一种双ktp倍频和电光调q集成器件的制作方法

文档序号:7140919阅读:249来源:国知局
专利名称:一种双ktp倍频和电光调q集成器件的制作方法
技术领域
—种双KTP倍频和电光调Q集成器件技术领域:本发明涉及一种电光Q开关器件,具体为一种在激光器中能实现倍频非线性效应并能进行电光调Q的器件。
背景技术
:KTP类晶体具有大的有效非线性系数和良好的电光性能,因此利用该类晶体研制光倍频和电光复用器件的研究引起了人们极大的兴趣。1994年,日本T.Takunori等用一块lX3X5mm3的KTP晶体,对Nd: YVO4输出的1064nm激光实现了同时倍频和调Q。在重复频率IOOHz时,调制得到脉宽为18ns的532nm脉冲激光输出,峰值功率为15.4ff (TakunoriTaira, Takao Kobayash1.Q-switching and frequency doubling of solid-state laserby a single intracavity KTP crystal [J], IEEE.J.Quantum Eleronies, 1994,30(3): 800-804)。1995年,他们又实现了峰值功率230W的绿光输出(Takunori Taira,Takao Kobayash1.1ntraeavity frequency doubling and Q-switching in diode laserpumped NdiYVO4 laser [J], Applied Optics 1995,34(21): 4298-4301)。1997 年,姚建铨等对KTP晶体倍频调Q时的匹配角和外加电压进行了计算(J.Q.Yao, X.ff.Sun,H.S.Kwok.Analysis of simultaneous Q-switching and frequency doubling inKTP [J], Journal of modern optics, 1997,44(5): 997-1004)。2000 年,陈飞等采用2X4X IOmm3的KTP晶体,在重复频率为1kHz,1/4电压647V,泵浦功率IW时,实现了脉宽12ns、峰值功率762W的TEMtltl模输出,并实现了器件化,整个体积只有半个彩色胶卷大小(陈飞,霍玉晶,新型电光调Q内腔绿光激光器[J],中国工程科学,2000,2(4): 39-42)。以上方案中以KTP作为倍频和电光Q开关器件,都用了一块KTP晶体,按照相位匹配角度切割,在激光器中电光调Q时采用加压工作方式。但KTP晶体存在静态双折射相位延迟,影响到电光调Q的关门效果;而且按照常温下的相位匹配角度切割,在倍频时存在走离角,影响到倍频转换效率和输出光的光束质量;采用加压工作方式,电光调Q和倍频作用在同一时间发生,电压改变晶体折射率,从而影响到倍频效果。发明内容:本发明针对现有技术的不足,提供一种无走离角且能消除静态双折射相位延迟的双KTP倍频和电光调Q集成器件。本发明实现以上目的采取的方案为:一种双KTP倍频和电光调Q集成器件,包括外壳、电极、电光晶体,电光晶体包括两块非临界温度相位匹配切割的KTP晶体,从左到右依次设置第一块KTP晶体和相对第一块KTP晶体旋转90°放置的第二块KTP晶体;在第一块KTP晶体的上通电面镀金膜,下通电面镀金膜,在相对第一块KTP晶体旋转90°放置的第二块KTP晶体的前通电面镀金膜,后通电面镀金膜;从第一块KTP晶体的上通电面镀金膜和第二块KTP晶体的前通电面镀金膜引出金线,连接到正电极;从第一块KTP晶体的下通电面镀金膜和第二块KTP晶体的后通电面镀金膜引出金线,连接到负电极;器件电光调Q作用时采用退压工作方式。作为本实用新型的进一步改进,第一块KTP晶体和相对第一块KTP晶体旋转90°放置的KTP晶体为低电导率的KTP晶体。作为本实用新型的进一步改进,第一块KTP晶体和相对第一块KTP晶体旋转90°放置的KTP晶体用温度控制实现倍频相位匹配。作为本实用新型的进一步改进,第一块KTP晶体和相对第一块KTP晶体旋转90°放置的KTP晶体的通光面为正方形。作为本实用新型的进一步改进,第一块KTP晶体和相对第一块KTP晶体旋转90°放置的KTP晶体相对的内通光面用绝缘透明的光胶相连,外通光面镀1064nm和532nm双色
