揭示内容的另一些实施方式中制造触控显示装置的各制程阶段的剖面示意图；以及
26.图3a至图3f示例性地描述根据本揭示内容的另一些实施方式中制造触控显示装置的各制程阶段的剖面示意图。
27.【符号说明】
28.100、200、300:触控显示装置
29.110、210、310:透明盖板
30.112、212、312:第一表面
31.114、214、314:第二表面
32.120、220、320:遮光层
33.130、230、330:紫外光阻挡层
34.140、240、340:图案化触控感测膜层
35.142:横向电极线
36.144:纵向电极线
37.150、250、350:周边走线
38.160、260:透明绝缘层
39.162、262:第一部分
40.164、264:第二部分
41.170、270、370:桥接线
42.180、280、380:保护层
43.va:可视区
44.pa:周边区
45.x:x轴
46.y:y轴
47.z:z轴
具体实施方式
48.可以理解的是，下述内容提供的不同实施方式或实施例可实施本揭露的标的不同特征。特定构件与排列的实施例是用以简化本揭露而非局限本揭露。当然，这些仅是实施例，并且不旨在限制。举例来说，以下所述的第一特征形成于第二特征上的叙述包含两者直接接触，或两者之间隔有其他额外特征而非直接接触。此外，本揭露在多个实施例中可重复参考数字及/或符号。这样的重复是为了简化和清楚，而并不代表所讨论的各实施例及/或配置之间的关系。
49.本说明书中所用的术语一般在本领域以及所使用的上下文中具有通常性的意义。本说明书中所使用的实施例，包括本文中所讨论的任何术语的例子仅是说明性的，而不限制本揭示内容或任何示例性术语的范围和意义。同样地，本揭示内容不限于本说明书中所提供的一些实施方式。
50.另外，空间相对用语，如“下”、“上”等，是用以方便描述一元件或特征与其他元件或特征在附图中的相对关系。这些空间相对用语旨在包含除了附图中所示的方位以外，装置在使用或操作时的不同方位。装置可被另外定位(例如旋转90度或其他方位)，而本文所使用的空间相对叙述亦可相对应地进行解释。
51.于本文中，除非内文中对于冠词有所特别限定，否则“一”与“该”可泛指单一个或多个。将进一步理解的是，本文中所使用的“包含”、“包括”、“具有”及相似词汇，指明其所记载的特征、区域、整数、步骤、操作、元件与/或组件，但不排除其它的特征、区域、整数、步骤、操作、元件、组件，与/或其中的群组。
52.将理解的是，尽管本文可以使用术语第一、第二等来描述各种元件，但是这些元件不应受到这些术语的限制。这些术语用于区分一个元件和另一个元件。举例来说，在不脱离本实施方式的范围的情况下，第一元件可以被称为第二元件，并且类似地，第二元件可以被称为第一元件。
53.于本文中，术语“和/或”包含一个或多个相关联的所列项目的任何和所有组合。
54.以下列举数个实施方式以更详尽阐述本发明的触碰装置，然其仅为例示说明之用，并非用以限定本发明，本发明的保护范围当以所附的权利要求书所界定的范围为准。
55.图1a至图1h示例性地描述根据本揭示内容的一些实施方式中制造触控显示装置100的各制程阶段的剖面示意图。
56.首先，请见图1a，提供透明盖板110，包含第一表面112以及相对于第一表面112的
第二表面114。
57.在一些实施方式中，透明盖板110可以为透明无机基材(举例而言玻璃基材)或是透明有机基材。透明有机基材可以是塑胶基材，例如聚甲基丙烯酸甲酯(poly(methylmethacrylate)；pmma)、聚乙烯(polyethylene；pe)、聚氯乙烯(polyvinyl chloride；pvc)、聚丙烯(polypropylene；pp)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate；pet)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylene naphthalate；pen)、聚碳酸酯(polycarbonate；pc)、聚苯乙烯(polystyrene；ps)、聚酰亚胺(polyimide；pi)、环烯烃聚合物(cyclo-olefin polymers；cop)等透明材料。
