显示设备的制作方法

在此的本公开的实施例的一个或更多个方面涉及一种显示设备，更具体地，涉及一种包括高密度无机层的显示设备。

背景技术：

正在开发可以用于诸如电视机、移动电话、平板计算机、导航装置和游戏机的多媒体装置中的各种显示设备。显示设备通常包括键盘或鼠标作为输入单元。另外，近年来，显示设备可以包括触摸面板作为输入单元。

显示设备在被发布到市场之前，在恶劣条件下经历可靠性评估。只有通过可靠性评估的产品然后才被卖给消费者。

技术实现要素：

本公开的实施例的一个或更多个方面涉及一种在恶劣条件下表现出改善的可靠性的显示设备。

发明构思的实施例提供了一种显示设备，所述显示设备包括有机发光显示面板、窗口、第一导电层、第二导电层、至少一个无机层以及有机层。有机发光显示面板可以包括基础层、位于基础层上的电路层、位于电路层上的发光元件层以及位于发光元件层上的薄膜包封层。第一导电层可以直接位于薄膜包封层上，第二导电层可以位于薄膜包封层上，其中第二导电层可以位于除了第一导电层之外的层上。所述至少一个无机层可以位于薄膜包封层上并且可以具有大约2.05g/cm³至大约2.4g/cm³的密度，有机层可以位于所述至少一个无机层上。窗口可以面对有机发光显示面板，第一导电层、所述至少一个无机层以及有机层位于窗口与有机发光显示面板之间。

在实施例中，所述至少一个无机层可以包括具有大约2.05g/cm³至大约2.4g/cm³的密度的氮化硅层。

在实施例中，薄膜包封层可以包括：多个无机薄膜；至少一个有机薄膜，位于所述多个无机薄膜之间。

在实施例中，所述至少一个无机层可以包括：第一无机层，位于第一导电层和第二导电层之间；第二无机层，位于第一导电层和第二导电层上。

在实施例中，所述至少一个无机层可以位于第一导电层与第二导电层之间，有机层可以直接在第二导电层上。

在实施例中，显示设备还可以包括被构造为将窗口结合到有机发光显示面板的有机粘合层。

在实施例中，所述至少一个无机层可以直接在第二导电层上，并且显示设备还可以包括位于第一导电层与第二导电层之间的中间绝缘层。

在实施例中，有机层可以包括被构造为将窗口结合到有机发光显示面板的有机粘合层。

在实施例中，显示设备还可以包括位于所述至少一个无机层与窗口之间的偏振膜。

在实施例中，第一导电层可以包括桥接部，并且第二导电层可以包括：连接部，分别与桥接部交叉；第一触摸传感器部，连接部分别将相邻的第一触摸传感器部连接；第二触摸传感器部，桥接部分别将相邻的触摸传感器部连接。

在实施例中，发光元件层可以包括发射区域和与发射区域相邻的非发射区域，第一触摸传感器部和第二触摸传感器部中的每个可以具有网格图案并且可以与非发射区域叠置。

在实施例中，第一导电层可以包括：连接部；第一触摸传感器部，连接部分别将相邻的第一触摸传感器部连接；第二触摸传感器部，与第一触摸传感器部间隔开。第二导电层可以包括桥接部，桥接部分别将相邻的第二触摸传感器部连接并且分别与连接部交叉。

在实施例中，第一导电层可以包括第一连接部和第一触摸传感器部，第一连接部分别将相邻的第一触摸传感器部连接。第二导电层可以包括：第二连接部，分别与第一连接部交叉；第二触摸传感器部，第二连接部分别将相邻的第二触摸传感器部连接。

在实施例中，由第一导电层反射的第一反射光和由第二导电层反射的第二反射光之间可以具有大约180°的相位差。

在实施例中，所述至少一个无机层可以包括：第一无机层，位于第一导电层与第二导电层之间；第二无机层，在第一导电层和第二导电层上。

在实施例中，窗口可以包括塑料膜。有机层可以包括与窗口接触的有机粘合层。

在发明构思的实施例中，显示设备可以包括有机发光显示面板、触摸感测单元、有机粘合层和窗口。有机发光显示面板可以包括基础层、位于基础层上的电路层、位于电路层上的发光元件层以及位于发光元件层上的包封层。触摸感测单元可以直接在薄膜包封层上，有机粘合层可以在触摸感测单元上。窗口可以面对有机发光显示面板，触摸感测单元和有机粘合层位于窗口与有机发光显示面板之间。

触摸感测单元可以包括：导电图案，直接在薄膜包封层上；绝缘层，覆盖导电图案。绝缘层可以包括具有大约2.05g/cm³至大约2.4g/cm³的密度的无机层。

在发明构思的实施例中，显示设备可以包括：显示面板，包括第一无机层；第一导电图案，直接位于第一无机层上；第一绝缘层，覆盖第一导电图案；第二导电图案，直接位于第一绝缘层上；第二绝缘层，覆盖第二导电图案；有机粘合层，位于第二绝缘层上；窗口，面对显示面板，有机粘合层位于窗口与显示面板之间。第一绝缘层和第二绝缘层中的至少一个可以包括具有大约2.05g/cm³至大约2.4g/cm³的密度的无机层。

在发明构思的实施例中，包括在第一绝缘层和第二绝缘层中的至少一个中的无机层可以包括氮化硅层。

附图说明

包括附图以提供对发明构思的进一步理解，附图包括在本说明书中并构成本说明书的一部分。附图示出了发明构思的示例实施例，并且与说明书一起用于解释发明构思的原理。在附图中：

图1a是示出了根据发明构思的实施例的显示设备的第一操作模式的透视图；

图1b是示出了根据发明构思的实施例的显示设备的第二操作模式的透视图；

图1c是示出了根据发明构思的实施例的显示设备的第三操作模式的透视图；

图2是根据发明构思的实施例的显示设备的剖视图；

图3a和图3b是根据发明构思的实施例的显示设备的透视图；

图4a是根据发明构思的实施例的显示模块的剖视图；

图4b是根据发明构思的实施例的有机发光显示面板的平面图；

图4c是根据发明构思的实施例的像素的等效电路图；

图4d和图4e是根据发明构思的实施例的有机发光显示面板的局部剖视图；

图5a至图5c是根据发明构思的一个或更多个实施例的薄膜包封层的剖视图；

图6a是根据发明构思的实施例的触摸感测单元的剖视图；

图6b至图6e是根据发明构思的一个或更多个实施例的触摸感测单元的平面图；

图7a是图6e的区域aa的局部放大图；

图7b是图7a的局部剖视图；

图7c是图6b的局部剖视图；

图8a是示出了显示设备中发生气泡缺陷的剖视图；

图8b是示出了显示设备中发生气泡缺陷的照片；

图9是示出了根据层密度的气泡缺陷的示图；

图10a是根据发明构思的实施例的显示设备的剖视图；

图10b是根据发明构思的实施例的显示设备的放大剖视图；以及

图11是根据发明构思的实施例的显示设备的剖视图。

具体实施方式

在下文中，将参照附图描述发明构思的实施例。在本说明书中，将理解的是，当一个组件(或区域、层、部分)被称作“在”另一个组件“上”、“连接到”或“结合到”另一个组件时，该组件可以直接在所述另一个组件上或直接连接到/结合到所述另一个组件，或者也可以存在一个或更多个中间组件。

