真空室和质量分析电磁铁的制作方法

文档序号:12485441阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种真空室,其特征在于,

所述真空室构成带状束的输送路径,

当把通过所述真空室内的所述带状束的行进方向设为Z方向、把所述带状束的长度方向设为Y方向、把与Z方向和Y方向垂直的方向设为X方向时,

在Y方向上的所述真空室的端部区域中,越朝向所述真空室的端部去,X方向上的所述真空室的内部尺寸越小。

2.根据权利要求1所述的真空室,其特征在于,在所述真空室的端部区域中,伴随X方向上的所述带状束的尺寸沿Z方向变化,X方向上的所述真空室的内部尺寸沿Z方向变化。

3.根据权利要求1或2所述的真空室,其特征在于,所述真空室的内壁形状为相对于包含所述带状束的中心的Y方向在X方向上非对称。

4.根据权利要求1或2所述的真空室,其特征在于,在所述真空室的端部区域配置有多个导电性板。

5.根据权利要求3所述的真空室,其特征在于,在所述真空室的端部区域配置有多个导电性板。

6.根据权利要求4所述的真空室,其特征在于,所述真空室和所述导电性板的电位不同。

7.根据权利要求5所述的真空室,其特征在于,所述真空室和所述导电性板的电位不同。

8.根据权利要求6所述的真空室,其特征在于,

所述带状束具有正电荷,

所述导电性板的电位比所述真空室的电位低。

9.根据权利要求7所述的真空室,其特征在于,

所述带状束具有正电荷,

所述导电性板的电位比所述真空室的电位低。

10.一种质量分析电磁铁,其特征在于,所述质量分析电磁铁包括权利要求1至9中任意一项所述的真空室。

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