58.在一些实施方式中，透明盖板110的厚度小于2毫米，例如0.3毫米至1.1毫米之间，举例而言可以为0.3毫米、0.4毫米、0.5毫米、0.6毫米、0.7毫米、0.8毫米、0.9毫米、1.0毫米、或1.1毫米。
59.接着，请见图1b，设置遮光层120于透明盖板110的部分第一表面112上，其中遮光层120沿z轴方向(垂直方向)投影于透明盖板110上的区域，定义出周边区pa，并且将透明盖板110上相邻于周边区pa的其他区域，定义为可视区va。在一些实施方式中，遮光层120可以由涂布或是印刷不透光油墨(例如黑色油墨或白色油墨等)所形成，或是可以为不透光光阻。
60.在一些实施方式中，遮光层120的厚度小于30微米，例如1微米至20微米之间，举例而言可以为1毫米、2毫米、3毫米、4毫米、5毫米、6毫米、7毫米、8毫米、9毫米、10毫米、11毫米、12毫米、13毫米、14毫米、15毫米、16毫米、17毫米、18毫米、19毫米、20毫米、及前述任意区间中的数值。
61.接着，请见图1c，覆盖紫外光阻挡层130于遮光层120上，并且延伸覆盖可视区va中的第一表面112。也就是，紫外光阻挡层130沿z轴方向(垂直方向)上投影于透明盖板110的位置，覆盖遮光层120与透明盖板110的第一表面112。需注意的是，紫外光阻挡层130需为透明材料(透明阻挡层)，并且可以阻隔紫外光(波长为355纳米至365纳米)，避免紫外光损伤紫外光阻挡层130所覆盖的元件(例如遮光层120)。在一些实施方式中，紫外光阻挡层130可以阻隔90％以上的紫外光，例如91％、92％、93％、94％、95％、96％、97％、98％、99％、或100％的紫外光。在一些实施方式中，可以透过涂布或是印刷透明油墨或是透明光阻(例如聚酰亚胺)，形成紫外光阻挡层130。
62.在一些实施方式中，紫外光阻挡层130可以完全覆盖可视区va中的第一表面112，也可以部分覆盖可视区va中第一表面112。
63.在一些实施方式中，紫外光阻挡层130的厚度小于30微米，例如0.1微米至8微米之间，举例而言可以为0.1微米、0.2微米、0.3微米、0.4微米、0.5微米、0.6微米、0.7微米、0.8微米、0.9微米、1微米、2微米、3微米、4微米、5毫米、6毫米、7毫米、8毫米、及前述任意区间中的数值。
64.接着，请见图1d，形成图案化触控感测膜层140于紫外光阻挡层130上。在一些实施方式中，形成图案化触控感测膜层140于紫外光阻挡层130上的步骤，是先将触控感测膜层印刷或涂布(例如网版印刷、喷头涂布、滚轮涂布等工艺)于紫外光阻挡层130上；接着，使用波长为355纳米至365纳米的紫外光激光，将触控感测膜层蚀刻为图案化触控感测膜层140。在一些实施方式中，触控感测膜层由透明导电材料制成，例如氧化铟锡(ito)、氧化铟锌
(izo)、纳米碳管(carbon nanotube；cnt)、纳米银(nano silver)等。
65.在一些实施方式中，图案化触控感测膜层140包含由透明导电材料形成的金属纳米线。以下说明由金属纳米线形成触控感测膜层的具体作法，包含：将具有金属纳米线的分散液或浆料(ink)以涂布方法成型于紫外光阻挡层130上，并加以干燥成型。在分散液或浆料中的溶剂等物质被挥发后，金属纳米线以随机的方式分布并固着于紫外光阻挡层130表面，形成触控感测膜层，并且金属纳米线彼此接触，提供连续电流路径，进而形成一导电网络(conductive network)。在一些实施方式中，分散液可为水、醇、酮、醚、烃或芳族溶剂(苯、甲苯、二甲苯等等)。在一实施方式中，分散液亦可包含添加剂、界面活性剂或粘合剂，例如羧甲基纤维素(carboxymethyl cellulose；cmc)、2-羟乙基纤维素(hydroxyethyl cellulose；hec)、羟基丙基甲基纤维素(hydroxypropyl methylcellulose；hpmc)、磺酸酯、硫酸酯、二磺酸盐、磺基琥珀酸酯、磷酸酯或含氟界面活性剂等。
