处理装置及具有处理装置的洁净系统的制作方法

文档序号:6923376阅读:295来源:国知局
专利名称:处理装置及具有处理装置的洁净系统的制作方法
技术领域
本发明涉及一种适用于显示装置的制造等需要洁净环境的工序的处理装置及具
有这种处理装置而构筑的洁净系统。
背景技术
洁净室用于如显示装置的制造等需要洁净环境的工序中。为洁净地保持其中的 空气,洁净室利用使用了可从空气中除去细微尘埃及其它污染物质的特别过滤器的送风装 置。为维持高洁净度及防止过滤器的劣化,使用后的洁净空气一般不舍弃而回流,并使其使 反复通过过滤器。 为了相关目的,洁净室具有特别的结构。即,在典型的结构中,洁净室的天棚具有 天棚面和低于天棚面而被支撑的天棚的双层结构,双层结构的内部成为空气可流通的腔 室。洁净室的地板具有地板面和高于地板面而被支撑的格栅,地板面和格栅之间也形成腔 室。天棚侧的腔室和地板侧的腔室通过回流管道所连通。过滤器及送风装置,通常设置在 天棚而使之与天棚侧腔室连通。洁净室内的各装置设置在格栅上,从天棚侧供给的洁净空 气通过各装置并通过格栅,向下流到地板侧腔室。向下流到地板侧腔室内的洁净空气,由回 流管道汇集并回流到天棚侧的腔室。 相关技术记载于日本国特开平11-337115号及特开平10-116758号公报中。
从上述说明中可知,现有的洁净室由于具有特别的结构,从而不容易构筑。并且, 由于需要设置天棚及地板的腔室用的空间,由此发生无法设置装置的很大的闲置空间,给 装置的设计带来限制。

发明内容
本发明就是鉴于上述问题而提出的,其目的在于提供一种即使在地板面没有格栅 或腔室时也可通过直接设置在该地板面而容易构筑,且可对装置的设计提供很大的自由度 的洁净系统。 根据本发明第一方面的处理装置,该处理装置与具有供给洁净空气的送风装置和 地板面的房间共同利用,其具有可容纳所述洁净空气的装置主体和台;该台支撑所述装置 主体,是从以下组中选择的任意台;艮卩 具有在与所述地板面之间气密地围住可通气的空间的结构的台,以及 气密地围住可通气的空间且可设置在所述地板面上的台;所述台具有与所述空
间连通的进风口 ,将已通过所述装置主体的所述洁净空气经由所述进风口导入到所述空间
的吸引风扇。 优选还具有与所述台气密地结合,且构成为使导入到所述空间的所述洁净空气 向所述送风装置回流的回流管道。
根据本发明第二方面的一种洁净系统,具有
具有围住腔室的天棚和地板面的房间;
与所述腔室连通,净化所述腔室内的空气并供给洁净空气的送风装置;
配置成可容纳所述洁净空气的装置主体; 台;该台支撑所述装置主体,是从以下组中选择的任意台;即 构成为在与所述地板面之间气密地围住可通气的空间的台,以及 气密地围住可通气的空间且可设置在所述地板面上的台;所述台具有与所述空
间连通的进风口 ,将已通过所述装置主体的所述洁净空气经由所述进风口导入到所述空间
的吸引风扇; 应连通所述空间和所述腔室、气密地结合所述台及所述天棚的回流管道。


