具有转动单元的辊对辊制造系统的制作方法

文档序号：14611527发布日期：2018-06-05 20:58阅读：120来源：国知局

本公开涉及显示装置，并且更具体地，涉及一种具有用于制造显示装置的转动单元的辊对辊(roll to roll)制造系统，其能够通过防止膜的沉积表面接触辊来防止损坏沉积层。

背景技术：

近来，已经提出了具有有机发光器件的显示装置或照明装置。具有有机发光器件的显示装置由于其比液晶显示装置或等离子体显示装置具有更高的响应速度、更低的功耗、更高的分辨率和更大的屏幕而备受瞩目。另外，具有有机发光器件的照明装置比具有无机发光器件的显示装置具有更好的绿色和红色发光效率以及相对更宽的RGB发光峰值的宽度。因此，具有有机发光器件的照明装置具有增强的再现性，从而具有其光更类似于太阳光的优点。

这种有机发光器件包括由透明氧化物形成并设置在由玻璃或塑料形成的基板上的阳极、由依次层叠在阳极上的空穴传输层、有机发光层、电子传输层、电子注入层等形成的有机发光单元以及设置在有机发光单元上的阴极。

在这种有机发光器件中，一旦来自阳极的空穴和来自阴极的电子被注入到有机发光层，则在有机发光层中产生了激子。当激子衰变时，产生与发光层的最低未占据分子轨道(LUMO)与最高占据分子轨道(HOMO)之间的能量差对应的光。不同于液晶显示装置或等离子体显示装置，因为有机发光器件的主要处理包括沉积处理和封装处理，所以有机发光器件可以通过相对简单的制造处理来制造。这可以使能够快速地制造有机发光器件，并且可以减少制造成本。

然而，有机发光器件具有以下问题。一般地，通过在由玻璃或塑料形成的基板上沉积阳极、有机发光层和阴极以及通过执行封装处理来制造有机发光器件。这里，阳极、有机发光层和阴极以片材对片材(sheet to sheet)的方式来沉积。更具体地，由诸如机器人这样的转印装置来将具有预设尺寸的基板加载到沉积装置上，从而进行沉积处理。然后，由转印装置来将沉积的基板转印到下一个沉积装置，从而进行沉积处理。结果，完成了有机发光器件的制造处理。

然而，由于有机发光层由诸如空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层这样的各种层形成，所以需要用于形成多个层的多个沉积装置来形成有机发光器件。另外，在多个沉积装置当中需要用于转印基板的多个转印装置。由于诸如机器人这样的转印装置昂贵并且占据较大的空间，所以显著增大了安装成本并且需要较大的安装空间。

此外，在片材对片材方式的情况下，沉积处理应彼此同步，并且沉积处理和转印处理应彼此同步。这可能会导致进行连续沉积处理的问题。而且，可能会由于当在连续沉积处理中转印基板时发生的沉积装置的空白空间(即，基板的未加载状态)而损失昂贵的材料。

技术实现要素：

因此，本公开的一方面在于提供一种辊对辊制造系统，该辊对辊制造系统能够通过以辊对辊的方式执行沉积来以连续内联的方式执行处理。

本公开的另一方面在于提供一种辊对辊制造系统，该辊对辊制造系统能够通过防止膜的沉积表面接触另一结构、通过布置在多个沉积单元之间具有多个转动辊的转动单元来防止沉积层的损坏。

为了实现这些和其它优点并根据本说明书的目的，如本文所实现和广泛描述的，提供了一种辊对辊制造系统，该辊对辊制造系统包括：多个沉积单元；以及设置在沉积单元之间的转动单元。该沉积单元包括：沉积鼓，其上缠绕有膜；以及一个或更多个蒸发器，所述一个或更多个蒸发器被设置为面对沉积鼓并且被配置为沉积缠绕在沉积鼓上的所述膜。

沉积鼓由诸如具有高热导率的金属这样的材料形成，并且冷却在沉积处理期间其温度升高的膜，以防止由于温度升高而导致膜损坏。另外，在沉积鼓上设置有致冷通道以有效地冷却膜。

