技术特征：
技术总结
一种微影方法，包括形成第一层于基板上；形成图案化光致抗蚀剂层于第一层上；施加溶液于图案化光致抗蚀剂层上，以形成顺应层于图案化光致抗蚀剂层上，其中顺应层还包括第一部分于图案化光致抗蚀剂层的上表面上，以及第二部分沿着图案化光致抗蚀剂层的侧壁延伸；选择性移除图案化光致抗蚀剂层的上表面上的顺应层的第一部分；以及选择性移除图案化光致抗蚀剂层，以保留顺应层的第二部分。
技术研发人员：郑雅玲;王筱姗;陈建志;林纬良;陈俊光;张庆裕
受保护的技术使用者：台湾积体电路制造股份有限公司
技术研发日：2016.12.21
技术公布日：2017.09.12