同样的附图标号始终表示同样的元件。另外，在附图中，为了图示清楚，夸大了组件的厚度、比例和尺寸。术语“和/或”包括一个或更多个相关所列项目的任何和所有组合。诸如“……中的一个(种)(者)”和“从……中选择的”的表述位于一列元件(要素)之后时，修饰整列的元件(要素)，而不是修饰该列中的个别元件(要素)。此外，在描述本发明的实施例时使用“可以”表示“本发明的一个或更多个实施例”。

将理解的是，虽然在此使用术语“第一”和“第二”来描述各种元件，但是这些元件不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个组件与其它组件区分开。例如，在不脱离所附权利要求的范围的情况下，在一个实施例中被称作“第一元件”的元件可以在另一实施例中被称作“第二元件”。除非另外明确地说明，否则单数形式的术语可以包括复数形式。

另外，这里使用术语“在……之下”、“在……下方”、“在……上方”、“上面的”等来说明附图中所示的一个或更多个组件之间的关系。如此，这些术语可以是描述组件在附图中的位置的相对术语，但是组件的位置不限于此。

还将理解的是，术语“包括”或“包含”的含义可以说明性质、固定数量、步骤、操作、元件、组件或它们的组合，但是不排除其它性质、固定数量、步骤、操作、元件、组件或它们的组合。

图1a是示出了根据发明构思的实施例的显示设备dd的第一操作模式的透视图。图1b是示出了根据发明构思的实施例的显示设备dd的第二操作模式的透视图。图1c是示出了根据发明构思的实施例的显示设备dd的第三操作模式的透视图。

如图1a中所示，在第一操作模式中，显示图像im的显示表面is平行于由第一方向轴dr1和第二方向轴dr2限定的表面。与显示表面is正交的方向(即，显示设备dd的厚度方向)以第三方向轴dr3表示。显示设备dd的前表面(或顶表面)和后表面(或底表面)沿着第三方向轴dr3布置。然而，以第一方向轴至第三方向轴dr1、dr2和dr3表示的方向可以是相对概念，并且不限于附图中所示的第一方向轴至第三方向轴。在下文中，为了便于解释，如在此使用的这些术语，第一方向至第三方向可以分别由第一方向轴至第三方向轴dr1、dr2和dr3表示或者由相同的附图标记指定。

图1a至图1c示出了作为柔性显示设备dd的示例的可折叠显示设备。在一些实施例中，显示设备dd可以是可卷曲的或可弯曲的显示设备，但是不具体地限制于此。虽然在当前实施例中示出了柔性显示设备，但是发明构思的实施例不限于此。根据当前实施例的显示设备dd可以是平面刚性显示设备。根据发明构思的实施例的柔性显示设备dd可以用于诸如电视机和监视器的大尺寸电子装置以及诸如移动电话、平板pc、车载导航仪、游戏机和智能手表的小尺寸和中尺寸电子装置中。

如图1a中所示，柔性显示设备dd的显示表面is可以包括多个区域。柔性显示设备dd包括显示图像im的显示区域dd-da以及与显示区域dd-da相邻的非显示区域dd-nda。非显示区域dd-nda可以是不显示图像的区域。图1a示出了花瓶作为图像im的示例。例如，显示区域dd-da可以具有矩形形状。非显示区域dd-nda可以围绕显示区域dd-da。然而，发明构思的实施例不限于此。例如，显示区域dd-da和非显示区域dd-nda可以具有彼此相关的各种形状和位置。

如图1a至图1c中所示，显示设备dd可以包括根据操作模式限定的多个区域。显示设备dd可以包括沿着弯曲轴bx弯曲的弯曲区域ba、不弯曲的第一非弯曲区域nba1和不弯曲的第二非弯曲区域nba2。如图1b中所示，显示设备dd可以向内弯曲，使得第一非弯曲区域nba1的显示表面is和第二非弯曲区域nba2的显示表面is面对彼此。如图1c中所示，显示设备dd也可以向外弯曲，使得显示表面is暴露于外部。

在发明构思的实施例中，显示设备dd可以包括多个弯曲区域ba。另外，可以根据用户的操纵显示设备dd的操作来在显示设备dd上限定弯曲区域ba。例如，弯曲区域ba可以平行于第一方向轴dr1布置或者可以沿对角线方向延伸。弯曲区域ba的面积可以不是固定的，而是可以根据弯曲区域的曲率半径来确定。在发明构思的实施例中，显示设备dd可以具有仅重复图1a和1b的操作模式的形状。

图2是根据发明构思的实施例的显示设备dd的剖视图。图2示出了由第二方向轴dr2和第三方向轴dr3限定的剖面。

如图2中所示，显示设备dd包括保护膜pm、显示模块dm、光学构件lm、窗口wm、第一粘合构件am1、第二粘合构件am2和第三粘合构件am3。显示模块dm设置在保护膜pm与光学构件lm之间。光学构件lm设置在显示模块dm与窗口wm之间。第一粘合构件am1结合到显示模块dm和保护膜pm，第二粘合构件am2结合到显示模块dm和光学构件lm，第三粘合构件am3结合到光学构件lm和窗口wm。

保护膜pm保护显示模块dm。保护膜pm提供了暴露于外部的第一外表面os-l和粘附到第一粘合构件am1的粘合表面(与第一外表面os-l相对)。保护膜pm可以防止或减少外部的湿气渗透到显示模块dm中并且可以吸收外部冲击。

保护膜pm可以包括塑料膜作为基础层。保护膜pm可以包括从聚醚砜(pes)、聚丙烯酸酯(par)、聚醚酰亚胺(pei)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚苯硫醚(pps)、聚烯丙酯(polyallylate)、聚酰亚胺(pi)、聚碳酸酯(pc)、聚(亚芳基醚砜)和它们的组合中选择的至少一种。

用于形成保护膜pm的材料不限于塑料树脂。例如，保护膜pm可以包括有机/无机复合材料。在一些实施例中，保护膜pm可以包括多孔有机层和填充到有机层的孔中的无机材料。保护膜pm还可以包括设置(例如，布置)在塑料膜上的功能层。功能层可以包括树脂层。功能层可以通过涂覆来形成。在发明构思的实施例中，可以省略保护膜pm。

窗口wm可以保护显示模块dm免受外部冲击的影响，并且可以为用户提供输入表面。窗口wm包括暴露于外部的第二外表面os-u和粘附到第三粘合构件am3的粘合表面(与第二外表面os-u相对)。图1a至1c中所示的显示表面is可以是第二外表面os-u。

窗口wm可以包括塑料膜。在一些实施例中，窗口wm可以包括多层结构。例如，窗口wm可以具有包括从玻璃基底、塑料膜和塑料基底中选择的两个或更多个的多层结构。窗口wm还可以包括边框图案。多层结构可以通过连续工艺(例如，连续沉积工艺)或使用粘合层的粘合工艺来形成。