66.应注意的是，本文所用的“金属纳米线(metal nanowires)”是为一集合名词，其指包含多个元素金属、金属合金或金属化合物(包括金属氧化物)的金属线的集合。且单一金属纳米线的至少一个截面尺寸(即截面的直径)小于约500纳米，较佳小于约100纳米，且更佳小于约50纳米。在一些实施方式中，“线(wire)”的金属纳米结构，主要具有高的纵横比，例如介于约10至100,000之间。详细而言，金属纳米线的纵横比(长度：截面的直径)可大于约10，例如大于约50、或大于约100，但不限于此。在一些实施方式中，金属纳米线可以为任何金属，包括(但不限于)银、金、铜、镍及镀金的银。而其他用语，诸如丝(silk)、纤维(fiber)、管(tube)等若同样具有上述的尺寸及高纵横比，亦为本揭示内容的实施方式中所涵盖的范畴。
67.在一些实施方式中，图案化触控感测膜层140的厚度小于3微米，例如0.1微米至1微米之间，举例而言可以为0.1毫米、0.2毫米、0.3毫米、0.4毫米、0.5毫米、0.6毫米、0.7毫米、0.8毫米、0.9毫米、或1.0毫米。
68.接着，请见图1e，在周边区pa的图案化触控感测膜层140上，形成周边走线150。即，周边走线150沿z轴方向(垂直方向)上投影于透明盖板110的位置，位于周边区pa中。
69.在一些实施方式中，可以使用类似于图案化触控感测膜层140的材料或是形成方法(例如网版印刷、喷头涂布、滚轮涂布等工艺)，形成周边走线150。
70.在一些实施方式中，也可以透过无电镀的方式，经由催化层的催化，形成周边走线层，接着，再激光周边走线层为周边走线150。具体而言，先在周边区pa的图案化触控感测膜层140上，形成催化层；接着，在无外加电流的情况下借助合适的还原剂，施加镀液于催化层上，使镀液中的金属离子在催化层的金属触媒催化下，经过还原反应，还原成金属并镀覆(或称沉积)于催化层表面，此过程也称为无电镀(electroless plating)或自身催化镀(autocatalytic plating)。举例而言，若欲以铜构成周边走线150，则镀液的主成分可选择硫酸铜溶液，其组成可包含但不限于：浓度为5克/公升的硫酸铜(copper sulfate)，浓度为12克/公升的乙二胺四乙酸(ethylenediaminetetraacetic acid)，浓度为5克/公升的甲醛(formaldehyde)，无电镀铜镀液的ph以氢氧化钠(sodium hydroxide)调整为约11至13，镀浴温度为约30℃至50℃，浸泡的反应时间为5至15分钟。在反应过程中，镀液中的铜可在具有催化/活化能力的催化层上成核，而后靠铜的自我催化继续成长为铜膜(即，周边走线150)。本领域技术人员可依所欲取得的周边走线150的材质，选择搭配适当的镀液以及催化
层材料。在一些实施方式中，周边走线150以导电性较佳的金属所构成，例如单层金属结构，例如银层、铜层等；或为多层合金形态的导电结构，例如钼/铝/钼、铜/镍、钛/铝/钛、钼/铬等。
71.在另一实施例中，为了提高周边走线150的厚度，可加入一增厚步骤，如电镀制程，其电镀液组成可包含但不限于：浓度为200克/公升的硫酸铜(copper sulfate)，浓度为80g/l的硫酸(sulfuric acid)，浓度为50毫克/公升的氯离子(chloride ion)，ph调整为约3至5，电流密度为约1～10a/dm2，镀浴温度为约25至45℃。而上述无电镀制程与电镀制程的顺序可依实际的需求调整，并不以本文为限，例如先电镀制程，再接着无电镀制程，或是先无电镀制程，再接着电镀，当然亦可仅使用电镀制程或是无电镀制程。在另一些实施例中，增厚步骤可为另一个无电镀制程，例如利用组成不同于上述镀液的其他镀液进行无电镀铜制程，以提高周边走线的厚度。
72.在一些实施方式中，也可以依序先形成触控感测膜层以及周边走线层，再透过激光蚀刻，同时形成图案化触控感测膜层140以及周边走线150。
73.在一些实施方式中，周边走线150的厚度小于20微米，例如0.01微米至1微米之间，举例而言可以为0.01微米、0.05微米、0.1微米、0.2微米、0.3微米、0.4微米、0.5微米、0.6微米、0.7微米、0.8微米、0.9微米、1.0微米、或1.1微米。
74.值得注意的是，透过将紫外光阻挡层130覆盖于遮光层120上，可以在激光蚀刻形成图案化触控感测膜层140(及周边走线150)时，避免紫外光损伤遮光层120，解决激光蚀刻电极线路(图案化触控感测膜层140)时损伤遮光层120的问题。因此，透过紫外光阻挡层130的设置，可以在单面电极结构中，实现以激光蚀刻取代湿式蚀刻的步骤改良，简化图案化触控感测膜层140(及周边走线150)的形成步骤、节省反应溶剂的使用，并且降低成本。
