去胶机台的制作方法
【专利摘要】本实用新型提供一种去胶机台，包括一收容空腔；所述收容空腔腔底上设置有一卡盘，腔壁上设置有一SPM喷淋系统；所述SPM喷淋系统至少包括气缸控制模块、气缸、安装支座及摇杆；所述摇杆底端弯折连接有一随着所述摇杆的来回转动来回摆动的输液臂；所述摇杆侧壁设置有一液体接头；所述气缸的进气端设有节流阀；所述气缸控制模块包括气缸摆动控制电磁阀及脉冲继电器；所述脉冲继电器包括输入回路和输出回路；所述气缸摆动控制电磁阀连接于所述输出回路中。本实用新型的去胶机台工作时，输液臂端部从光掩模板中心位置至光掩模板边缘来回摆动，使光掩模板的中心至边缘在整个工艺过程中都可以得到足够的反应温度和反应浓度，提升整体去胶能力。
【专利说明】去胶机台
【技术领域】
[0001]本实用新型属于半导体领域，涉及一种去胶机台。
【背景技术】
[0002]在光掩模板的制造过程中，需要使用光刻胶在光掩模板上形成集成电路和半导体器件的布局图案或者其它电路图案和数据图案，完成曝光、显影、刻蚀等加工工艺之后，需要去除光掩模板表面残留的光刻胶。SPM (Sulphoacid Peroxide Mixed,硫酸-过氧化氢混合液)是微电子行业普遍使用的清洗药液，其主要用途是用来清洗基板上的有机残留物。SPM清洗有机残留物的主要工作原理是利用SPM的强氧化性将有机物脱水并氧化成二氧化碳和水。传统的SPM生成系统是将硫酸和过氧化氢按一定比例置于一容器中混合，并对混合物加热至一定的温度，被清洗的对象浸没在此混合液中清洗，此种生成系统的SPM重复使用，需定期更换。由于过氧化氢在加热和酸性条件下容易分解，故此类SPM生成系统的活性具有不稳定性，而且由于SPM的重复使用，会造成清洗对象的交叉污染。另外一种工艺是通过旋转喷淋方法去除光掩模板上的光刻胶，该去胶方法相对于传统的深槽式浸泡方法能够有效节省耗酸量，由于药液活性强，去胶后药液直接排掉不再循环使用，不会造成交叉污染，去胶效果相对稳定。
[0003]现有的去胶机台采用旋转喷淋方式，SPM手臂在使用中悬停在光掩模板上方，将硫酸和双氧水的混合液喷射到光掩模板上，通过高温的化学混合液与光掩模板上的光刻胶进行反应，达到去胶目的。但是在实际的使用中，由于SPM手臂悬停一点，虽然光掩模板下方的卡盘带动光掩模板旋转可以将混合液甩开形成覆盖整个光掩模板的液膜，但是混合液的温度和分布的量的均匀性都达不到所需的工艺要求，即光掩模板边缘处的反应温度和混合液的堆积膜厚得不到保证，从而发生光刻胶残留，造成该工序的成品问题，给后续工艺带来问题。
实用新型内容
[0004]鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种去胶机台，用于解决现有技术中去胶过程中由于SPM混合液的温度和分布的量的均匀性达不到要求导致发生光刻胶残留的问题。
[0005]为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种去胶机台，所述去胶机台包括一由腔底和环绕所述腔底一周的腔壁组成的收容空腔；所述腔底上设置有一用于承载光掩模板并带动所述光掩模板旋转的卡盘；所述腔壁上设置有一 SPM喷淋系统；所述SPM喷淋系统至少包括气缸控制模块、与所述气缸控制模块连接的气缸、与所述气缸连接的安装支座、及安装于所述安装支座上与所述气缸连接并随着所述气缸的往复运动来回转动的摇杆；所述摇杆底端弯折连接有一随着所述摇杆的来回转动来回摆动的输液臂；所述摇杆侧壁设置有一与所述输液臂连通的液体接头；所述气缸的进气端设有用以控制所述气缸运动速度的节流阀；所述气缸控制模块包括气缸摆动控制电磁阀及脉冲继电器；所述脉冲继电器包括输入回路和输出回路；所述气缸摆动控制电磁阀连接于所述输出回路中；所述输入回路控制所述输出回路的通断从而控制所述气缸摆动控制电磁阀的通断电状态进而控制所述气缸的往复运动。