光学构件lm可以降低外部光的反射性(例如，减少外部光的反射)。光学构件lm可以包括偏振膜。光学构件lm可以包括相位差膜。在发明构思的实施例中，可以省略光学构件lm。

显示模块dm可以包括有机发光显示面板dp和触摸感测单元ts。触摸感测单元ts可以直接设置在有机发光显示面板dp上。在本说明书中，术语“组件a1直接设置在组件b1上”指的是组件a1和组件b1通过连续工艺(例如，连续沉积工艺)来形成。换句话说，组件a1和组件b1之间不安置粘合层。

有机发光显示面板dp可以产生与输入的图像数据对应的图像(见例如图1a的附图标记im)。有机发光显示面板dp可以包括在厚度方向dr3上彼此面对的第一显示面板表面bs1-l和第二显示面板表面bs1-u。虽然在当前实施例中描述了有机发光显示面板dp的示例，但是发明构思的实施例不限于上述显示面板。

触摸感测单元ts可以被构造为获取外部输入的坐标信息。在一些实施例中，触摸感测单元ts可以以电容方式(例如，触摸感测单元ts可以利用电容进行感测)感测外部输入。

根据发明构思的实施例的显示模块dm还可以包括防反射层。防反射层可以包括滤色器或者导电层/绝缘层/导电层的层叠结构。防反射层可以吸收从外部入射的光、与从外部入射的光相消干涉或者使从外部入射的光偏振，以减小外部光的反射率。在一些实施例中，防反射层可以执行光学构件lm的功能。

第一粘合构件am1、第二粘合构件am2和第三粘合构件am3中的每个可以是诸如光学透明粘合膜(oca)、光学透明树脂(ocr)和/或压敏粘合膜(psa)的有机粘合层。有机粘合层可以包括诸如聚氨酯类材料、聚丙烯酸类材料、聚酯类材料、聚环氧类材料和/或聚乙酸乙烯酯类材料的粘合材料。如此，有机粘合层可以对应于多个有机层中的一个。如下所述，有机粘合层会造成气泡的产生。

显示设备dd还可以包括框架结构，该框架结构支撑功能层以保持图1a至图1c中所示的构造。框架结构可以包括连接结构或铰链结构。

图3a和图3b是根据发明构思的实施例的显示设备dd-1的透视图。图3a示出了处于展开状态的显示设备dd-1，图3b示出了处于弯曲状态的显示设备dd-1。

显示设备dd-1可以包括一个弯曲区域ba和一个非弯曲区域nba。例如，弯曲区域ba可以布置在显示设备dd-1的非显示区域dd-nda中。然而，在发明构思的实施例中，可以改变显示设备dd-1的弯曲区域ba的位置。

不同于图1a至图1c的显示设备dd，根据发明构思的实施例的显示设备dd-1可以具有固定形状，其可以在该固定形状下运行。例如，显示设备dd-1可以如图3b中所示的在弯曲状态下运行。显示设备dd-1可以被固定到呈弯曲状态的框架，框架可以结合到电子装置的外壳。

根据发明构思的实施例的显示设备dd-1可以具有与图2的显示设备dd的结构相同(或基本上相同)的结构。然而，显示设备dd-1的非弯曲区域nba和弯曲区域ba可以具有彼此不同的层叠结构。例如，显示设备dd-1的非弯曲区域nba可以具有与图2的显示设备dd的剖面结构相同的剖面结构，而显示设备dd-1的弯曲区域ba可以具有与图2的显示设备dd的剖面结构不同的剖面结构。显示设备dd-1的光学构件lm和窗口wm可以不设置在弯曲区域ba中。例如，光学构件lm和窗口wm可以仅设置在显示设备dd-1的非弯曲区域nba中。另外，第二粘合构件am2和第三粘合构件am3可以不设置在显示设备dd-1的弯曲区域ba中。

图4a是根据发明构思的实施例的显示模块dm的剖视图。图4b是根据发明构思的实施例的有机发光显示面板dp的平面图。图4c是根据发明构思的实施例的像素px的等效电路图。图4d和图4e是根据发明构思的实施例的有机发光显示面板dp的局部剖视图。

如图4a中所示，有机发光显示面板dp包括基础层sub、设置在基础层sub上的电路层dp-cl、发光元件层dp-oled和薄膜包封层tfe。基础层sub可以包括至少一个塑料膜。在一些实施例中，基础层sub可以包括塑料基底、玻璃基底、金属基底和/或作为柔性基底的有机/无机复合基底。

电路层dp-cl可以包括多个绝缘层、多个导电层和/或半导体层。电路层dp-cl的多个导电层可以构成信号线或像素的控制电路。发光元件层dp-oled可以包括有机发光二极管。薄膜包封层tfe可以密封发光元件层dp-oled。薄膜包封层tfe可以包括至少两个无机薄膜和位于所述至少两个无机薄膜之间的至少一个有机薄膜。无机薄膜可以保护发光元件层dp-oled免受湿气/氧的影响，有机薄膜可以保护发光元件层dp-oled免受诸如灰尘颗粒的外来物质的影响。

触摸感测单元ts可以直接设置在薄膜包封层tfe上。触摸感测单元ts可以包括触摸传感器和触摸信号线。触摸传感器和触摸信号线均可以独立地具有单层或多层结构。

触摸传感器和触摸信号线均可以独立地包括氧化铟锡(ito)、氧化铟锌(izo)、氧化锌(zno)和/或氧化铟锡锌(itzo)、pedot、金属纳米线和/或石墨烯。在一些实施例中，触摸传感器和触摸信号线均可以独立地包括由例如钼、银、钛、铜、铝和/或它们的合金形成的金属层。触摸传感器和触摸信号线均可以独立地具有相同的单层结构，或者可以具有彼此不同的层结构。稍后将提供触摸感测单元ts的更详细的描述。

如图4a中所示，有机发光显示面板dp可以包括处于平面上的显示区域da和非显示区域nda。有机发光显示面板dp的显示区域da和非显示区域nda可以分别与显示设备dd的显示区域dd-da和非显示区域dd-nda对应。然而，本发明的实施例不限于分别与显示设备dd的显示区域dd-da和非显示区域dd-nda对应的有机发光显示面板dp的显示区域da和非显示区域nda。例如，可以根据有机发光显示面板dp的结构/设计来改变有机发光显示面板dp的显示区域da和非显示区域nda。

如图4b中所示，有机发光显示面板dp可以包括多条信号线sgl和多个像素px。设置有多个像素px的区域可以被定义为显示区域da。在当前实施例中，非显示区域nda可以被定义为沿着显示区域da的边缘。

多条信号线sgl可以包括栅极线gl、数据线dl、电源线pl和控制信号线csl。栅极线gl可以分别连接到多个像素px中的相应像素px，数据线dl可以分别连接到多个像素px中的相应像素px。电源线pl可以连接到多个像素px。栅极线gl所连接到的栅极驱动电路dcv可以设置(例如布置)在非显示区域nda的一侧上。控制信号线csl可以将控制信号提供到栅极驱动电路dcv。