75.接着，请见图1f，形成透明绝缘层160于图案化触控感测膜层140上，其中透明绝缘层160的第一部分162设置于周边走线150上，并且延伸覆盖周边走线150的侧面，透明绝缘层160的第二部分164设置于可视区va中透明盖板110的第一表面112上。在一些实施方式中，透明绝缘层160可以由二氧化硅或光阻(例如聚亚酰胺)等绝缘材料所组成。在一些实施方式中，透明绝缘层160为光阻，可经由曝光处理，对应周边走线150以及后续的桥接线170(请参图1g以及图1h)的位置，形成特定的图案。
76.在一些实施方式中，透明绝缘层160的厚度小于15微米，例如0.5微米至8微米之间，举例而言可以为0.5微米、0.6微米、0.7微米、0.8微米、0.9微米、1微米、2微米、3微米、4微米、5毫米、6毫米、7毫米、8毫米、及前述任意区间中的数值。
77.接着，请见图1g，形成桥接线170(jumper)于透明绝缘层160的第二部分164上(关于桥接线170的功能以及位置，请辅助参阅图1i)。
78.在一些实施方式中，桥接线170可以使用与图案化触控感测膜层140相同或是相似的材料形成，于此不另赘述。然而，需注意的是，在形成桥接线170的步骤中，需避免使用激光处理，原因在于，在形成桥接线170时，图案化触控感测膜层140的部分为裸露状态，若尝试使用激光，将桥接线材料激光为桥接线170，则存在着损伤下方图案化触控感测膜层140的风险。
79.在一些实施方式中，桥接线170的厚度小于15微米，例如0.01微米至1微米之间。举例而言可以为0.1微米、0.2微米、0.3微米、0.4微米、0.5微米、0.6微米、0.7微米、0.8微米、
0.9微米、1微米、及前述任意区间中的数值。
80.接着，请见图1h，设置保护层180于透明绝缘层162、桥接线170以及图案化触控感测膜层140上，形成触控显示装置100。
81.在一些实施方式中，保护层180为绝缘材料，可以透过印刷的方法形成。
82.在一些实施方式中，保护层180的厚度小于15微米，例如0.5微米至10微米之间。举例而言可以为0.5微米、0.6微米、0.7微米、0.8微米、0.9微米、1微米、2微米、3微米、4微米、5毫米、6毫米、7毫米、8毫米、9毫米、10毫米及前述任意区间中的数值。
83.图1i示例性地描述根据本揭示内容的一些实施方式中的触控显示装置100的上视图。图1i例示触控显示装置100中的图案化触控感测膜层140、周边走线150、以及桥接线170的相对位置。图案化触控感测膜层140包含多条横向电极线142(往x轴方向延伸)与多条纵向电极线144(往y轴方向延伸)，每一条横向电极线142与每一条纵向电极线144皆分别由多个电极单元连接而成。桥接线170，连接横向电极线142，并且使用透明绝缘层(图未示)来防止横向电极线142与纵向电极线144接触。
84.图2a至图2f示例性地描述根据本揭示内容的一些实施方式中制造触控显示装置200的各制程阶段的示意图。图2a至图2f与图1c至图1h的步骤以及材料大致上相似，差异在于，图2a中的紫外光阻挡层230仅覆盖于遮光层220上，并且紫外光阻挡层230不限于透明材料。
85.请见图2a。首先，经由与前述图1a以及图1b相同或相似的材料以及步骤，包含依序形成透明盖板210以及设置于透明盖板210的第一表面212上的遮光层220，其中遮光层220定义出可视区va以及周边区pa。接着，设置紫外光阻挡层230于遮光层220上，其中紫外光阻挡层230仅覆盖于遮光层220上，不会延伸至可视区va。也就是，紫外光阻挡层230沿z轴方向(垂直方向)上投影于透明盖板210的位置，覆盖遮光层220，并且紫外光阻挡层230的投影区域均位于周边区pa中。可以了解的是，由于紫外光阻挡层230并不会暴露于可视区va中，因此紫外光阻挡层230可以使用透明或是不透明的材料，例如透明油墨、灰色油墨、透明光阻(例如聚酰亚胺)、或是不透明光阻。
86.接着，请见图2b，形成图案化触控感测膜层240于紫外光阻挡层230以及可视区va的透明盖板210的第一表面212上。也就是，相对于图1d的图案化触控感测膜层140，其中图案化触控感测膜层140覆盖并直接接触可视区va以及周边区pa的紫外光阻挡层130，图2b的图案化触控感测膜层240则是覆盖并直接接触紫外光阻挡层230(周边区pa)以及透明盖板210的第一表面212(可视区va)。
