1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板上设置有功能膜层，在至少一层所述功能膜层的远离所述显示基板的一侧包括凸出阵列；其中，所述显示基板与另一显示基板对盒时，所述凸出阵列对应的凸起用于嵌入所述显示基板与另一显示基板之间的封框胶。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述凸出阵列由凸出子阵列排列形成；每个所述凸出子阵列包括平坦部分以及设置于平坦部分上的至少一个凸起部分。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述功能膜层包括第一功能膜层、第二功能膜层；所述第一功能膜层的一侧与所述显示基板接触，所述第二功能膜层的一侧与所述第一功能膜层的另一侧接触；所述第二功能膜层包括所述凸出阵列；在所述第二功能膜层上远离所述显示基板的一侧形成有凸出阵列；其中，所述平坦部分以及设置于所述平坦部分上的至少一个凸起部分位于所述第一功能膜层上。
4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，在所述第一功能膜层的远离所述显示基板的一侧设置有所述凸出阵列。
5.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述功能膜层还包括第三功能膜层；
所述第三功能膜层覆盖所述平坦部分，且所述第三功能膜层的厚度小于所述凸起部分的厚度；所述第三功能膜层上设置有至少一个过孔，所述设置于所述平坦部分上的至少一个凸起部分的顶部穿过所述过孔。
6.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述功能膜层还包括第三功能膜层；
所述第三功能膜层覆盖所述平坦部分和设置于所述平坦部分上的凸起部分。
7.根据权利要求5或6所述的显示基板，其特征在于，所述第三功能膜层包括与所述第一功能膜层接触的部分。
8.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，至少一层所述功能膜层包括凹孔区域和非凹孔区域；所述凸出阵列位于所述非凹孔区域。
9.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述凸起部分的顶部为弧面。
10.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述平坦部分以及设置于平坦部分上的至少一个凸起部分为金属。
11.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述第一功能膜层为缓冲层，所述缓冲层的材料包含SiNx或者SiO2的至少一种。
12.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述第二功能膜层为金属层。
13.根据权利要求6或7所述的显示基板，其特征在于，所述第三功能膜层为绝缘层；所述绝缘层的材料包含SiNx或者SiO2的至少一种。
14.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括如下：
在显示基板上形成至少一层功能膜层；
在至少一层所述功能膜层远离所述显示基板的一侧形成凸出阵列；其中，所述显示基板与另一显示基板对盒时，所述凸出阵列对应的凸起用于嵌入所述显示基板与另一显示基板之间的封框胶。
15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，所述功能膜层包括第一功能膜层，在所述显示基板上制作所述第一功能膜层包括如下步骤：
在所述显示基板上利用沉积工艺形成第一功能膜层；
在所述第一功能膜层上涂覆第一光刻胶层，并进行第一次曝光显影，在所述第一光刻胶层上形成凹孔区域与非凹孔区域的图案；
在第一次曝光显影后的显示基板上通过刻蚀工艺在所述第一功能膜层上形成凹孔区域与非凹孔区域，并剥离所述第一光刻胶层。
16.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，所述在所述功能膜层远离所述显示基板的一侧形成凸出阵列包括如下步骤：
形成第一功能膜层；
在形成所述第一功能膜层的所述显示基板上通过沉积工艺制备第一材料层；
涂覆覆盖所述第一材料层的第二光刻胶层，并进行第二次曝光显影，在所述第二光刻胶层上所述第一功能膜层的非凹孔区域对应的位置形成所述平坦部分的图案；
在第二次曝光显影后的所述显示基板通过刻蚀工艺在所述第一材料层上形成所述平坦部分，并剥离所述第二光刻胶层；
在形成所述平坦部分的所述显示基板上通过沉积工艺制备第三材料层；
涂覆覆盖所述第三材料层的第三光刻胶层，并进行第三次曝光显影，在所述第三光刻胶层上所述平坦部分对应的位置形成所述第三功能膜层的图案；
在第三次曝光显影后的所述显示基板通过刻蚀工艺形成所述第三功能膜层，并剥离所述第三光刻胶层；其中，所述第三功能膜层覆盖所述平坦部分；
涂覆覆盖所述第三功能膜层的第四光刻胶层，并进行第四次曝光显影，在所述第四光刻胶层上形成过孔的图案；
在第四次曝光显影后的所述显示基板通过刻蚀工艺在所述第三功能膜层上形成所述过孔；
在形成过孔的显示基板上制备第二材料层，所述第二材料层通过所述过孔与所述平坦部分连接；
涂覆覆盖所述第二材料层的第五光刻胶层，并进行第五次曝光显影，在所述第五光刻胶层上保留所述凸起部分对应的光刻胶；
在第五次曝光显影后的所述显示基板通过刻蚀工艺在所述第二材料层上形成所述凸起部分，并剥离所述第四光刻胶层和所述第五光刻胶层，形成包含平坦部分和设置于平坦部分上的凸起部分的第二功能膜层。
17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，在所述第五光刻胶层上保留所述凸起部分对应的光刻胶与所述凸起部分顶部的形状相同。
18.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，所述在所述功能膜层远离所述显示基板的一侧形成凸出阵列包括如下步骤：
形成第一功能膜层；在形成所述第一功能膜层的所述显示基板上通过沉积工艺制备第一材料层；
涂覆覆盖所述第一材料层的第二光刻胶层，并进行第二次曝光显影，在所述第二光刻胶层上所述第一功能膜层的非凹孔区域对应的位置形成所述平坦部分的图案；
在第二次曝光显影后的所述显示基板通过刻蚀工艺在所述第一材料层上形成所述平坦部分，并剥离所述第二光刻胶层；
涂覆覆盖所述平坦部分的第三光刻胶层，并通过第三次曝光显影，在所述第三光刻胶层上所述平坦部分的凸起部分对应的位置形成过孔的图案；
在第三次曝光显影后的显示基板上通过沉积工艺在所述第三光刻胶层上形成第二材料层；其中所述第二材料层通过所述过孔与所述平坦部分连接；
涂覆覆盖所述第二材料层的第四光刻胶层，并进行第四次曝光显影，在所述第四光刻胶层上保留所述凸起部分对应的光刻胶；
在第四次曝光显影后的所述显示基板通过刻蚀工艺在所述第二材料层上形成所述凸起部分，并剥离所述第三光刻胶层和所述第四光刻胶层，形成包含平坦部分和设置与平坦部分上的凸起部分的第二功能膜层；
在第四次曝光显影后的显示基板上通过沉积工艺形成覆盖所述第二功能膜层的第三材料层；
涂覆覆盖所述第三材料层的第五光刻胶层，并进行第五次曝光显影，在所述第五光刻胶层上形成所述第三功能膜层的图案；
在第五次曝光显影后的所述显示基板通过刻蚀工艺在所述第三材料层上形成所述第三功能膜层，并剥离所述第五光刻胶层。
19.根据权利要求18所述的方法，其特征在于，在所述第四光刻胶层上保留的所述凸起部分对应的光刻胶与所述凸起部分顶部的形状相同。
20.一种显示设备，其特征在于，包含权利要求1-13任一所述的显示基板。