栅极线gl、数据线dl、电源线pl和控制信号线csl的一部分可以设置在同一层上，而其它部分可以设置在彼此不同的层上。栅极线gl、数据线dl、电源线pl和控制信号线csl中的每条线可以包括信号线单元和连接到信号线单元的端部的信号焊盘单元。示出了控制焊盘单元csl-p、数据焊盘单元dl-p和电源焊盘单元pl-p作为信号焊盘单元的示例。在一些实施例中，栅极焊盘单元也可以与栅极驱动电路dcv叠置并且可以连接到栅极驱动电路dcv。

图4c示出了连接到一条栅极线gl、一条数据线dl和一条电源线pl的像素px的示例。然而，发明构思的实施例不限于附图中所示的像素px的构造。例如，像素px可以在构造上变化。

像素px包括作为显示器件的有机发光二极管oled。有机发光二极管oled可以是顶发射二极管或底发射二极管。像素px包括作为用于驱动有机发光二极管oled的电路单元的第一晶体管tft1(例如，开关晶体管)、第二晶体管tft2(例如，驱动晶体管)和电容器cap。

第一晶体管tft1响应于施加到栅极线gl的扫描信号而输出施加到数据线dl的数据信号。电容器cap充有与从第一晶体管tft1接收的数据信号对应的电压。

第二晶体管tft2连接到有机发光二极管oled。第二晶体管tft2与存储在电容器cap中的电荷量对应地控制流经有机发光二极管oled的驱动电流。有机发光二极管oled在第二晶体管tft2的导通时间段期间发光。

图4d是与图4c的等效电路的第一晶体管tft1和电容器cap对应的部分的剖视图。图4e是与图4c的等效电路的第二晶体管tft2和有机发光二极管oled对应的部分的剖视图。

如图4d和图4e中所示，电路层dp-cl设置在基础层sub上。第一晶体管tft1的半导体图案al1(在下文中，被称作第一半导体图案)和第二晶体管tft2的半导体图案al2(在下文中，被称作第二半导体图案)可以设置在基础层sub上。第一半导体图案al1和第二半导体图案al2可以相同或不同，并且均可以独立地选自非晶硅、多晶硅和金属氧化物半导体。

在一些实施例中，还可以在基础层sub的一个表面上设置功能层。功能层可以包括从阻挡层和缓冲层中选择的至少一个。第一半导体图案al1和第二半导体图案al2均可以独立地设置在阻挡层和/或缓冲层上。

覆盖第一半导体图案al1和第二半导体图案al2的第一绝缘层12设置在基础层sub上。第一绝缘层12包括有机层和/或无机层。例如，第一绝缘层12可以包括多个无机薄膜。所述多个无机薄膜可以包括氮化硅层和/或氧化硅层。

第一晶体管tft1的控制电极ge1(在下文中，被称作第一控制电极)和第二晶体管tft2的控制电极ge2(在下文中，被称作第二控制电极)均可以独立地设置在第一绝缘层12上。电容器cap的第一电极e1设置在第一绝缘层12上。第一控制电极ge1、第二控制电极ge2和第一电极e1均可以独立地通过与栅极线gl(图4c中所示)的光刻工艺相同的光刻工艺来制造。例如，第一电极e1可以与栅极线gl由相同的材料形成，第一电极e1可以与栅极线gl具有相同的层叠结构，并且第一电极e1可以与栅极线gl设置在同一层上。

覆盖第一控制电极ge1和第二控制电极ge2以及第一电极e1的第二绝缘层14设置在第一绝缘层12上。第二绝缘层14包括有机层和/或无机层。例如，第二绝缘层14可以包括多个无机薄膜。所述多个无机薄膜可以包括氮化硅层和/或氧化硅层。

数据线dl(图4c中所示)可以设置在第二绝缘层14上。第一晶体管tft1的输入电极se1(在下文中，被称作第一输入电极)和输出电极de1(在下文中，被称作第一输出电极)可以设置在第二绝缘层14上。第二晶体管tft2的输入电极se2(在下文中，被称作第二输入电极)和输出电极de2(在下文中，被称作第二输出电极)可以设置在第二绝缘层14上。第一输入电极se1从数据线dl的相应数据线分支。电源线pl(图4c中所示)可以与数据线dl设置在同一层上。第二输入电极se2可以从电源线pl分支。

电容器cap的第二电极e2可以设置在第二绝缘层14上。第二电极e2可以通过与数据线dl和电源线pl中的每个的光刻工艺相同的光刻工艺来制造。例如，第二电极e2可以与数据线dl和电源线pl中的每个由相同的材料形成、具有相同的结构并且设置在同一层上。

第一输入电极se1和第一输出电极de1通过穿过第一绝缘层12和第二绝缘层14的第一通孔ch1和第二通孔ch2连接到第一半导体图案al1。第一输出电极de1可以电连接(例如，电结合)到第一电极e1。例如，第一输出电极de1可以通过穿过第二绝缘层14的通孔(未示出)连接到第一电极e1。第二输入电极se2和第二输出电极de2通过穿过第一绝缘层12和第二绝缘层14的第三通孔ch3和第四通孔ch4连接到第二半导体图案al2。根据发明构思的另一个实施例，第一晶体管tft1和第二晶体管tft2中的每个可以形成为具有底栅结构。

覆盖第一输入电极se1、第一输入电极de1、第二输入电极se2和第二输出电极de2的第三绝缘层16可以设置在第二绝缘层14上。第三绝缘层16包括有机层和/或无机层。例如，第三绝缘层16可以包括提供基本上平坦的表面的有机材料。

在一些实施例中，可以根据像素的电路结构省略第一绝缘层12、第二绝缘层14和第三绝缘层16中的一个。第二绝缘层14和第三绝缘层16中的每个可以是层间介电层。层间介电层可以设置在下导电图案和上导电图案之间，以使导电图案彼此绝缘。

如图4d和图4e中所示，发光元件层dp-oled设置在第三绝缘层16上。在一些实施例中，像素限定层pxl和有机发光二极管oled设置在第三绝缘层16上。例如，有机发光二极管oled的阳极ae可以设置在第三绝缘层16上。阳极ae通过穿过第三绝缘层16的第五通孔ch5连接到第二输出电极de2。开口op限定在像素限定层pxl中。像素限定层pxl的开口op暴露阳极ae的至少一部分。

发光元件层dp-oled可以包括发射区域pxa和与发射区域pxa相邻的非发射区域npxa。例如，非发射区域npxa可以围绕发射区域pxa。在当前实施例中，发射区域pxa被限定为对应于阳极ae。然而，发明构思的实施例不限于上述发射区域pxa。在一些实施例中，只要是光从中发射的区域都可以被限定为发射区域pxa。在一些实施例中，发射区域pxa可以被限定为与阳极ae的被开口op暴露的部分对应。

空穴控制层hcl可以被公共地限定(例如，布置)在发射区域pxa和非发射区域npxa中。在一些实施例中，诸如空穴控制层hcl的公共层可以公共地设置在多个像素px(图4b中所示)上。