87.图2c、图2d、图2e、以及图2f中的步骤以及材料，可以分别与图1e、图1f、图1g、以及图1h相同或是类似，最后，在图2f中形成触控显示装置200。
88.图3a至图3f示例性地描述根据本揭示内容的一些实施方式中制造触控显示装置300的各制程阶段的示意图。图3a至图3f与图1b至图1h的材料以及元件相对位置大致上相似，差异在于，图3a至图3f是先在可视区va的透明盖板310的第一表面312上形成桥接线370，接着使用透明绝缘材料所制成的紫外光阻挡层330，包覆桥接线370以及遮光层320(即，覆盖桥接线370以及遮光层320上方，并且延伸覆盖至桥接线370以及遮光层320的侧面)，再接续形成图案化触控感测膜层340。图1b至图1h的设置则是先形成图案化触控感测膜层140，再于图案化触控感测膜层140上依序形成透明绝缘层160以及桥接线170，并透过
透明绝缘层160隔绝图案化触控感测膜层140以及桥接线170的相交。
89.也就是，图3a至图3f所形成的触控显示装置300中，紫外光阻挡层330不仅可用于阻隔紫外光，并且同时具有图1h中的透明绝缘层160的隔离图案化触控感测膜层140以及桥接线170的功效，并且桥接线370在z轴方向(垂直方向)上，位于图案化触控感测膜层340的下方或与图案化触控感测膜层340共平面，而非如图1h中的触控显示装置100的桥接线170，位于图案化触控感测膜层140的上方。
90.请见图3a，经由与前述图1a以及图1b相同或相似的材料以及步骤，依序形成透明盖板310以及设置于透明盖板310的第一表面312上的遮光层320，遮光层320定义出可视区va以及周边区pa。
91.接着，请见图3b，设置桥接线370于透明盖板310上的可视区va中。
92.接着，请见图3c，设置紫外光阻挡层330于遮光层320上，并且紫外光阻挡层330包覆桥接线370(即，覆盖桥接线370以及遮光层320上方，并且延伸覆盖至桥接线370以及遮光层320的侧面)，其中紫外光阻挡层330为透明绝缘材料。在一些实施方式中，基于紫外光阻挡层330需对应桥接线370的位置以及图案，形成以包覆桥接线370，因此，紫外光阻挡层330可以为光阻，并透过光罩的设计，调整紫外光阻挡层330的位置以及所形成的图案。在一实施方式中，可以先将光阻液涂布于遮光层320以及桥接线370上；接着，使用波长大于400纳米的光线(例如波长为405纳米或436纳米)中，曝光光阻液，使光阻液硬化，形成紫外光阻挡层330，阻挡紫外光的照射。可以了解的是，紫外光阻挡层330的材料，不仅是一般的光阻材料，并且具有曝光硬化后，可阻挡紫外光照射的性质。在一实施方式中，紫外光阻挡层330可以包含聚酰亚胺。
93.接着，请见图3d，形成图案化触控感测膜层340于紫外光阻挡层330以及透明盖板310的第一表面312上，其中图案化触控感测膜层340覆盖紫外光阻挡层330，并且延伸覆盖部分第一表面312，以分隔桥接线370上的紫外光阻挡层330与遮光层320上的紫外光阻挡层330。
94.接着，请见图3e，与图1e的步骤相似，在周边区pa的图案化触控感测膜层340上，形成周边走线350。
95.接着，请见图3f，设置保护层380于周边走线350以及图案化触控感测膜层340上，形成触控显示装置300。
96.在一些实施方式中，触控显示装置可以进一步与其他电子元件组装形成电子装置，包含但不限于移动装置(手机、平板计算机、或笔记型计算机)、装戴式装置(智能手表、智能眼镜、智能衣服、或智能鞋)，以及车用装置(仪表板、行车记录器、后视镜、车窗、车门)。
97.综上所述，本揭示内容的一些实施方式提供的触控显示装置及其形成方法，可在单面电极结构中，透过紫外光阻挡层的设置，避免激光损伤遮光层，实现以激光蚀刻取代已知的湿式蚀刻步骤的步骤改良，简化图案化触控感测膜层(即，电极线路(例如横向电极线以及纵向电极线))的形成步骤、节省反应溶剂的使用，并且降低成本。
98.尽管本揭示内容已根据某些实施方式具体描述细节，其他实施方式也是可行的。因此，所附权利要求的精神和范围不应限于本文所记载的实施方式。