转动单元包括多个转动辊，并且被配置为转动从一个沉积单元输出的膜、引导膜并且将膜提供到另一个沉积单元。由于由转动单元转动的膜的沉积表面不接触任何转动辊，所以可以防止由于沉积表面的接触而导致的膜劣化。

多个转动辊可移动地安装，使得其间的相对距离增大或减小。由于根据在沉积单元处的沉积时间来确定转动辊的移动，所以多个沉积单元彼此同步。

在本公开的另一方面，辊对辊制造系统包括：提供膜的膜提供辊；收集所述膜的膜收集辊；第一沉积单元和第二沉积单元，所述第一沉积单元和所述第二沉积单元位于所述膜提供辊与所述膜收集辊之间，并在所述膜上形成沉积材料；以及引导辊，所述引导辊在所述第一沉积单元与所述第二沉积单元之间引导膜。

在本公开的又一方面，辊对辊制造系统包括：提供膜的膜提供辊；收集所述膜的膜收集辊；第一沉积单元和第二沉积单元，所述第一沉积单元和第二沉积单元位于所述膜提供辊与所述膜收集辊之间，并在所述膜上形成沉积材料；以及转动单元、第一引导辊和第二引导辊中的至少一个，所述转动单元、所述第一引导辊和所述第二引导辊中的至少一个位于所述第一沉积单元与所述第二沉积单元之间，其中，所述转动单元转动来自所述沉积单元的所述膜的沉积表面，使得所述膜的所述沉积表面不与所述辊接触，并且所述第一引导辊和所述第二引导辊在所述第一沉积单元与所述第二沉积单元之间引导沉积的所述膜。

在本公开中，由于通过使用辊对辊制造系统来制造有机发光器件，所以通过膜供应辊连续地提供膜，并且同时进行处理。这可以使能够进行连续内联处理，并且使能够快速地制造有机发光器件。

另外，在本公开中，设置了具有沉积鼓的多个沉积单元，以在膜缠绕在沉积鼓上的状态下进行沉积处理。特别地，当设置了多个沉积单元时，在沉积单元之间设置有转动单元。这可以防止由于膜的沉积表面与另一个辊之间的接触而导致的沉积层的损坏，或者由于异物而导致的膜劣化。

另外，在本公开中，膜由设置在沉积单元处的沉积鼓冷却。这可以防止由于在沉积处理期间温度升高而导致膜的变形和张力降低。

根据以下给出的详细描述，本申请的进一步应用范围将变得更加显而易见。然而，应当理解，由于根据本公开，本公开精神和范围内的各种改变和修改对于本领域技术人员而言是显而易见的，所以详细描述和具体示例虽然指示了本公开的各个方面，但是仅通过例示的方式来给出。

附图说明

附图被包括进来以提供对本公开的进一步理解，并且被并入本公开且构成本公开的一部分，附图例示了示例性方面，并且与本描述一起用于解释本公开的原理。

在附图中：

图1是示出辊对辊制造系统的基本概念的示意图；

图2是示出有机发光器件的结构的截面图；

图3是示出根据本公开的一方面的用于制造图2中所示的有机发光器件的辊对辊制造系统的立体图；

图4A和图4B分别是示出膜和开口掩模的结构的示意图；

图5是示出没有转动单元的辊对辊制造系统的结构的立体图；

图6是示出有机发光器件的另一结构的截面图；以及

图7是示出根据本公开的另一方面的用于制造图6中所示的有机发光器件的辊对辊制造系统的立体图。

具体实施方式

以下，将参照附图来更详细地说明本公开。

在本公开中，通过使用延性塑料膜来制造有机发光器件。特别地，在本公开中，可以通过使用可弯曲膜而以辊对辊的方式而不是以片材对片材的方式来进行处理。这可以使能够以连续内联(inline)方式来进行处理。

图1是示意性地示出根据本公开的辊对辊制造系统中的沉积处理的示意图。

如图1所示，一般的辊对辊制造系统包括用于提供诸如塑料膜这样的延性膜1的膜提供辊12、用于收集膜1的膜收集辊14、用于引导延性膜1的引导辊16、用于提供开口掩模2的掩模提供辊22、用于收集开口掩模2的掩模收集辊24、以及用于通过沉积有机材料或金属来在膜上形成层的诸如蒸发器这样的沉积单元30。