有机发光层eml设置在空穴控制层hcl上。有机发光层eml可以仅设置在与开口op对应的区域中。例如，有机发光层eml可以与多个像素px中的每个分开。

电子控制层ecl设置在有机发光层eml上。阴极ce设置在电子控制层ecl上。在一些实施例中，阴极ce公共地设置在多个像素px上(例如，上方)。

虽然在当前实施例中示出了图案化的有机发光层eml(例如，对于每个像素px存在单独的有机发光层eml)作为示例，但是有机发光层eml也可以公共地设置在多个像素px上。在一些实施例中，有机发光层eml可以发射白光。另外，有机发光层eml可以具有多层结构。

在当前实施例中，薄膜包封层tfe直接覆盖阴极ce。在一些实施例中，还可以设置覆盖阴极ce的覆盖层，并且薄膜包封层tfe可以直接覆盖该覆盖层。

图5a至图5c是根据发明构思的一个或更多个实施例的薄膜包封层tfe1、tfe2和tfe3的剖视图。在下文中，将参照图5a至图5c描述根据发明构思的实施例的薄膜包封层tfe1、tfe2和tfe3。

如图5a中所示，薄膜包封层tfe1可以包括n个无机薄膜(例如，可以以iol1至ioln的范围包括无机薄膜)，同时第一无机薄膜iol1接触阴极ce(阴极ce在例如图4d中示出)。第一无机薄膜iol1可以被定义为下无机薄膜，无机薄膜的剩余部分可以被定义为上无机薄膜。

薄膜包封层tfe1包括n-1个有机薄膜ol1至oln-1。这里，n-1个有机薄膜ol1至oln-1和n个无机薄膜iol1至ioln可以相对于彼此交替地设置。n-1个有机薄膜ol1至oln-1中的每个可以具有比n个无机薄膜iol1至ioln中的每个的厚度大的厚度。

n个无机薄膜iol1至ioln中的每个可以具有由一种材料形成的单层结构或者分别由彼此不同的材料形成的多层结构。n-1个有机薄膜ol1至oln-1中的每个可以通过沉积有机单体来形成。有机单体可以是例如丙烯酰基类单体。在发明构思的实施例中，薄膜包封层tfe1还可以包括第n个有机薄膜(例如，当薄膜包封层tfe1还包括第n个有机薄膜时，有机薄膜的总数可以等于无机薄膜的总数)。

现在参照图5b和图5c，薄膜包封层tfe2和tfe3中的每个的无机薄膜可以由彼此相同的材料或彼此不同的材料来形成，并且具有彼此相同的厚度或彼此不同的厚度。薄膜包封层tfe2和tfe3中的每个的有机薄膜可以由彼此相同的有机材料或彼此不同的有机材料来形成，并且具有彼此相同的厚度或彼此不同的厚度。

如图5b中所示，薄膜包封层tfe2可以包括依次层叠的第一无机薄膜iol1、第一有机薄膜ol1、第二无机薄膜iol2、第二有机薄膜ol2和第三无机薄膜iol3。

第一无机薄膜iol1可以具有两层结构。第一无机薄膜iol1的第一子层s1可以是氟化锂层，第二子层s2可以是氧化铝层。第一有机薄膜ol1可以是第一有机单体层，第二无机薄膜iol2可以是第一氮化硅层，第二有机薄膜ol2可以是第二有机单体层，第三无机薄膜iol3可以是第二氮化硅层。

如图5c中所示，薄膜包封层tfe3可以包括依次堆叠(或层叠)的第一无机薄膜iol10、第一有机薄膜ol1和第二无机薄膜iol20。第一无机薄膜iol10可以具有两层结构。第一子层s10可以是氟化锂层，第二子层s20可以是氧化硅层。第一有机薄膜ol1可以是有机单体，第二无机薄膜iol20可以具有两层结构。第二无机薄膜iol20可以包括在彼此不同的沉积环境下沉积的第一子层s100和第二子层s200。第一子层s100可以在较低功率条件下沉积，而第二子层s200可以在高功率条件下沉积。第一子层s100和第二子层s200中的每个可以是氮化硅层。

图6a是根据发明构思的实施例的触摸感测单元ts的剖视图。图6b至图6e是在制造工艺期间的不同阶段(操作/步骤)的根据发明构思的实施例的触摸感测单元ts平面图。

如图6a中所示，触摸感测单元ts包括第一导电层ts-cl1、第一绝缘层ts-il1(在下文中，被称作第一触摸绝缘层)、第二导电层ts-cl2和第二绝缘层ts-il2(在下文中，被称作第二触摸绝缘层)。第一导电层ts-cl1可以直接设置在薄膜包封层tfe上。例如，可以不在第一导电层ts-cl1与薄膜包封层tfe之间设置塑料膜、玻璃基底和/或塑料基底。

第一导电层ts-cl1和第二导电层ts-cl2中的每个可以具有单层结构或者多个层沿着第三方向轴dr3堆叠的多层结构。具有多层结构的导电层可以包括透明导电层和至少两个金属层。具有多层结构的导电层可以包括由彼此不同的金属形成的金属层。透明导电层可以包括氧化铟锡(ito)、氧化铟锌(izo)、氧化锌(zno)和/或氧化铟锡锌(itzo)、pedot、金属纳米线和/或石墨烯。金属层可以由钼、银、钛、铜、铝和/或它们的合金形成。

第一导电层ts-cl1和第二导电层ts-cl2中的每个可以包括多个图案。在下文中，将描述第一导电层ts-cl1包括第一导电图案并且第二导电层ts-cl2包括第二导电图案的结构。第一导电图案和第二导电图案中的每个可以包括触摸电极和触摸信号线。

第一触摸绝缘层ts-il1和第二触摸绝缘层ts-il2中的每个可以由无机材料和/或有机材料形成。无机材料可以包括诸如氧化钛、氧化硅、氮氧化硅、氧化锆和/或氧化铪的至少一种氧化物。有机材料可以包括从丙烯酸类树脂、甲基丙烯酸类树脂、聚异戊二烯类树脂、乙烯基类树脂、环氧类树脂、氨基甲酸酯类树脂、纤维素类树脂、硅氧烷类树脂、聚酰亚胺类树脂、聚酰胺类树脂、苝类树脂中选择的至少一种。

第一触摸绝缘层ts-il1和第二触摸绝缘层ts-il2中的每个可以具有单层或多层结构。第一触摸绝缘层ts-il1和第二触摸绝缘层ts-il2中的每个可以包括无机层和有机层中的至少一个。无机层和有机层均可以独立地通过化学气相沉积法来形成。

在当前实施例中，第一触摸绝缘层ts-il1和第二触摸绝缘层ts-il2中的至少一个包括具有大约2.05g/cm³至大约2.4g/cm³的密度的至少一个无机层。稍后将更详细地描述该实施例。

