同源图像的校验方法及装置的制造方法_6

文档序号:9579843阅读:来源:国知局
述第二图像上的所述第二特征的覆盖区域的第四面积; 若所述第一面积与所述第一图像的面积的比例符合第一预设面积阈值,所述第三面积与所述第一图像的面积的比例符合第二预设面积阈值,所述第二面积与所述第二图像的面积的比例符合所述第一预设面积阈值,以及所述第四面积与所述第二图像的面积的比例符合所述第二预设面积阈值,则确认所述匹配特征对为符合所述面积条件的特征对;否则,确认所述匹配特征对不符合所述面积条件,将所述匹配特征对从所述当前匹配特征集合中删除,得到所述过滤后的匹配特征集合。14.根据权利要求2所述的校验方法,其特征在于,从所述尚未被用于所述过滤处理的所述过滤条件中选择一个作为当前过滤条件包括: 使用预设图像样本对每个所述过滤条件进行过滤测试,获取测试结果,其中,所述测试结果包括过滤准确率、过滤覆盖度以及过滤速度; 使用所述过滤准确率、所述过滤覆盖度以及所述过滤速度对所述过滤条件排序得到条件序列; 按照所述条件序列确定所述过滤条件的执行顺序,按照所述执行顺序从所述尚未被用于所述过滤处理的所述过滤条件确定所述当前过滤条件。15.一种同源图像的校验装置,其特征在于,包括: 提取模块,用于提取第一图像的图像特征; 检索模块,用于在图像库中检索与所述图像特征相匹配的特征,得到匹配特征集合,其中,所述匹配特征集合包括至少一个匹配特征对,每个所述匹配特征对包括所述图像特征中匹配成功的第一特征和与所述第一特征相匹配的第二特征,所述匹配特征集合中的所述第二特征均为第二图像的特征; 过滤模块,用于使用预设特征校验条件对所述匹配特征集合中的所述匹配特征对进行过滤处理,得到过滤后的匹配特征集合,其中,所述预设特征校验条件包括至少两个预设的过滤条件; 图像确定模块,用于在所述过滤后的匹配特征集合中的匹配特征对的个数等于或大于预设匹配个数的情况下,确认所述第一图像与所述第二图像为同源图像。16.根据权利要求15所述的校验装置,其特征在于,当前匹配特征集合的初始值为所述匹配特征集合,其中,所述过滤模块包括: 循环执行模块,用于重复执行以下步骤,直到所述预设特征校验条件中的每一个所述过滤条件均已用于所述过滤处理,所述循环执行模块包括: 第一判断模块,用于判断所述预设特征校验条件中是否存在尚未被用于所述过滤处理的所述过滤条件; 条件选择模块,用于若存在尚未被用于所述过滤处理的所述过滤条件,则从所述尚未被用于所述过滤处理的所述过滤条件中选择一个作为当前过滤条件; 当前过滤模块,用于使用所述当前过滤条件对当前匹配特征集合中的所述匹配特征对进行过滤处理,得到过滤后的匹配特征集合,将所述过滤后的匹配特征集合作为当前匹配特征集合。17.根据权利要求16所述的校验装置,其特征在于,所述过滤条件包括:个数条件、仿射变换条件、距离条件、位置条件以及面积条件中的至少两个。18.根据权利要求16或17所述的校验装置,其特征在于,所述当前过滤条件为个数条件,其中,所述当前过滤模块包括: 第一获取模块,用于获取所述当前匹配特征集合中的匹配特征对的特征个数; 第一检测模块,用于检测所述特征个数是否符合预设特征个数; 第一处理模块,用于在所述特征个数不符合所述预设特征个数的情况下,将所述匹配特征对从所述当前匹配特征集合中删除,得到所述过滤后的匹配特征集合。19.根据权利要求16或17所述的校验装置,其特征在于,所述当前过滤条件为距离条件,其中,所述当前过滤模块包括: 第一计算模块,用于计算所述当前匹配特征集合中的每个匹配特征对的所述第一特征与所述第二特征之间的特征距离; 第二检测模块,用于检测所述特征距离是否符合预设距离参数; 第二处理模块,用于在所述特征距离不符合所述预设距离参数的情况下,将所述特征距离对应的所述匹配特征对从所述当前匹配特征集合中删除,得到所述过滤后的匹配特征 口 O20.