一种接触器的动触杆总成结构的制作方法

文档序号:11762392阅读:184来源:国知局

本实用新型属于直流接触器技术领域,更具体地说,涉及一种接触器的动触杆总成结构。



背景技术:

现有技术中直流接触器动触点多为向下布置,通过磁吸力向下接通,但为了满足布置需要触点向上运动接通难以实现,有些可实现的接触器产品结构比较复杂,成本高,且使用寿命较短。



技术实现要素:

本实用新型的目的是解决现有技术存在的问题,提供一种结构简单,成本低,使用寿命长,可实现接触器反向向上接通的接触器的动触杆总成结构。

为了实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:所提供的这种接触器动触杆总成结构,包括设在该接触器下方的电磁线圈,在所述接触器中部连接有向下伸出的连接推杆,所述连接推杆端部连接置于所述电磁线圈中心的铁轴,在所述电磁线圈的内圈设有与所述铁轴相对的铁环,所述铁环表面设有润滑涂层。

为使上述技术方案更加详尽和具体,本实用新型还提供以下更进一步的优选技术方案,以获得满意的实用效果:

在接触器两触头之间的壳体上设有安装孔,所述连接推杆安装连接至所述安装孔内。

所述铁轴套在所述连接推杆上,所述铁轴下端设有限制其位置的 限位挡块。

在所述连接推杆上还设有弹簧,所述弹簧套在位于所述铁轴上方的连接推杆处。

所述铁环及铁轴采用电工纯铁材质制成。

本实用新型与现有技术相比,具有以下优点:本实用新型接触器的动触杆总成结构,动触杆总成结构结构简单,成本低,使用寿命长,可实现接触器反向向上接通;润滑涂层解决了纯铁与纯铁之间摩擦问题,具有工艺方便,润滑可靠的特点,具有强的实用性。

附图说明

下面对本说明书的附图所表达的内容及图中的标记作简要说明:

图1为本实用新型结构示意图;

图中标记为:1、电磁线圈,2、铁环,3、铁轴,4、连接推杆,5、弹簧,6、触头。

具体实施方式

下面对照附图,通过对实施例的描述,对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的说明。

本实用新型接触器动触杆总成结构,如图1所示,包括设在该接触器下方的电磁线圈1,在接触器中部连接有向下伸出的连接推杆4,连接推杆4端部连接有置于电磁线圈1中心的铁轴3,在电磁线圈1的内圈设有与铁轴3相对的铁环2,铁环2表面设有润滑涂层。采用此种结构,电磁线圈1通电后,产生磁场,磁化铁环2和铁轴3,铁环2和铁轴3同磁性,由于磁场特性同磁性相排斥,铁环2推动铁轴 3向上运动,在磁场作用下实现,电源开关动触点和静触点吸合,断开电源时,磁场消失,铁轴3复位,在接通和断开之间实现往复运动。

在接触器两触头6之间的壳体上设有安装孔,连接推杆4安装连接至安装孔内;铁轴3套在连接推杆4上,铁轴3下端设有限制其位置的限位挡块,限位挡块的下端可通过紧固螺母固定。

在连接推杆4上还设有弹簧5,弹簧5套在位于铁轴上方的连接推杆4处,此处弹簧可起到缓冲及复位的作用。

铁环2及铁轴3均采用电工纯铁材质,该材质比较软,不耐磨,本实用新型中在铁环2表面设有润滑涂层,减轻铁环2与铁轴3之间的摩擦力,使其耐久使用。

接触器动触杆总成结构中的铁环2表面设有润滑涂层,铁环润滑涂层涂覆工艺方法,包括如下步骤:

1)铁环2表面去油脱脂;

2)表面喷砂预处理;

3)静电喷涂聚四氟乙烯层;

4)固化;

5)冷却。

步骤1)中,将铁环2放入烧杯中,倒入脱油化学试剂没过铁环2,然后将装有铁环2的烧杯放入超声波清洗机中清洗1-1.5小时。

其中,脱油化学试剂采用草酸钠、酒石酸钠、去离子水,按照质量比3:2:1.5:1比例混合而成。

步骤2)中,对铁环2的内外表面进行喷砂处理,采用18-24目 的金刚砂,喷砂压力1.8-2.2MPa,喷砂时间20-30分钟。

步骤3)中,聚四氟乙烯层喷涂厚度0.1-0.12mm。采用聚四氟乙烯(铁氟龙)耐磨损,不粘附的特性,用在纯铁的铁环2与铁轴3之间解决了摩擦问题。

步骤4)中,采用阶梯温度固化工艺,升温至100℃保温10分钟,然后升温至200℃保温15分钟,再升温至280℃保温10分钟,升温至380℃保温25分钟。采用阶梯固化温度可以有效的避免铁氟龙固化过程中收缩问题。

步骤5)中,冷却时,由380℃降温到300℃保温20分钟,然后降温到245℃保温45分钟,再降温到120℃保温15分钟,关闭烘箱冷却至室温。本发明的冷却分阶段冷却的好处在于,对电工纯铁加工过程中的产生的硬化起到退火作用。

本实用新型接触器的动触杆总成结构,其结构简单,成本低,使用寿命长,可实现接触器反向向上接通;采用聚四氟乙烯(铁氟龙)耐磨损,不粘附的特性,经过特殊的涂覆工艺解决了纯铁与纯铁之间摩擦问题,具有工艺方便,润滑可靠的特点,具有较强的实用性。

上面结合附图,对本实用新型进行了示例性描述,显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进,或未经改进将本实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本实用新型的保护范围之内。

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