在一些实施例中，第一触摸绝缘层ts-il1使第一导电层ts-cl1与第二导电层ts-cl2彼此绝缘，但是发明构思的实施例不限于此。第一触摸绝缘层ts-il1可以根据第一导电图案和第二导电图案的形状以任何合适的形状形成。在一些实施例中，第一触摸绝缘层ts-il1可以完全覆盖薄膜包封层tfe或者可以包括多个绝缘图案。多个绝缘图案可以足以与第一连接部cp1和/或第二连接部cp2(在例如图6b至图6e中示出)叠置。

虽然在当前的实施例中示出了两层的触摸感测单元作为示例，但是发明构思的实施例不限于此。单层触摸感测单元可以包括导电层和覆盖导电层的绝缘层。导电层可以包括触摸传感器和连接到触摸传感器的触摸信号线。单层触摸感测单元可以以自覆盖(例如，自电容)方式获取坐标信息。

如图6b中所示，触摸感测单元ts可以包括第一触摸电极te1-1至te1-3、连接到第一触摸电极te1-1至te1-3的第一触摸信号线sl1-1至sl1-3、第二触摸电极te2-1至te2-3以及连接到第二触摸电极te2-1至te2-3的第二触摸信号线sl2-1至sl2-3。示出了包括三个第一触摸电极te1-1至te1-3和三条第一触摸信号线sl1-1至sl1-3的触摸感测单元ts作为示例。

第一触摸电极te1-1至te1-3中的每个可以具有限定了多个触摸开口的网格形状(例如，网格图案)。第一触摸电极te1-1至te1-3中的每个包括多个第一触摸传感器部sp1和多个第一连接部cp1。第一触摸传感器部sp1在第一方向dr1上布置。第一连接部cp1中的每个使第一触摸传感器部sp1的在第一方向dr1上彼此相邻的两个第一触摸传感器部sp1连接。在一些实施例中，第一触摸信号线sl1-1至sl1-3中的每条也可以具有网格形状(例如，网格图案)。

第二触摸电极te2-1至te2-3可以与第一触摸电极te1-1至te1-3绝缘，并且可以与第一触摸电极te1-1至te1-3交叉。第二触摸电极te2-1至te2-3中的每个可以具有限定了多个触摸开口的网格形状(例如，网格图案)。第二触摸电极te2-1至te2-3中的每个包括多个第二触摸传感器部sp2和多个第二连接部cp2。第二触摸传感器部sp2在第二方向dr2上布置。第二连接部cp2中的每个使第二触摸传感器部sp2的在第二方向dr2上彼此相邻的两个第二触摸传感器部sp2连接。第二触摸信号线sl2-1至sl2-3中的每条也可以具有网格形状(例如，网格图案)。

第一触摸电极te1-1至te1-3和第二触摸电极te2-1至te2-3可以彼此电容耦合。由于触摸检测信号被施加到第一触摸电极te1-1至te1-3，所以电容器可以设置在相应的第一触摸传感器部sp1与第二触摸传感器部sp2之间。

多个第一触摸传感器部sp1、多个第一连接部cp1和第一触摸信号线sl1-1至sl1-3的一部分以及多个第二触摸传感器部sp2、多个第二连接部cp2和第二触摸信号线sl2-1至sl2-3的一部分可以通过使图6a的第一导电层ts-cl1图案化来形成，而其它部分(例如，前述元件的剩余部分)可以通过使图6a的第二导电层ts-cl2图案化来形成。

为了使设置在彼此不同的层上的导电图案电连接(例如，电结合)，可以限定穿过图6a的第一触摸绝缘层ts-il1的接触孔。在下文中，将参照图6c至图6e描述根据发明构思的实施例的触摸感测单元ts。

参照图6c，可以在薄膜包封层tfe上设置第一导电图案。第一导电图案可以包括桥接图案(或桥接部)cp2。桥接图案cp2可以直接设置在薄膜包封层tfe上。将描述覆盖显示区域da的薄膜包封层tfe作为示例。桥接图案cp2可以与图6b的第二连接部cp2对应。

如图6d中所示，然后可以在薄膜包封层tfe上设置覆盖桥接图案cp2的第一触摸绝缘层ts-il1。在第一触摸绝缘层ts-il1中限定部分地暴露桥接图案cp2的接触孔ch。可以通过光刻工艺来形成接触孔ch。

如图6e中所示，然后可以在第一触摸绝缘层ts-il1上设置第二导电图案。第二导电图案可以包括多个第一触摸传感器部sp1、多个第一连接部cp1、第一触摸信号线sl1-1至sl1-3、多个第二触摸传感器部sp2以及第二触摸信号线sl2-1至sl2-3。在一些实施例中，在第一触摸绝缘层ts-il1上设置覆盖第二导电图案的第二触摸绝缘层ts-il2。

在发明构思的实施例中，第一导电图案可以包括第一触摸电极te1-1至te1-3和第一触摸信号线sl1-1至sl1-3。第二导电图案可以包括第二触摸电极te2-1至te2-3和第二触摸信号线sl2-1至sl2-3。在一些实施例中，可以不在第一触摸绝缘层ts-il1中限定接触孔ch。

另外，在发明构思的实施例中，第一导电图案和第二导电图案可以彼此交换。例如，第二导电图案可以包括桥接图案cp2。

图7a是图6e的区域aa的局部放大图。图7b是图7a(沿ii-ii'截取)的局部剖视图。图7c是图6b(沿i-i'截取)的局部剖视图。在下文中，将参照图7a至图7c更详细地描述显示模块dm。

如图7a中所示，第一触摸传感器部sp1与非发射区域npxa叠置。第一触摸传感器部sp1包括在第一方向dr1上延伸的多个第一竖直部分sp1-c和在第二方向dr2上延伸的多个第一水平部分sp1-l。多个第一竖直部分sp1-c和多个第一水平部分sp1-l可以被限定为网格线(例如，可以具有网格图案)。网格线可以具有若干微米的线宽。

多个第一竖直部分sp1-c和多个第一水平部分sp1-l可以彼此连接以限定多个开口ts-op。例如，第一触摸传感器部sp1可以具有包括多个触摸开口ts-op的网格形状(例如，网格图案)。虽然示出了触摸开口ts-op与发射区域pxa(以一对一关系)对应的结构，但是发明构思的实施例不限于此。一个触摸开口ts-op可以与两个或更多个发射区域pxa对应。

第一连接部cp1、第一触摸信号线sl1-1至sl1-3、第二触摸传感器部sp2、第二连接部cp2和第二触摸信号线sl2-1至sl2-3中的每个可以包括水平部分和竖直部分。

如图7b和图7c中所示，第二连接部cp2可以直接设置在薄膜包封层tfe上。覆盖第二连接部cp2的第一触摸绝缘层ts-il1也可以直接设置在薄膜包封层tfe上(或者第一触摸绝缘层ts-il1的部分可以直接设置在薄膜包封层tfe上)。第一触摸绝缘层ts-il1至少与显示区域da叠置。第一触摸传感器部sp1、第二触摸传感器部sp2和第一连接部cp1可以直接设置在第一触摸绝缘层ts-il1上。

第二触摸传感器部sp2与非发射区域npxa叠置。第二触摸绝缘层ts-il2(或它的部分)可以直接设置在第一触摸绝缘层ts-il1上，以覆盖第一触摸传感器部sp1、第二触摸传感器部sp2和第一连接部cp1。第二触摸绝缘层ts-il2至少与显示区域da叠置。