在辊对辊制造系统中，用作照明装置或显示装置的基板的延性膜1从膜提供辊12被转印到蒸发器30，并且开口掩模2从掩模提供辊22被转印到沉积单元30。在开口掩模2布置在延性膜1的整个表面上的状态下，沉积单元30将有机材料或金属沉积在膜1的部分区域上。

已经进行沉积处理的开口掩模2与膜1分离，膜1由膜收集辊14收集，开口掩模2由掩模收集辊24收集。

尽管没有示出，但是连接至外部驱动装置的驱动轴被设置在膜提供辊12、膜收集辊14、掩模提供辊22和掩模收集辊24的的中心区域。当外部驱动装置被驱动时，膜提供辊12、膜收集辊14、掩模提供辊22和掩模收集辊24旋转。这里，膜提供辊12和膜收集辊14的驱动以及掩模提供辊22和掩模收集辊24的驱动彼此互连以进行同步。结果，膜1中的处理执行区域(即，要形成照明装置或显示装置的区域)与沉积单元30上方的开口掩模2的开口区域对准。

当有机材料或金属被沉积在膜1上时，其被沉积在膜1的整个表面上。因此，为了仅在预设区域上沉积有机材料或金属，除了预设区域之外的区域应被要由沉积单元30沉积的有机材料或金属阻挡。开口掩模2用于在有机材料或金属被沉积在膜1上时阻挡部分区域，使得有机物材料或金属仅被沉积在膜1的预设区域上。

开口掩膜2被形成为具有与膜1相同的宽度，并且开口区域被形成在与要形成照明装置或显示装置的区域对应的位置处。利用这种配置，在开口掩模2与膜1对准并附接至膜1的状态下进行沉积处理。

在使用辊对辊制造系统的情况下，由于通过由膜提供辊12连续地提供膜1来进行处理，所以可以以连续内联的方式来进行处理。这可以使能够快速地制造照明装置或显示装置。

在辊对辊制造系统中，开口掩膜2可以以片材对片材的方式而不是以辊对辊的方式来提供。也就是说，当膜1由膜提供辊12和膜收集辊14连续转印时，可以在具有与要形成有机发光器件的区域对应的开口区域的片状金属掩模粘附到膜1上时进行沉积。然而，在这种情况下，金属掩模应由诸如机器人这样的附加转印装置来与膜1分离地转印和对准。即使通过辊来实时地转印膜1，但这也可能会在基本上实现内联方面引起问题。

在根据本公开的辊对辊制造系统中，因为开口掩膜2和膜1由辊提供并收集，并且因为膜1和开口掩模2彼此互连，所以可以基本上实现内联。

以下，将更详细地说明根据本发明的一方面的辊对辊制造系统。

图2是示出通过根据本公开的由辊对辊制造系统制造的有机发光器件的结构的截面图。

如图2所示，根据本公开的有机发光器件包括阳极181、形成在阳极181上的空穴注入层182、形成在空穴注入层182上并配置为传输所注入的空穴的空穴传输层183、形成在空穴传输层183上的有机发光层184、设置在有机发光层184上的电子传输层185、设置在电子传输层185上的电子注入层186、以及阴极188。

空穴注入层182、空穴传输层183、电子传输层185和电子注入层186被设置来增强有机发光层184的发光效率。根据有机发光层184的结构或特性，可以省略空穴注入层182、空穴传输层183、电子传输层185和电子注入层186中的至少一个。另选地，还可以设置另一层。然而，本公开不限于此。

一般地，由于电离电位、电子亲和力等，所以空穴比有机材料内的电子具有更高的载流子迁移率。也就是说，由于电子不能在有机材料内容易地移动，所以在电极附近产生了激子。然而，在电极附近非辐射衰变较大，有机发光器件的量子效率降低。因此，为了增强器件的效率，应在平衡状态下向有机发光层注入足量的电子和空穴。形成理想的发光器件，使得金属电极的费米能级与发光材料的HOMO和LUMO能级相同。

