专利名称：形成风车形划片槽结构的方法
技术领域：
本发明涉及一种半导体制造技术，具体涉及一种形成风车形划片槽结构的方法。
背景技术：
在半导体的制造过程中，需要通过光刻套刻来进行芯片的定位，具体方法是在芯 片的四周设置划片槽，同时在划片槽内放置各种工艺上或产品上要用到的标记，如光刻对 准标记。 现有的划片槽结构形成如图1所示的矩形阵列。该矩形阵列中能够排列5X4个 心片。 但是随着半导体工艺的进步，芯片的尺寸不断縮小，为了保持和提高硅片面积的 利用率，划片槽的宽度也需要相应縮小，而对于生产制造中必须放置在划片槽中的各种标 记并不能全部縮小，例如放置在最外边划片槽中的光刻对准标记，因此这种矩形阵列的划 片槽限制了硅片面积的利用率。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种形成风车形划片槽结构的方法，用该方法 可以形成风车形划片槽，从而提高硅片面积的利用率。 为解决上述技术问题，本发明形成风车形划片槽结构的方法的技术解决方案为， 包括以下步骤 第一步，根据芯片的尺寸和芯片的排列数目，生成矩形阵列的划片槽数据；
第二步，确定占位图形单元的数据，生成多个占位图形单元； 第三步，将各占位图形单元放置于所述矩形阵列四周的划片槽内，各占位图形单 元在所述矩形阵列四周的划片槽内排列成风车形； 第四步，利用布尔运算将占位图形单元所在位置上的划片槽层次去除，使矩形阵 列四周的划片槽形成风车形状。 所述占位图形单元的宽度小于所述矩形阵列中位于四周的划片槽宽度。
所述矩形阵列各边的占位图形单元的总长度不超过矩形阵列各边边长的一半。
本发明可以达到的技术效果是 本发明通过在划片槽上设置占位图形单元，利用占位图形单元阻止其它工艺用图 形单元被放置在其所在的区域。通过占位图形单元的规律性排列，形成需要的风车形划片 槽结构。 本发明实现了本来比较复杂的风车形划片槽数据设计，使工艺用图形单元按风车 形的规则排列在划片槽四周。
下面结合附图和具体实施方式
对本发明作进一步详细的说明
图1是现有技术矩形阵列的划片槽结构的示意图； 图2是风车形划片槽结构的示意图； 图3是本发明形成风车形划片槽结构的方法示意图。 图中，A划片槽结构中内部的划片槽宽度，B划片槽结构中四周的划片槽宽度，Bl、 B2、B3、R1、R2占位图形单元，0占位图形单元的原点。
具体实施例方式
为了尽能够地縮小划片槽的面积，提高硅片面积的利用率，使划片槽结构形成如 图2所示的风车形排列。 这种风车形排列的划片槽结构的形成方法包括以下步骤 1、利用现有技术，根据芯片的尺寸和芯片的排列数目，生成矩形阵列的划片槽数 据； 2、确定占位图形单元的数据，生成占位图形单元；
a、确定各占位图形单元的尺寸； 占位图形单元的宽度小于划片槽结构中位于四周的划片槽宽度；
各占位图形单元的长度不超过与其对应的芯片尺寸； 划片槽结构的矩形阵列各边的占位图形单元的总长度小于矩形阵列各边边长的 一半； b、根据芯片的排列数目，确定四周每条边上所需要的占位图形单元的数目。
3、将占位图形单元放置于矩形阵列四周的划片槽内，以矩形阵列各边中点或中点 附近为起点，依次逆时针排列，使各占位图形单元在所述矩形阵列四周的划片槽内排列成 风车形；矩形阵列每条边最后一个占位图形单元中设置工艺特殊结构。 4、利用布尔运算将占位图形单元所在位置上的划片槽层次去除，使矩形阵列四周 的划片槽形成风车形状。 占位图形单元能够阻止其它工艺用图形单元被放置在其所在的区域。由于矩形阵 列的每个边上的占位图形单元的总长度大约是矩形阵列该边长的一半，因此每个边上的占 位图形单元仅占据矩形阵列四周划片槽的一半。 每条边最后一个占位图形单元中设有工艺特殊结构，该结构作为划片槽上的特殊 结构。 通过以下方法，能够形成所用芯片尺寸为400X450um，芯片排列数目为5X4的宽 度为50um的风车形排列的划片槽结构 1、利用现有技术，读入芯片的尺寸(CX = 400um， CY = 450um)和排列数目(AX =