在图7b和图7c中示出分别具有三层结构的第一触摸传感器部sp1、第一连接部cp1、第二触摸传感器部sp2和第二连接部cp2作为示例。例如，第一触摸传感器部sp1、第一连接部cp1、第二触摸传感器部sp2和第二连接部cp2中的每个可以具有钛/铝/钛的三层结构。

图8a是示出在显示设备dd中发生气泡缺陷的剖视图。图8b是示出在显示设备dd中发生气泡缺陷的照片。图9是示出了根据层密度的气泡缺陷的示图。

在恶劣条件下对与图2的显示设备dd相同(或基本上相同)的显示设备执行可靠性评估。在大约80摄氏度至大约90摄氏度的温度和大约80％至大约90％的湿度下执行可靠性评估。

如图8a和图8b中所示，气泡聚集在窗口wm与第三粘合构件am3之间的界面上。对气泡进行研究，确定大部分气泡是由氮和/或氢形成的。例如，氮和氢可以占据气泡的大约80％至大约90％。也分析了含有非常少量的二氧化碳、一氧化碳和/或甲烷的气泡。

制造了根据实验示例1至8的样品，用于评估恶劣条件下显示设备的可靠性。下面在表1中示出实验结果。在表1中，“x”表示没有层或气泡，“o”表示存在层或气泡。

表1

使用与图2中所示的显示设备基本上相似的显示设备来执行实验示例1至6。然而，触摸感测单元(例如，图6a的附图标记ts)在结构上彼此不同。在实验示例1中，省略触摸感测单元ts。在实验示例3至6中，省略第一触摸绝缘层(例如，无机层)、第一导电层、第二导电层和第二触摸绝缘层(例如，有机层)中的一部分。

在实验示例7中，应用了形成有单层无机层的玻璃基底代替显示模块(例如，图2的附图标记dm)。在实验示例8中，应用了形成有单层有机层的玻璃基底代替显示模块dm。

在实验示例1至8中，应用通过等离子体增强化学气相沉积(pecvd)方法形成的1.90g/cm³的氮化硅层作为第一触摸绝缘层(无机层)，并且应用通过狭缝涂覆方法形成的丙烯酸类有机层作为第二触摸绝缘层(有机层)。

鉴于实验示例2至4和实验示例6中气泡的产生，在不受任何具体理论约束的情况下，认为气泡的产生与无机层有关。然而，当将实验示例6(形成气泡)与实验示例7(不成形气泡)彼此对比时(对于第一导电层、第一触摸绝缘层、第二导电层和第二触摸绝缘层，实验示例6和实验示例7两者具有相同的层组成)，可以看出，气泡的产生不取决于诸如无机层的单一条件，而是也与薄膜包封层有关(例如，在实验示例7中，未形成薄膜包封层)。

基于实验示例2至4和实验示例6中产生的气泡的量，在不受任何具体理论约束的情况下，假设气泡不是从外部引入的，而是通过种子(例如，气泡种子)与有机材料之间的反应产生的。假设当在薄膜包封层上形成无机层时产生种子。有机材料可以包括在第二触摸绝缘层或第二粘合构件(例如，图2的附图标号am2)或第三粘合构件(例如，图2的附图标号am3)中。

对根据实验示例2和3的样品执行附加实验。除了在实验示例3中没有形成有机层之外，根据实验示例2和3的样品具有基本上相同的结构。通过使用根据实验示例2和3的样品(每个实验示例四个样品)来测量气泡生成时间。

表2

对根据实验示例2的四个样品中的每个和根据实验示例3的四个样品中的每个执行可靠性评估。虽然24小时后没有在实验示例3的样品中的任意一个样品中产生气泡，但是24小时后在实验示例2的四个样品中的三个样品中产生气泡。

根据上面在表2中所示的实验结果，在不受任何具体理论约束的情况下，认为有机层会导致或至少增加气泡的产生。例如，认为种子会与有机层反应。

还对实验示例9和10的样品执行了附加实验。通过使用根据实验示例9和10的样品(每个实验示例五个样品)来测量气泡生成时间。下面在表3中示出结果。

表3

实验示例9和10中的每个样品具有与实验示例2的样品相同(或基本上相同)的结构(例如，与图2中所示的显示设备的结构相同的结构)。在实验示例9的样品中，应用由3m净化公司(3mpurificationinc.)制造的光学透明粘合剂(oca)作为第二粘合构件am2和第三粘合构件am3。在实验示例10的样品中，应用由tms制造的光学透明粘合剂(oca)作为第二粘合构件am2和第三粘合构件am3。来自上述制造商的oca具有彼此不同的组成。

根据上面在表3中所示的实验结果，气泡生成时间根据粘合构件的组成而不同。另外，可以看出，在经过相同时间量之后产生的气泡的量也根据粘合构件的组成而不同。

制造了无机层密度变化的样品来评估可靠性。这里，除了每个样品的无机层密度变化之外，制造了具有与实验示例2的结构相同(或基本上相同)的结构的样品。

氮化硅层可以通过化学气相沉积工艺经使用硅烷(sih4)、氮(n2)、氢(h2)和氨(nh3)的混合气体来形成。硅烷(sih4)和氢(h2)中的每种的流量(flowrate)会影响所得氮化硅层的密度。另外，沉积室内功率和压力的变化会影响氮化硅层的密度。在形成上述样品时，除了根据样品调节硅烷(sih4)的流量来形成具有不同密度的无机层之外，在样品中等同地保持被认为对所得层的组成有影响的因素。

图9中所示的条形图表示依赖于层密度的气泡缺陷的产生。在氮化硅层具有大约2.05g/cm³或更大的层密度的样品显示设备中，似乎没有产生气泡。

在不受任何具体理论约束的情况下，认为因为在形成氮化硅层时产生的种子被高密度氮化硅层密封，所以由于种子与有机材料之间不反应因此在具有大约2.05g/cm³或更大的氮化硅层密度的样品中不产生气泡。

相反，在包括具有大约2.05g/cm³或更小的层密度的无机层的显示设备中，种子会穿过低密度无机层而达到第二触摸绝缘层ts-il2和有机粘合层(例如，图2的附图标号am2和am3)。在这种情况下，认为种子与第二触摸绝缘层ts-il2以及有机粘合层am2和am3反应而产生气泡。

当在第二触摸绝缘层ts-il2中产生气泡时，气泡会穿过第二粘合构件am2、光学构件lm和第三粘合构件am3，然后聚集在窗口wm与第三粘合构件am3之间的界面上。另外，当在第二粘合构件am2和第三粘合构件am3中产生气泡时，气泡也会聚集在窗口wm与第三粘合构件am3之间的界面上。

随着无机层密度逐渐增大，层的柔性逐渐降低。因此，无机层可以具有大约2.4g/cm³或更小的密度。当无机层具有在该范围内的密度时，可以防止或减少由从外部施加的应力导致的无机层中的裂纹的产生。