为了使金属电极的费米能级和发光材料的HOMO和LUMO能级彼此相等，通过使用具有不同带隙的两种或更多种有机材料来将发光器件形成为具有异质结构。这种异质结构被设置有用作电荷注入层的空穴注入层182和电子注入层186，并且被设置有用作电荷输送层的空穴传输层183和电子传输层185。

空穴传输层183由有机材料形成，阳极181由ITO(无机材料)形成。由于这种有机材料与这种无机材料之间的差异，所以恶化了空穴注入层182和阳极181的界面性能，导致阻碍空穴从阳极181顺利地注入到空穴传输层183中。空穴注入层182通过减小空穴传输层183与阳极181之间的表面能量差来增强界面性能。空穴注入层182将空穴注入层182的功函数能级设置为阳极181的功函数能级与空穴传输层183的HOMO能级之间的中间值，从而减小其之间的能量差。因为空穴传输层18与阳极181之间的界面性能增强，并且因为阳极181的功函数能级与空穴传输层183的HOMO能级之间的能量差减小，所以空穴被从阳极181顺利地注入到空穴传输层183中。

另外，由于电子注入层186的功函数能级被设置为阴极188的功函数能级与电子传输层185的LUMO能级之间的中间值，所以其之间的能量差减小。因为阴极188的功函数能级与电子传输层185的LUMO能级之间的能量差减小，所以电子被从阴极188顺利地注入到电子传输层185中。

另外，空穴传输层183和电子传输层185通过控制空穴和电子的迁移率来控制空穴与电子之间的结合区域。由于在有机材料内空穴比电子具有更高的迁移率，所以空穴传输层183和电子传输层185控制电子比空穴具有更高的迁移率。这可以允许电子快速地移动到它们与空穴重新结合的碰撞半径，从而增强发光效率。

图3是示出根据本公开的一方面的用于制造图2中所示的有机发光器件的辊对辊制造系统100的立体图。

如图3所示，根据本公开的一方面的辊对辊制造系统100包括：通过沉积空穴注入材料、空穴传输材料和有机发光材料来形成空穴注入层、空穴传输层和有机发光层的第一沉积单元110；用于通过沉积电子传输材料、电子注入材料和金属来形成电子传输层、电子注入层和阴极的第二沉积单元120；以及用于转动沉积在第一沉积单元110处并转印到第二沉积单元120的膜101的转动单元130。

辊对辊制造系统100被设置有膜提供辊104和膜收集辊106。缠绕在膜提供辊104上的膜101被提供给第一沉积单元110，并且从第二沉积单元120输出的膜通过缠绕在膜收集辊106上来进行收集。尽管未示出，但是膜提供辊104和膜收集辊106通过旋转轴来连接至外部驱动装置，并且当外部驱动力传递至膜提供辊104和膜收集辊106时，膜提供辊104和膜收集辊106旋转。

当从膜提供辊104提供的膜101被输入到第一沉积单元110时，沉积空穴注入材料、空穴传输材料和有机发光材料，以形成空穴注入层、空穴传输层和有机发光层。在输出空穴注入层、空穴传输层和有机发光层之后，它们被输入到第二沉积单元120。然后，沉积电子传输材料、电子注入材料和金属，以形成电子传输层、电子注入层和阴极。结果，制造了图2中所示的有机发光器件。这里，阴极可以在辊对辊制造系统100之前的处理线时形成。尽管未示出，但是阴极通过辊对辊处理之前的处理线来被形成在膜101上，其上具有阴极的膜101缠绕在膜提供辊104上，然后通过第一沉积单元110和第二沉积单元120来完成有机发光器件。

第一沉积单元110包括：第一沉积鼓(drum)112，用于通过将从膜提供辊104转印的膜101缠绕在其上来沉积膜101；多个第一掩模驱动辊114，其通过与膜提供辊104同步来被驱动，并且被配置为在缠绕在第一沉积鼓112上的膜101的整个表面上布置开口掩模102；以及多个第一蒸发器117a、117b、117c，其被设置为面对第一沉积鼓112的外表面，并且被配置为在缠绕在第一沉积鼓112上的膜101上沉积蒸汽。