图1是表示根据本发明的一个实施方式的洁净系统的剖视图。
图2是沿图1的II-II线取的剖视图。
图3是变形例的洁净系统的剖视图。
具体实施例方式
以下参照附图对本发明实施方式进行说明。虽然在下面举例说明了用于暂时储存 作为显示装置的元件的玻璃衬底、并供给到下游的装置的保管装置,但本发明的实施并不 限于此。 根据本发明实施方式的洁净系统l,如图1所示,是利用建筑物3内的房间5来构 筑的。房间5的地板面5f ,为防止发生尘埃,在例如砂浆上涂布敷了由聚氨酯树脂等构成的 涂料的结构,但不限于此。房间5的天棚5c低于建筑物3的天棚面,在两者之间确保空气 可以流通的天棚腔室7。天棚5c具有开口,与开口连通而设置有向下方供给洁净空气的送 风装置9。供给洁净空气的送风装置9具有从空气中去除细微尘埃及其它污染物的过滤器 和将已净化的空气送出的风扇,也可以采用能适用于洁净室的任何公知装置。房间5具有 应连通其地板面附近与天棚腔室7的大致垂直的回流管道11。回流管道11也做成应使空 气流通的结构。 保管装置13具有装置主体15、台17、一对框架19及其它部件。台17设置在地板 面5f上, 一对框架19固定在台17上,其它部件用框架19支撑。 各框架19具有垂直地延伸的轨道21,轨道21分别可升降地支撑着支撑部件25。 支撑部件25利用电动马达等的驱动装置(未图示)驱动而升降。支撑部25进一步支撑卡 式盒23。卡式盒23具有在垂直方向层叠的多个水平的容纳部,在各容纳部容纳有玻璃板 W。通过控制驱动装置的驱动,可将所容纳的多个玻璃板中的任意的玻璃板W设置在所需高 度,进而在所述高度进行需要的处理。 作为保管装置13,可利用公知的装置,作为这种装置可列举例如日本国特开 2005-159141号及日本国特开2005-175429号公报所公开的装置。 台17,与其下面一体地具有管道部件27。管道部件27的下面设有开口,但若直接 将管道部件27设置在地板面5f上,则下面的开口将被地板面5f堵塞,构成可通气的管道 CD。即,具有管道部件27的台17具有在与地板面7f之间气密地围住可通气的空间的结构。 管道部件27,进一步具有与所述空间连通的多个进风口 27t,台17具有分别与所述进风口27t连通的多个开口 17h。在开口 17h分别设置有吸引风扇29,设置成将上方的空气导入到 所述空间中。 管道CD与回流管道11气密地结合,导入到所述空间的空气经由回流管道11而向 天棚腔室7回流。 天棚腔室7中的空气通过送风装置9净化并供给到下方。因此,保管装置13容纳 洁净空气,在其周围维持洁净环境。通过保管装置13的驱动虽发生少许尘埃乃至污染物 质,但包含这些的空气被吸引风扇29吸引而导入管道CD。所述空气经由管道CD及回流管 道11而回流到天棚腔室7,重新受到送风装置9的净化。 根据本实施方式,即使在没有如具有格栅的地板等的洁净室所特有结构的房间 中,也能容易实现与洁净室相同的洁净环境。并且,因可节省格栅下的闲置空间,可对装置 的设计提供很大的自由度。 上述实施方式可进行多种变形。例如,如图3所示的变形例中的洁净系统31,也 可用下面无开口且以其自身气密地围住空气流通的空间的管道33来代替下面开口的管道 部件27。管道33也可直接设置在地板面5f上。因此,这些变形例也可容易地实现洁净环 境,对装置的设计提供很大的自由度。 如上所述,虽然参照了适当的实施方式说明了本发明,但本发明并不限定于上述 实施方式。基于上述公开的内容,本技术领域的普通技术人员可通过实施方式的修正乃至 变形来实施本发明。 本发明可提供一种容易构筑洁净环境,且对装置的设计提供很大的自由度的洁净 系统。
权利要求
一种处理装置,该处理装置与具有供给洁净空气的送风装置和地板面的房间共同利用,其特征在于,其具有可容纳所述洁净空气的装置主体和台;该台支撑所述装置主体,是从以下组中选择的任意台;即具有在与所述地板面之间气密地围住可通气的空间的结构的台,以及气密地围住可通气的空间且可设置在所述地板面上的台;所述台具有与所述空间连通的进风口,将已通过所述装置主体的所述洁净空气经由所述进风口导入到所述空间的吸引风扇。
2. 根据权利要求1所述的处理装置,其特征在于,还具有与所述台气密地结合,且构 成为使导入到所述空间的所述洁净空气向所述送风装置回流的回流管道。
3. —种洁净系统,其特征在于,具有 具有围住腔室的天棚和地板面的房间;与所述腔室连通,净化所述腔室内的空气并供给洁净空气的送风装置; 配置成可容纳所述洁净空气的装置主体;台;该台支撑所述装置主体,是从以下组中选择的任意台;艮卩 构成为在与所述地板面之间气密地围住可通气的空间的台,以及气密地围住可通气的空间且可设置在所述地板面上的台;所述台具有与所述空间连 通的进风口 ,将已通过所述装置主体的所述洁净空气经由所述进风口导入到所述空间的吸 引风扇;应连通所述空间和所述腔室、气密地结合所述台及所述天棚的回流管道。
全文摘要
本发明涉及处理装置及具有处理装置的洁净系统。这种洁净系统,具有具有围住腔室的天棚和地板面的房间;与所述腔室连通,净化所述腔室内的空气并供给洁净空气的送风装置;配置成可容纳所述洁净空气的装置主体;台;该台支撑所述装置主体,是从以下组中选择的任意台;即构成为在与所述地板面之间气密地围住可通气的空间的台,以及气密地围住可通气的空间且可设置在所述地板面上的台;所述台具有与所述空间连通的进风口,将已通过所述装置主体的所述洁净空气经由所述进风口导入到所述空间的吸引风扇;应连通所述空间和所述腔室、气密地结合所述台及所述天棚的回流管道。
文档编号H01L21/67GK101779085SQ20088010005
公开日2010年7月14日 申请日期2008年7月3日 优先权日2007年7月27日
发明者平田贤辅 申请人:株式会社Ihi
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