[0006]可选地，所述摇杆依次通过摇臂、曲柄机构及气缸连接组件与所述气缸连接。
[0007]可选地，所述输液臂的摆动角度范围是O?90°。
[0008]可选地，所述液体接头与一 SPM混合组件连接。
[0009]可选地，所述输液臂为直线状或弯折状。
[0010]可选地，所述脉冲继电器采用电磁继电器。
[0011]可选地，所述脉冲继电器为动合型、动断型或转换型。
[0012]如上所述，本实用新型的去胶机台，具有以下有益效果:去胶机台工作时，输液臂端部从光掩模板中心位置至光掩模板边缘来回摆动，是光掩模板的中心至边缘在整个工艺过程中都可以得到足够的反应温度和反应浓度，提升整体去胶能力，提升工艺成品率，并相应缩短工艺时间，提高产量。通过调节气缸上的节流阀，可以获得所需的气缸运动速度，从而得到需要的输液臂的摆出和摆回速度；通过设定脉冲继电器的频率，可以获得气缸的摆动周期，从而获得需要的输液臂的摆动角度来满足不同尺寸光掩模板所需要的工艺设定。
【专利附图】
【附图说明】
[0013]图1显示为本实用新型的去胶机台的结构示意图。
[0014]图2显示为本实用新型的去胶机台中气缸控制模块的电路示意图。
[0015]图3显示为本实用新型的去胶机台中SPM喷淋系统的俯视结构示意图。
[0016]元件标号说明
[0017]I 腔底
[0018]2 腔壁
[0019]3 卡盘
[0020]4 SPM喷淋系统
[0021]5 气缸
[0022]6 安装支座
[0023]7 摇杆
[0024]8 输液臂
[0025]9 液体接头
[0026]10 气缸摆动控制电磁阀
[0027]11 输入回路
[0028]12 输出回路
[0029]13 电源
[0030]14 接地端
[0031]15 接线排
[0032]16 气缸连接组件
[0033]17 活塞件
[0034]18 曲柄机构[0035]19 摇臂【具体实施方式】
[0036]以下由特定的具体实施例说明本实用新型的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效。
[0037]请参阅图1至图3。须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本实用新型可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本实用新型可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本实用新型可实施的范畴。
[0038]本实用新型提供一种去胶机台，所述去胶机台包括一由腔底和环绕所述腔底一周的腔壁组成的收容空腔；所述腔底上设置有一用于承载光掩模板并带动所述光掩模板旋转的卡盘；所述腔壁上设置有一 SPM喷淋系统；所述SPM喷淋系统至少包括气缸控制模块、与所述气缸控制模块连接的气缸、与所述气缸连接的安装支座、及安装于所述安装支座上与所述气缸连接并随着所述气缸的往复运动来回转动的摇杆；所述摇杆底端弯折连接有一随着所述摇杆的来回转动来回摆动的输液臂；所述摇杆侧壁设置有一与所述输液臂连通的液体接头；所述气缸的进气端设有用以控制所述气缸运动速度的节流阀；所述气缸控制模块包括气缸摆动控制电磁阀及脉冲继电器；所述脉冲继电器包括输入回路和输出回路；所述气缸摆动控制电磁阀连接于所述输出回路中；所述输入回路控制所述输出回路的通断从而控制所述气缸摆动控制电磁阀的通断电状态进而控制所述气缸的往复运动。
[0039]图1至图3为本发明一个实施例的去胶机台，所述示意图只是实例，在此不应过度限制本发明保护的范围。
[0040]首先请参阅图1，显示为本发明的去胶机台的结构示意图，如图所示，所述去胶机台包括一收容空腔，所述收容空腔由腔底I和环绕所述腔底I 一周的腔壁2组成；所述腔底I上设置有一用于承载光掩模板并带动所述光掩模板旋转的卡盘3 ;所述腔壁上设置有一SPM喷淋系统4。