膜101缠绕在第一沉积鼓112上，使得其非沉积表面接触第一沉积鼓112的表面。而且，开口掩模102被粘附至膜101的沉积表面，从而缠绕在第一沉积鼓112上。由于膜提供辊104和掩模驱动辊114在同步状态下被驱动，所以膜101和开口掩模102在第一沉积单元110中以对准状态缠绕在第一沉积鼓112上。第一沉积单元110设置有第一张力辊115，使得开口掩膜102总是在张力状态下被布置在膜101的整个表面上。

图4A和图4B分别是示出膜101和开口掩模102的结构的示意图。

如图4A所示，作为具有多个有机发光器件形成区域101a的母基板，膜101被长长地延伸以具有预定宽度。“n x m”个有机发光器件形成区域101a(其中，“n”和“m”是大于1的整数)被布置在膜101上，并且以其之间具有预设间隔。

如图4B所示，开口掩膜102被形成为具有与膜101的形状对应的形状，并且在其中设置有多个开口区域102a。开口区域102a对应于膜101的有机发光器件形成区域101a。当开口掩模102被布置在膜101的整个表面上时，有机发光器件形成区域101a通过开口掩膜102来暴露于外部。结果，沉积材料仅被沉积在曝露区域上。

再次参照图3，第一沉积鼓112是缠绕从膜提供辊104转印的膜101并且基本上进行沉积处理的区域。如图2所示，可以对在辊对辊制造系统中的膜提供辊与膜收集辊之间转印的膜进行沉积处理。然而，在本公开中，由于以下原因，所以对缠绕在第二沉积鼓122上的膜101进行沉积处理。

如图2所示，在对膜提供辊12与膜收集辊14之间转印的膜1进行沉积处理的情况下，由膜提供辊12和膜收集辊14维持膜的张力。然而，由于实际上的沉积区域处于浮动状态，所以可能不能维持膜1的张力。特别地，如果膜提供辊12和膜收集辊14由于外部冲击而发生变形，或者如果膜提供辊12和膜收集辊14彼此不同步，则膜1可能会变松或可能有褶皱。

如果膜1变松或有褶皱，则沉积材料不能被沉积在膜1的预设位置上，并且膜1上的沉积材料的结合力降低。此外，由于形成多个层的多个蒸发器在膜的移动方向上沿水平方向布置，所以沉积单元的空间增大。

然而，在本公开中，在通过将膜101缠绕在第一沉积鼓112上来进行沉积处理的情况下，膜101总是接触第一沉积鼓112。这可以防止膜101变松或防止在膜101上出现褶皱，从而使沉积材料能够沉积在预设位置上。

另外，多个第一蒸发器117a、117b、117c与第一沉积鼓112的圆周间隔相同的距离。由于多个第一蒸发器117a、117b、117c沿着第一沉积鼓112的圆周布置在弯曲表面上而不是布置在平坦表面上，所以可以使第一沉积单元110的空间最小化。

另外，在沉积处理期间，第一沉积鼓112通过高温热量来防止膜101的温度升高。第一沉积鼓112被形成为具有比膜提供辊104或膜收集辊106的直径大得多的直径，并且由具有高热导率的材料(例如，金属)形成。而且，在膜101接触第一沉积鼓112的状态下进行沉积处理。如果加热膜101以使其温度在高温下进行的沉积处理期间升高，则施加到膜101的热量通过接触膜101的第一沉积鼓112来释放，从而致使膜101冷却。这可以防止由于温度升高而导致膜101变形和其张力降低。

如图所示，接触膜101的第一沉积鼓112的外圆周表面由薄金属板形成，并且该外圆周表面仅由具有薄板形状的多个支撑板112a支撑，并且布置在圆柱形的第一沉积鼓112的一个侧表面上。由于第一沉积鼓112的外圆周表面的内部暴露于空气，所以可以有效地将从膜101传递到第一沉积鼓112的热量发射到外部，以增强冷却效率。