根据权利要求19所述的校验装置,其特征在于,所述第二检测模块包括: 第一检测子模块,用于检测所述特征距离是否小于预设距离阈值;第一确定模块,用于在所述特征距离小于所述预设距离阈值的情况下,检测出所述特征距离符合所述预设距离参数;第二确定模块,用于在所述特征距离不小于所述预设距离阈值的情况下,检测出所述特征距离不符合所述预设距离参数;和/或 排序模块,用于按照所述特征距离的值的大小排序;第三确定模块,用于将排序为第k+Ι个及其第k+Ι之后的所述特征距离确定为不符合所述预设距离参数的特征距离,其中,k为大于I的自然数。21.根据权利要求16或17所述的校验装置,其特征在于,所述当前过滤条件为位置条件,其中,所述当前过滤模块包括: 第二计算模块,用于逐个计算所述当前匹配特征集合中的当前匹配特征对的方向的差值; 第一统计模块,用于在预定义窗口下统计所述差值的众数; 第三计算模块,用于计算每个所述差值与所述众数之差的绝对值; 第三处理模块,用于在所述绝对值大于或等于预设绝对值的情况下,将所述绝对值对应的所述匹配特征对从所述当前匹配特征集合中删除,得到所述过滤后的匹配特征集合。22.根据权利要求16或17所述的校验装置,其特征在于,所述当前过滤条件为仿射变换条件,其中,所述当前过滤模块包括: 第四计算模块,用于依据所述当前匹配特征集合中的匹配特征对计算所述第一图像的仿射变换矩阵; 第三检测模块,用于检测所述匹配特征对是否符合所述仿射变换矩阵; 第四处理模块,用于在所述匹配特征对不符合所述仿射变换矩阵的情况下,将所述匹配特征对从所述当前匹配特征集合中删除,得到所述过滤后的匹配特征集合。23.根据权利要求22所述的校验装置,其特征在于,所述第四计算模块包括: 迭代计算模块,用于按照如下步骤进行迭代计算验证分数,直至计算所述验证分数的计算次数达到预设计算次数停止计算,所述迭代计算模块包括: 特征对选择模块,用于从所述当前匹配特征集合中选出X个匹配特征对,其中,所述X为预设值,所述X为自然数; 第一计算子模块,用于使用所述X个匹配特征对计算出初始仿射变换矩阵; 验证模块,用于使用所述初始仿射变换矩阵验证所述当前匹配特征集合中的所述当前匹配特征对得到验证分数; 第一判断子模块,用于在停止计算之后,判断所述验证分数中最大的验证分数是否大于预设分数; 第四确定模块,用于若所述最大的验证分数大于所述预设分数,判断出所述最大的验证分数对应的所述初始仿射变换矩阵为所述第一图像的所述仿射变换矩阵; 第五确定模块,用于若所述最大的验证分数小于或等于所述预设分数,则确定所述第一图像不存在所述仿射变换矩阵,所述第一图像与所述第二图像不是同源图像。24.根据权利要求22所述的校验装置,其特征在于,所述第四计算模块包括: 第五计算模块,用于使用所述匹配特征对的角度计算所述仿射变换矩阵的旋转角度; 第六计算模块,用于分别计算每个所述匹配特征对在水平方向上的第一位置差值的第一比例值和在竖直方向上的第二位置差值的第二比例值; 第二统计模块,用于确定所述第一比例值的第一众数和所述第二比例值的第二众数;第一比例确定模块,用于将所述第一众数作为所述仿射变换矩阵的所述水平方向的第一缩放比例,将所述第二众数作为所述仿射变换矩阵的所述竖直方向的第二缩放比例;第一矩阵计算模块,用于使用所述旋转角度、所述第一缩放比例、所述第二缩放比例以及dx = O和dy = O计算初始仿射变换矩阵,其中,所述dx = O表示设置所述仿射变换矩阵在所述水平方向上的平移比例为O,所述dy = O表示设置所述仿射变换矩阵在所述竖直方向上的平移比例为O ; 第七计算模块,用于依据所述初始仿射变换矩阵计算每个所述匹配特征对中的第一特征对应的第一计算特征; 第八计算模块,用于计算所述第一计算特征与所述第二特征在所述水平方向上的第三位置差值和计算所述第一计算特征与所述第二特征在所述竖直方向上的第四位置差值;第三统计模块,用于统计所述第三位置差值的第三众数与所述第四位置差值的第四众数; 第二比例确定模块,用于将所述第三众数作为所述仿射变换矩阵的水平方向的第一平移比例,将所述第四众数作为所述仿射变换矩阵的竖直方向的第二平移比例; 第一矩阵计算模块,用于根据所述旋转角度、所述第一缩放比例、所述第二缩放比例、所述第一平移比例以及所述第二平移比例计算所述仿射变换矩阵。