技术特征：
1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，具有如下工序：通过将熔融玻璃加压成形而成形板状玻璃材料的工序，所述板状玻璃材料具有通过研削磨粒研削而得到的表面形状；使用固定磨粒研削所述板状玻璃材料的工序。2.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，进一步具有使用游离磨粒对所述板状玻璃材料进行研磨的工序，所述板状玻璃材料被成形为相对于所述磁盘用玻璃基板的目标厚度厚10μm～150μm，通过所述研削工序以及所述研磨工序，将所述板状玻璃材料加工成所述目标厚度。3.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，进行所述加压成形后马上打开一对模具。4.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，所述研削工序使用设置了钻石粒子的钻石片进行研削。5.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，进一步，在所述加压成形工序和所述研削工序之间，具有划线所述板状玻璃材料的工序。6.如权利要求5所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，所述板状玻璃材料的所述主表面的粗糙度为0.01μm以上1μm以下。7.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，所述板状玻璃材料的主表面的平坦度在4μm以下。8.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，所述板状玻璃材料的雾度为20％以上。9.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，具有如下工序：通过将熔融玻璃加压成形而成形板状玻璃材料的工序，所述板状玻璃材料的主表面的粗糙度为0.01μm以上1μm以下、雾度为20％以上；使用固定磨粒研削所述板状玻璃材料的工序。10.如权利要求9所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，进一步具有使用游离磨粒对所述板状玻璃材料进行研磨的工序，所述板状玻璃材料被成形为相对于所述磁盘用玻璃基板的目标厚度厚10μm～150μm，通过所述研削工序以及所述研磨工序，将所述板状玻璃材料加工成所述目标厚度。11.如权利要求9或10所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，进行所述加压成形后马上打开一对模具。12.如权利要求9或10所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，所述研削工序使用设置了钻石粒子的钻石片进行研削。13.如权利要求9或10所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，进一步，在所述加压成形工序和所述研削工序之间，具有划线所述板状玻璃材料的工序。14.如权利要求9或10所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，所述板状玻璃材料的主表面的目标平坦度在4μm以下。15.一种板状玻璃材料，其是用于磁盘用玻璃基板的制造的板状玻璃材料，主表面的粗糙度为0.01μm以上1μm以下、雾度为20％以上。16.如权利要求15所述的板状玻璃材料，所述板状玻璃材料的主表面的平坦度为4μm以下。17.如权利要求15或16所述的板状玻璃材料，所述板状玻璃材料的主表面的粗糙度为0.01μm以上1μm以下。