尽管没有示出，但是可以在第一沉积鼓112处设置附加的冷却装置，以便进一步增强膜101的冷却效率。例如，诸如水这样的制冷剂沿着其流动的通道被形成在第一沉积鼓112的外圆周表面上，从而更有效地冷却膜101。

空穴注入材料蒸发器117a、空穴传输材料蒸发器117b和有机发光材料蒸发器117c被设置在第一沉积单元110处。

除了由第二蒸发器127a、127b、127c沉积的沉积材料之外，第二沉积单元120与第一沉积单元110具有相似的配置。也就是说，第二沉积单元120包括：第二沉积鼓122，其用于通过在其上缠绕膜来沉积在第一沉积单元110中沉积之后转印的膜101；多个第二掩模驱动辊124，其通过与膜提供辊104同步而被驱动，并被配置为将开口掩模102布置在第二沉积鼓122上所缠绕的膜101的整个表面上；以及多个第二蒸发器127a、127b、127c，其被设置为面对第二沉积鼓122的外表面，并且被配置为将蒸气沉积在第二沉积鼓122上所缠绕的膜101上。第二蒸发器127a、127b、127c包括电子传输材料蒸发器127a、电子注入材料蒸发器127b和阴极形成金属蒸发器127c。

设置在第一沉积单元110和第二沉积单元120处的蒸发器的数量可以不同地设置。例如，空穴注入材料蒸发器、空穴传输材料蒸发器、有机发光材料蒸发器和电子传输材料蒸发器可以被设置在第一蒸发单元110处，而仅电子注入材料蒸发器和阴极形成金属蒸发器可以被设置在第二蒸发单元120处。另选地，空穴注入材料蒸发器和空穴传输材料蒸发器可以被设置在第一蒸发单元110处，而有机发光材料蒸发器、电子传输材料蒸发器、电子注入材料蒸发器和阴极形成金属蒸发器可以被设置在第二蒸发单元120处。

在辊对辊制造系统的情况下，最优选地，通过将所有蒸发器布置在单个沉积单元处来实现单个沉积单元内的所有配置。然而，在这种情况下，由于与单个沉积鼓对应的蒸发器的数量增大并且沉积鼓的尺寸显著增大，所以这种配置效率低。

因此，设置多个沉积单元110、120，并且在每个沉积单元110、120处布置适当数量的蒸发器。可以根据待制造的有机发光器件的结构、尺寸等来不同地控制布置在每个沉积单元110、120处的蒸发器的数量、位置等。

转动单元130被设置在从第一沉积单元110转印到第二沉积单元120的膜101的转印路径的中间区域处。而且，转动单元130在转动膜101的沉积表面和非沉积表面的状态下引导从第一沉积单元110输出的膜101，从而将膜101提供给第二沉积单元120。

如图3所示，转动单元130包括多个转动辊132、133、135、136。在图中，转动单元130包括四个转动辊132、133、135、136。然而，可以设置五个或更多的转动辊或者三个或更少的转动辊。

第一转动辊132和第二转动辊133被配置为主要转动在沉积在第一沉积单元110处之后输出的膜101的沉积表面和非沉积表面。第三转动辊135和第四转动辊136被配置为再次转动由第一转动辊132和第二转动辊133转动的膜101。

由第三转动辊135和第四转动辊136再次转动的膜101被输入到第二沉积单元120，并且缠绕在第二沉积鼓122上。与第一沉积鼓112相同，第二沉积鼓122接触缠绕在其上的膜101的非沉积表面。而且，膜101的沉积表面朝向外部，使得沉积材料被沉积在其上。

如上所述，在本公开中，转动单元130被设置在第一沉积单元110与第二沉积单元120之间，使得从第一沉积单元110输出的膜101被输入到第二沉积单元120。以下，将更详细地说明转动单元130的功能。

图5是示出未设置图3中所示的转动单元的辊对辊制造系统的结构的立体图。如图5所示，在该结构中，设置了用于将从第一沉积单元110输出的膜101引导到第二沉积单元120的引导辊138a、138b，而没有设置图3中所示的转动单元。