5，AY = 4)，生成矩形阵列的划片槽数据，如图1所示；该矩形阵列中，位于内部的划片槽宽
度A为50咖，位于四周的划片槽宽度B为48um ; 2、生成占位图形单元，如图3所示； a、确定四周每条边上所需要的占位图形单元的数目； 上下边占位图形单元的个数为(AX+1)/2 = 3 左右边占位图形单元的个数为(AY+1)/2 = 2 b、确定各占位图形单元的尺寸；
占位图形单元的宽度应小于48um，使占位图形单元的宽度为42um，这样可使该部位保留6um的划片槽宽度； 上下边占位图形单元的长度不超过CX ;
左右边占位图形单元的长度不超过CY ;
则各占位图形单元的坐标为 以矩形阵列每条边的中心作为各占位图形单元的原点O，上下边第一个占位图形单元B1的X方向范围是2um到CX/2，第二个占位图形单元B2的X方向范围CX/2到3*CX/2，第三个占位图形单元B3的范围3*CX/2到5*CX/2 ;左右边第一个占位图形单元Rl的Y方向范围是2um到CY，第二个占位图形单元R2的Y方向范围CY到2*CY。
c、在每条边最后一个占位图形单元中产生工艺特殊结构； 3、以矩形阵列四周每条边的中心为起点，将所生成的占位图形单元依次放置在矩形阵列四周各边的划片槽内，叠加后的占位图形单元完全覆盖从各边中心开始2um到各边顶点的区域； 4、在划片槽中放置其他内部和外部工艺图形单元，由于占位图形单元的存在，工艺图形单元不会摆放在四周各边占位图形单元所在的区域。 5、利用布尔运算将占位图形单元所在位置上的划片槽层次切割去除，就可以形成风车形的划片槽数据，如图3所示。 本发明实现了本来比较复杂的风车形划片槽数据设计，使工艺用图形单元按风车形的规则排列在划片槽四周。
权利要求
一种形成风车形划片槽结构的方法，其特征在于，包括以下步骤第一步，根据芯片的尺寸和芯片的排列数目，生成矩形阵列的划片槽数据；第二步，确定占位图形单元的数据，生成多个占位图形单元；第三步，将各占位图形单元放置于所述矩形阵列四周的划片槽内，各占位图形单元在所述矩形阵列四周的划片槽内排列成风车形；第四步，利用布尔运算将占位图形单元所在位置上的划片槽层次去除，使矩形阵列四周的划片槽形成风车形状。
2. 根据权利要求1所述的形成风车形划片槽结构的方法，其特征在于所述占位图形 单元的宽度小于所述矩形阵列中位于四周的划片槽宽度。
3. 根据权利要求1或2所述的形成风车形划片槽结构的方法，其特征在于所述矩形 阵列各边的占位图形单元的总长度小于矩形阵列各边边长的一半。
4. 根据权利要求3所述的形成风车形划片槽结构的方法，其特征在于所述各占位图 形单元的长度不超过芯片的尺寸。
全文摘要
本发明公开了一种形成风车形划片槽结构的方法，包括以下步骤第一步，根据芯片的尺寸和芯片的排列数目，生成矩形阵列的划片槽数据；第二步，确定占位图形单元的数据，生成多个占位图形单元；第三步，将各占位图形单元放置于所述矩形阵列四周的划片槽内，各占位图形单元在所述矩形阵列四周的划片槽内排列成风车形；第四步，利用布尔运算将占位图形单元所在位置上的划片槽层次去除，使矩形阵列四周的划片槽形成风车形状。本发明实现了本来比较复杂的风车形划片槽数据设计，使工艺用图形单元按风车形的规则排列在划片槽四周。
文档编号H01L21/00GK101745993SQ20081004408
公开日2010年6月23日 申请日期2008年12月10日 优先权日2008年12月10日
发明者丁华, 倪凌云, 周京英, 孙长江, 张喆 申请人:上海华虹Nec电子有限公司