25.根据权利要求24所述的校验装置,其特征在于,所述第六计算模块包括: 第二计算子模块,用于计算ql和q2在水平方向上位置的差值Cl,计算pi和p2在水平方向上位置的差值C2,计算所述第一比例值dl = C1/C2 ; 第三计算子模块,用于计算ql和q2在竖直方向上位置的差值C3,计算pi和p2在水平方向上位置的差值C4,计算所述第二比例值d2 = C3/C4 ; 其中,所述匹配特征集合包括η个所述匹配特征对,分别为第一特征ql-第二特征pl,第一特征q2_第二特征p2,第一特征q3_第二特征p3,......,第一特征qn_第二特征pn。26.根据权利要求23至25中任意一项所述的校验装置,其特征在于,所 述第三检测模块包括: 第九计算模块,用于使用所述仿射变换矩阵计算所述第一特征对应的第二计算特征; 第十计算模块,用于计算所述第二特征与所述第二计算特征的计算距离; 第六确定模块,用于若所述计算距离不大于预设计算距离,则检测出所述计算距离对应的所述匹配特征对符合所述仿射变换矩阵; 第七确定模块,用于若所述计算距离大于所述预设计算距离,则检测出所述计算距离对应的所述匹配特征对不符合所述仿射变换矩阵。27.根据权利要求16或17所述的校验装置,其特征在于,所述当前过滤条件为面积条件,其中,所述当前过滤模块包括: 第一面积计算模块,用于计算所述第一图像上的所述匹配特征对的第一特征的外接矩形的第一面积和所述第二图像上的所述匹配特征对的第二特征的外接矩形的第二面积;第二面积计算模块,用于计算所述第一图像上的所述第一特征的覆盖区域的第三面积和所述第二图像上的所述第二特征的覆盖区域的第四面积; 第八确定模块,用于若所述第一面积与所述第一图像的面积的比例符合第一预设面积阈值,所述第三面积与所述第一图像的面积的比例符合第二预设面积阈值,所述第二面积与所述第二图像的面积的比例符合所述第一预设面积阈值,以及所述第四面积与所述第二图像的面积的比例符合所述第二预设面积阈值,则确认所述匹配特征对为符合所述面积条件的特征对;否则,确认所述匹配特征对不符合所述面积条件,将所述匹配特征对从所述当前匹配特征集合中删除,得到所述过滤后的匹配特征集合。28.根据权利要求16所述的校验装置,其特征在于,所述条件选择模块包括: 测试模块,用于使用预设图像样本对每个所述过滤条件进行过滤测试,获取测试结果,其中,所述测试结果包括过滤准确率、过滤覆盖度以及过滤速度; 条件序列获取模块,用于使用所述过滤准确率、所述过滤覆盖度以及所述过滤速度对所述过滤条件排序得到条件序列; 第九确定模块,用于按照所述条件序列确定所述过滤条件的执行顺序,按照所述执行顺序从所述尚未被用于所述过滤处理的所述过滤条件确定所述当前过滤条件。
【专利摘要】本发明公开了一种同源图像的校验方法及装置。其中,该方法包括:提取第一图像的图像特征;在图像库中检索与图像特征相匹配的特征,得到匹配特征集合,其中,匹配特征集合包括至少一个匹配特征对;使用预设特征校验条件对匹配特征集合中的匹配特征对进行过滤处理,得到过滤后的匹配特征集合,其中,预设特征校验条件包括至少两个预设的过滤条件;在过滤后的匹配特征集合中的匹配特征对的个数等于或大于预设匹配个数的情况下,确认第一图像与第二图像为同源图像。采用本发明,解决了现有技术中对同源图像样本的校验效率低的问题,大大提高了对同源图像的样本进行校验的效率。
【IPC分类】G06T7/00, G06F17/30
【公开号】CN105335956
【申请号】CN201410385310
【发明人】李岩
【申请人】腾讯科技(深圳)有限公司
【公开日】2016年2月17日
【申请日】2014年8月6日
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