在具有该结构的辊对辊制造系统中，在第一沉积单元110上沉积之后输出的膜101由引导辊138a、138b引导以被输入到第二沉积单元120。当膜101被引导之后，在第一沉积单元110处，其上具有空穴注入层、空穴传输层和有机发光层的膜101的沉积表面接触引导辊138a、138b的表面。

膜101的沉积表面与引导辊138a、138b之间的接触导致层叠的空穴注入层、空穴传输层和有机发光层被损坏，并且使得在膜101上稍后层叠的层由于保留在膜101的沉积表面上的异物而恶化。

为了解决这样的问题，在本公开中设置了转动单元130。也就是说，如图3所示，当从第一沉积单元110输出的膜101被转动单元130的第一转动辊至第四转动辊132、133、135、136引导时，转动了膜101的沉积表面和非沉积表面。结果，膜101被引导而没有接触第一转动辊至第四转动辊132、133、135、136。

也就是说，由于膜101的沉积表面直到从第一沉积单元110输出的膜101被输入到第二沉积单元120为止都未接触包括辊的任何结构，所以可以防止膜101由于沉积层或异物而劣化。

转动单元130的第一转动辊至第四转动辊132、133、135、136不仅转动并引导膜101，而且还用作使第一沉积单元110和第二沉积单元120彼此同步的缓冲器。当膜101被沉积在第一沉积单元110和第二沉积单元120处时，第一沉积单元110和第二沉积单元120由于它们的沉积速度不同而导致彼此不同步。

例如，当膜101被转印到第二沉积单元120并且被沉积在第二沉积单元120处而不是在第一沉积单元110处时，在第二沉积单元120处，应降低膜101的转印速度或应停止转印膜101。这可能会导致在第一沉积单元110处的膜101的转印与第二沉积单元120处的膜101的转印之间发生干扰。为了防止这种干扰，当在第二沉积单元120处转印膜101时，应控制第一沉积单元110处的膜的转印速度。这需要用于控制膜提供辊104、第一沉积鼓112和掩膜驱动辊114的驱动的控制系统。另外，为了在控制系统的控制下控制供膜提供辊104、第一沉积鼓112和掩膜驱动辊114的速度，需要用于驱动膜提供辊104、第一沉积鼓112和掩模驱动辊114的变速电机。

在本公开中，通过使第一沉积单元110和第二沉积单元120彼此同步、通过将转动单元130用作一种缓冲器而不使用附加的辊驱动控制系统来防止在第一沉积单元110处的膜101的转印速度与第二沉积单元120处的膜101的转印速度之间发生干扰。为此，在本公开中，可移动地安装第一转动辊至第四转动辊132、133、135、136，使得其间的相对间隔增大或减小。而且，根据第一沉积单元110和第二沉积单元120是否已经执行了沉积处理来移动第一转动辊至第四转动辊132、133、135、136，从而使第一沉积单元110和第二沉积单元120彼此同步。

例如，如果膜101在第一沉积单元110处被转印而不是被沉积，并且如果膜101仅被沉积在第二沉积单元120处，则第二沉积单元120的第二沉积鼓122和第二掩模驱动辊124的驱动速度降低或其驱动停止。然而，由于第一沉积单元110的第一沉积鼓112和第一掩模驱动辊114以其原始速度来被驱动，所以在第一沉积单元110处的膜101的转印速度与第二沉积单元120处的膜101的转印速度之间发生了干扰。结果，膜101的张力降低，并且产生了褶皱。

为了解决这样的问题，第一转动辊至第四转动辊132、133、135、136沿着其间的间隔增大的方向移动，从而将由第一沉积单元110转印的膜101容纳到转动单元130中。这可以使膜101甚至在以下情况下也能够总是维持恒定的张力：第二沉积鼓122与第二掩模驱动辊124的驱动速度降低或其驱动停止，而第一沉积鼓112和第一掩模驱动辊114以原始速度来被驱动。

这里，可以根据第二沉积单元120处的沉积时间(即，第二沉积单元120处的膜101的转印速度)来确定第一转动辊至第四转动辊132、133、135、136的移动范围和移动速度。