在当前实施例中，第一触摸绝缘层ts-il1和第二触摸绝缘层ts-il2(如参照例如图6a所描述的这些层)中的至少一个可以包括具有大约2.05g/cm³至大约2.45g/cm³的密度的至少一个无机层。这里，可以抑制或减少上述气泡的产生，并且可以防止或减少第一触摸绝缘层ts-il1和第二触摸绝缘层ts-il2中裂纹的出现。

在发明构思的实施例中，第一触摸绝缘层ts-il1和第二触摸绝缘层ts-il2中的每个可以包括具有上述密度的氮化硅层。

在发明构思的实施例中，第一触摸绝缘层ts-il1可以包括具有上述密度的氮化硅层。这里，第二触摸绝缘层ts-il2可以是有机层。当形成密度小于上述密度的无机层时，在第二触摸绝缘层ts-il2的形成期间会产生气泡。为了防止或减少产生气泡的可能性并改善柔性，第二触摸绝缘层ts-il2可以是有机层。

在发明构思的实施例中，第二触摸绝缘层ts-il2可以包括具有上述密度的氮化硅层。当第二触摸绝缘层ts-il2具有多层结构时，具有上述密度的氮化硅层可以是最上层。这里，第一触摸绝缘层ts-il1可以包括有机层和/或无机层。

图10a是根据发明构思的实施例的显示设备dd-2的剖视图。图10b是根据发明构思的实施例的显示设备dd-2的显示模块dm-1的放大剖视图。图11是根据发明构思的实施例的显示设备dd-3的剖视图。在下文中，将不提供与参照图1至图9所描述的构成元件相同的构成元件的详细描述。

如图10a和图10b中所示，显示设备dd-2包括保护膜pm、显示模块dm-1、触摸面板tsp、窗口wm、第一粘合构件am1、第二粘合构件am2和第三粘合构件am3。显示模块dm-1可以包括有机发光显示面板dp和防反射层rpl。防反射层rpl可以直接设置在有机发光显示面板dp上。

防反射层rpl可以包括分别与显示区域da和非显示区域nda叠置的导电层rpl-ml1和rpl-ml2以及分别与显示区域da和非显示区域nda叠置的绝缘层rpl-il1和rpl-il2。虽然示出了包括两个导电层rpl-ml1和rpl-ml2以及两个绝缘层rpl-il1和rpl-il2的防反射层rpl作为示例，但是本公开的实施例不限于此。

导电层rpl-ml1和rpl-ml2以及绝缘层rpl-il1和rpl-il2可以交替地层叠。然而，发明构思的实施例不限于该层叠顺序。第一导电层rpl-ml1可以包括具有大约30％或更大的吸收率的金属。第一导电层rpl-ml1可以由具有大约1.5至大约7的折射率和大约1.5至大约7的吸收系数k的材料来形成。第一导电层rpl-ml1可以由从铬(cr)、钼(mo)、钨(w)、钛(ti)、镍(ni)、钴(co)、氧化铜(cuo)、氮化钛(tinx)和硫化镍(nis)中选择的至少一种来形成。第一导电层rpl-ml1可以是由上述材料中的一种形成的金属层。在一些实施例中，第二导电层rpl-ml2也可以包括上述金属。

第一绝缘层rpl-il1和第二绝缘层rpl-il2中的每个可以由从二氧化硅(sio2)、二氧化钛(tio2)、氟化锂(lif)、氟化钙(caf2)、氟化镁(mgf2)、氮化硅(sinx)、氧化钽(ta2o5)、氧化铌(nb2o5)、氮碳化硅(sicn)、氧化钼(moox)、氧化铁(feox)和氧化铬(crox)中选择的一种来形成。从外部入射的光ol被第一导电层rpl-ml1(在下文中，被第一导电层rpl-ml1反射的光被称作第一反射光rl1)和第二导电层rpl-ml2(在下文中，被第二导电层rpl-ml2反射的光被称作第二反射光rl2)部分地反射。

第一绝缘层rpl-il1可以调节穿过第一绝缘层rpl-il1的光的相位，使得第一反射光rl1与第二反射光rl2之间具有大约180°的相位差。因此，第一反射光rl1和第二反射光rl2可以被抵消。

可以选择第一导电层rpl-ml1、第二导电层rpl-ml2、第一绝缘层rpl-il1和第二绝缘层rpl-il2中的每个的厚度和材料来满足(或适合于)第一反射光rl1与第二反射光rl2之间相消干涉的条件。然而，发明构思的实施例不具体地限制于此。在一些实施例中，防反射层rpl还可以包括黑矩阵bm。

为了防止或减小在形成防反射层rpl期间产生气泡的可能性，第一绝缘层rpl-il1和第二绝缘层rpl-il2中的至少一个可以包括具有大约2.05g/cm³至大约2.4g/cm³的密度的无机层。例如，第一绝缘层rpl-il1和第二绝缘层rpl-il2中的每个可以包括具有上述密度的氮化硅层。

如图11中所示，显示设备dd-3包括保护膜pm、显示模块dm-2、窗口wm、第一粘合构件am1和第二粘合构件am2。显示模块dm-2可以包括有机发光显示面板dp、触摸感测单元ts和防反射层rpl。触摸感测单元ts可以直接设置在有机发光显示面板dp上，并且防反射层rpl可以直接设置在触摸感测单元ts上。

触摸感测单元ts可以具有与参照图1至图9所描述的结构相同的结构，防反射层rpl可以具有与参照图10a和图10b所描述的结构相同的结构。

如上所述，具有大约2.05g/cm³至大约2.4g/cm³的密度的无机层可以密封种子，否则种子会造成气泡的产生。例如，可以与薄膜包封层相邻地密封种子。

无机层可以防止或减少种子接近有机层。因此，可以防止或减少种子与有机层之间的反应，并且可以抑制或减少气泡的产生。因此，可以减少有机粘合构件与窗口之间的层离(delamination)。

如这里使用的，术语“使用”及其变形可以被认为分别与术语“利用”及其变形同义。

另外，术语“基本上”、“大约”和类似的术语被用作近似术语而不是程度术语，并且旨在解释本领域普通技术人员将认可的测量值或计算值的固有偏差。

另外，这里所述的任何数值范围旨在包括归入所述范围内的相同数值精度的所有子范围。例如，“1.0至10.0”的范围旨在包括所述最小值1.0与所述最大值10.0之间(并包括所述最小值1.0和所述最大值10.0)的所有子范围，即，具有等于或大于1.0的最小值和等于或小于10.0的最大值，诸如以2.4至7.6为例。这里所述的任何最大数值限制旨在包括归入其中的所有更低的数值限制，并且本说明书中所述的任何最小数值限制旨在包括归入其中的所有更高的数值限制。因此，申请人保留对本说明书(包括权利要求)进行修改的权利，以明确地叙述归入这里明确叙述的范围内的任何子范围。

虽然这里已经描述了本发明构思的示例实施例，但是对于本领域技术人员将明显的是，可以在发明构思中进行各种修改和改变。因此，本公开旨在覆盖本发明提供的在所附权利要求及其等同物的范围内的修改和改变。