[0041]所述SPM喷淋系统至少包括气缸控制模块4、与所述气缸控制模块4连接的气缸
5、与所述气缸5连接的安装支座6及安装于所述安装支座6上并与所述气缸5连接并随着所述气缸5的往复运动来回转动的摇杆7。所述摇杆7底端弯折连接有一随着所述摇杆7的来回转动来回摆动的输液臂8，所述摇杆7侧壁设置有一与所述输液臂8连通的液体接头9。
[0042]具体的，所述SPM喷淋系统通过所述安装支座6安装于所述腔壁2上，所述气缸2的进气端设有用以控制所述气缸运动速度的节流阀，由于气缸已经是非常成熟的技术，为公知常识，对于其具体结构此处不再赘述。所述气缸中包括活塞件，需要指出的是，此处所述气缸运动速度指的是气缸中的活塞件的运动速度。
[0043]具体的，所述液体接头9与一 SPM混合组件连接(未图示)，所述SPM混合组件可将SPM溶液加热到预设温度并供应到所述输液臂8中。所述输液臂8的摆动角度范围是O?90。。
[0044]请参阅图2,显示为所述气缸控制模块4的电路示意图，如图所示,所述气缸控制模块4包括气缸摆动控制电磁阀10及脉冲继电器；所述脉冲继电器包括输入回路11和输出回路12，所述输入回路11的主要部件是线圈，所述输出回路12的主要部件是触点，起到开关此回路的作用。所述气缸摆动控制电磁阀10连接于所述输出回路12中。所述输入回路11控制所述输出回路12的通断从而控制所述气缸摆动控制电磁阀10的通断电状态进而控制所述气缸5的往复运动。需要指出的是，此处所述气缸5的往复运动是指气缸中活塞件的往复运动。所述输入回路11、输出回路12与电源13、接地端14通过接线排15的不同端子连接。
[0045]具体的，继电器是一种电子控制器件，它具有控制系统(输入回路)和被控制系统(输出回路)，通常应用于自动控制电路中，它实际上是用较小的电流去控制较大电流的一种“自动开关”，故在电路中起着自动调节、安全保护、转换电路等作用。本实用新型中，所述脉冲继电器10采用电磁继电器，电磁继电器一般由铁芯、线圈、衔铁、触点簧片等组成，只要在线圈两端加上一定的电压，线圈中就会流过一定的电流，从而产生电磁效应，衔铁就会在电磁力吸引的作用下克服返回弹簧的拉力吸向铁芯，从而带动衔铁的动触点与静触点(常开触点)吸合。当线圈断电后，电磁的吸力也随之消失，衔铁就会在弹簧的反作用力返回原来的位置，使动触点与原来的静触点(常闭触点)释放。这样吸合、释放，从而达到了在电路中的导通、切断的目的。本实用新型中，所述脉冲继电器10的触点可采用动合型、动断型或转换型，所述动合型是指线圈不通电时两触点是断开的，通电后，两个触点就闭合；所述动断型是指线圈不通电时两触点是闭合的，通电后两个触点就断开；所述转换型是指包括三个触点，即中间是动触点，上下各一个静触点，线圈不通电时，动触点和其中一个静触点断开和另一个闭合，线圈通电后，动触点就移动，使原来断开的成闭合，原来闭合的成断开状态，达到转换的目的。本实用新型的脉冲继电器在一定的脉冲频率下，输出回路不停的在断开与闭合的状态下切换。
[0046]具体的，所述气缸摆动控制电磁阀10的气路是常开的；如果所述气缸摆动控制电磁阀10失电，它会停留在它的初始位置，压缩空气(CDA)依然通过电磁阀到达气缸，将气缸顶在一个终端；如果所述气缸摆动控制电磁阀10上电，电磁阀作切换，CDA依然通过气缸摆动控制电磁阀到达气缸，但是切换了气缸的进气口，使气缸运动直至到另一终端。本实用新型中，所述气缸摆动控制阀的通断电状态由所述脉冲电磁阀控制，因此所述气缸5往复运动的频率与所述脉冲继电器的脉冲频率相同。
[0047]具体的，所述摇杆7通过气缸连接组件、曲柄机构及摇臂与所气缸连接。请参阅图