增透膜。作为本实用新型的进一步改进,第一块KTP晶体和相对第一块KTP晶体旋转90°放置的KTP晶体依次放置,内通光面和外通光面镀1064nm和532nm双色增透膜。本发明实现以上目的原理为:KTP晶体倍频非临界相位匹配的切割角度为q=90°,j=0°,80°C时KTP晶体能够实现倍频非临界相位匹配,所以晶体的控制温度应保持在80°C。非临界相位匹配切割时,KTP晶体倍频无走离角,因此,这种切割的晶体消除了走离角。偏振光通过单块KTP晶体时产生的相位延迟为:
权利要求1.一种双KTP倍频和电光调Q集成器件,包括外壳、电极、电光晶体,其特征在于: 电光晶体包括两块非临界温度相位匹配切割的KTP晶体,从左到右依次设置第一块KTP晶体(I)和相对第一块KTP晶体(I)旋转90°放置的KTP晶体(2); 在第一块KTP晶体(I)的上通电面镀金膜(3 ),下通电面镀金膜(4),在相对第一块KTP晶体旋转90°放置的第二块KTP晶体(2)的前通电面镀金膜(5),后通电面镀金膜(6);从第一块KTP晶体(I)的上通电面镀金膜(3)和第二块KTP晶体(2)的前通电面镀金膜(5)弓丨出金线,连接到正电极(7);从第一块KTP晶体(I)的下通电面镀金膜(4)和第二块KTP晶体(2)的后通电面镀金膜(6)引出金线,连接到负电极(8); 器件电光调Q作用时采用退压工作方式。
2.根据权利要求1所述的一种双KTP倍频和电光调Q集成器件,其特征在于: 第一块KTP晶体(I)和相对第一块KTP晶体旋转90°放置的KTP晶体(2)为低电导率的KTP晶体。
3.根据权利要求1所述的一种双KTP倍频和电光调Q集成器件,其特征在于: 第一块KTP晶体(I)和相对第一块KTP晶体旋转90°放置的KTP晶体(2)的通光面为正方形。
4.根据权利要求1所述的一种双KTP倍频和电光调Q集成器件,其特征在于: 第一块KTP晶体(I)和相对第一块KTP晶体旋转90°放置的KTP晶体(2)相对的内通光面用绝缘透明的光胶相连,外通光面镀1064nm和532nm双色增透膜。
5.根据权利要求1所述的一种双KTP倍频和电光调Q集成器件,其特征在于: 第一块KTP晶体(I)和相对第一块KTP晶体旋转90°放置的KTP晶体(2)依次放置,内通光面和外通光面镀1064nm和532nm双色增透膜。
专利摘要本实用新型涉及一种双KTP倍频和电光调Q集成器件,包括外壳、电极、电光晶体,电光晶体包括从左到右依次设置的两块低电导率、非临界温度相位匹配切割的KTP晶体,依次旋转90°放置;在第一块KTP晶体的上、下通电面镀金膜,在第二块KTP晶体的前、后通电面镀金膜;从第一块KTP晶体的上通电面镀金膜和第二块KTP晶体的前通电面镀金膜引出金线,连接到正电极;从第一块KTP晶体的下通电面镀金膜和第二块KTP晶体的后通电面镀金膜引出金线,连接到负电极;器件电光调Q作用时采用退压工作方式。本实用新型实现倍频和电光调Q两种功能的同时消除了走离角、补偿了静态双折射相位延迟,消除了晶体加压时对相位匹配角的影响。
文档编号H01S3/109GK202997296SQ20122065808
公开日2013年6月12日 申请日期2012年12月4日 优先权日2012年12月4日
发明者张会云, 张晓 , 尹贻恒, 张洪艳, 刘蒙, 张玉萍 申请人:山东科技大学
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