3,显示为所述SPM喷淋系统的俯视结构示意图，如图所示,所述气缸连接组件16左端连接所述气缸2中的活塞件17，所述气缸连接组件16右端连接所述曲柄机构18左端，所述摇臂19设置于摇杆7的顶端并与所述曲柄机构18右端连接。所述输液臂8可为直线状，也可为弯折状(如图3所示)，所述输液臂8为弯折状有利于节省所述收容空腔的空间。所述摇杆7与所述安装支座6之间还可增加其他连接件如轴承、隔套、套筒、螺丝等以增加稳定性，此为公知常识，此处不再赘述。
[0048]本实用新型的去胶机台的使用方法如下:将光掩模板放置于所述卡盘3上卡紧并使所述光掩模板随着所述卡盘的旋转而旋转；根据所述光掩模板的尺寸计算所需的输液臂摆动角度，通过调节所述气缸上的节流阀获得所需的气缸活塞件运动速度从而得到需要的输液臂的摆出和摆回速度，通过设定所述脉冲继电器的脉冲频率控制所述气缸往复运动的频率从而控制所述摇杆来回转动的频率进而控制所述输液臂摆出和摆回的频率，获得需要的输液臂摆动角度；SPM (Sulphoacid Peroxide Mixed,硫酸-过氧化氢混合液)从所述输液接头9进入所述输液臂并来回喷洒在光掩模板上。
[0049]综上所述，本实用新型的气缸控制模块中加入了脉冲继电器，去胶机台工作时，输液臂端部从光掩模板中心位置至光掩模板边缘来回摆动，使光掩模板的中心至边缘在整个工艺过程中都可以得到足够的反应温度和反应浓度，提升整体去胶能力，提升工艺成品率，并相应缩短工艺时间，提高产量。通过调节气缸上的节流阀，可以获得所需的气缸运动速度，从而得到需要的输液臂的摆出和摆回速度；通过设定脉冲继电器的频率，可以获得气缸的摆动周期，从而获得需要的输液臂的摆动角度来满足不同尺寸光掩模板所需要的工艺设定。所以，本实用新型有效克服了现有技术中的种种缺点而具高度产业利用价值。
[0050]上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属【技术领域】中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。
【权利要求】
1.一种去胶机台，所述去胶机台包括一由腔底和环绕所述腔底一周的腔壁组成的收容空腔；所述腔底上设置有一用于承载光掩模板并带动所述光掩模板旋转的卡盘；所述腔壁上设置有一 SPM喷淋系统；所述SPM喷淋系统至少包括气缸控制模块、与所述气缸控制模块连接的气缸、与所述气缸连接的安装支座、及安装于所述安装支座上与所述气缸连接并随着所述气缸的往复运动来回转动的摇杆；所述摇杆底端弯折连接有一随着所述摇杆的来回转动来回摆动的输液臂；所述摇杆侧壁设置有一与所述输液臂连通的液体接头；所述气缸的进气端设有用以控制所述气缸运动速度的节流阀，其特征在于:所述气缸控制模块包括气缸摆动控制电磁阀及脉冲继电器；所述脉冲继电器包括输入回路和输出回路；所述气缸摆动控制电磁阀连接于所述输出回路中；所述输入回路控制所述输出回路的通断从而控制所述气缸摆动控制电磁阀的通断电状态进而控制所述气缸的往复运动。
2.根据权利要求1所述的去胶机台，其特征在于:所述摇杆依次通过摇臂、曲柄机构及气缸连接组件与所述气缸连接。
3.根据权利要求1所述的去胶机台，其特征在于:所述输液臂的摆动角度范围是O?90。。
4.根据权利要求1所述的去胶机台，其特征在于:所述液体接头与一SPM混合组件连接。
5.根据权利要求1所述的去胶机台，其特征在于:所述输液臂为直线状或弯折状。
6.根据权利要求1所述的去胶机台，其特征在于:所述脉冲继电器采用电磁继电器。
7.根据权利要求1所述的去胶机台，其特征在于:所述脉冲继电器为动合型、动断型或转换型。
【文档编号】H01L21/027GK203481189SQ201320524034
【公开日】2014年3月12日 申请日期:2013年8月26日 优先权日:2013年8月26日
【发明者】成立炯, 陈健清, 胡平 申请人:上海凸版光掩模有限公司