如上所述，在本公开中，设置了具有沉积鼓的多个沉积单元，以在膜缠绕在沉积鼓上的状态下进行沉积处理。特别地，当设置了多个沉积单元时，转动单元被设置在沉积单元之间。这可以防止由于膜的沉积表面与另一个辊之间的接触而导致沉积层的损坏或由于异物而导致膜的恶化。

可以根据待制造的有机发光器件的结构来安装不同数量的沉积单元。而且，也可以根据所安装的沉积单元来安装不同数量的转动单元。

图6是示出根据本公开的有机发光器件的另一结构的截面图。而且，图7是示出用于制造图6中所示的有机发光器件的辊对辊制造系统的视图。辊对辊制造系统的结构随着待制造的有机发光器件的结构的改变而改变。

如图6所示，有机发光器件包括设置在膜201上的阳极281、形成在阳极281上的空穴注入层282、形成在空穴注入层282上并被配置为传输所注入的空穴的空穴传输层283、设置在空穴传输层283上的第一有机发光层28、设置在第一有机发光层284上的第二有机发光层285、设置在第二有机发光层285上的电子传输层286、设置在电子传输层286上的电子注入层287、设置在电子注入层287上的缓冲层288、设置在缓冲层288上的阴极289、以及设置在阴极289上的封装层290。

在具有这种结构的有机发光器件中，9层(即，空穴注入层282、空穴传输层283、第一有机发光层284、第二有机发光层285、电子传输层286、电子注入层28、缓冲层288、阴极289和封装层290)被设置在膜201上所设置的阳极281上。

为了制造具有这种结构的有机发光器件，需要如图7所示的具有3个沉积单元210、220、230的辊对辊制造系统。可以使用具有2个沉积单元的辊对辊制造系统。然而，在这种情况下，一个沉积单元应被设置有4个或5个蒸发器，从而导致降低了沉积效率。

如图7所示，根据本公开的辊对辊制造系统包括：膜提供辊204，其用于提供膜201；膜收集辊206，其用于收集膜201；第一蒸发器至第三蒸发器210、220、230，其用于沉积从膜提供辊204提供的膜201；第一转动单元240，其设置在第一沉积单元210与第二沉积单元220之间，并且用于转动沉积在第一沉积单元210处的膜201并将膜201提供到第二沉积单元220；以及第二转动单元250，其设置在第二沉积单元220与第三沉积单元230之间，并且用于转动沉积在第二沉积单元220处的膜201并将膜201提供到第三沉积单元230。

第一沉积单元至第三沉积单元210、220、230具有与图3中所示的第一沉积单元110和第二沉积单元120相似的配置。第一转动单元240和第二转动单元250具有与图3中所示的转动单元130相同的配置。在相同的结构下，根据本公开的一方面的沉积在第一沉积单元至第三沉积单元210、220、230处的沉积材料与沉积在图3中所示的第一沉积单元110和第二沉积单元120处的沉积材料不同。因此，将省略关于第一沉积单元至第三沉积单元210、220、230以及第一转动单元240和第二转动单元250的详细说明。

在根据本公开的一方面的辊对辊制造系统中，第一转动单元240被布置在第一沉积单元210与第二沉积单元220之间，并且第二转动单元220被布置在第二沉积单元220与第三沉积单元230之间。这可以防止其上具有沉积在第一沉积单元210和第二沉积单元220处的沉积材料的膜202的沉积表面接触任何结构，从而防止由于异物而导致的沉积层的损坏或膜的恶化

在图中，例示了具有3个沉积单元和设置在这3个沉积单元之间的2个转动单元的辊对辊制造系统。然而，本公开不限于此，并且可以应用于根据有机发光器件的层叠结构而具有多个沉积单元和转动单元的辊对辊制造系统。

由于目前的特征可以在不脱离其特性的情况下以多种形式来实现，所以还应当理解，除非另有规定，否则上述方面不受上述描述的任何细节的限制，而是应在如所附权利要求限定的范围内宽泛地解释，因此落在权利要求的边界和界限或这些边界和界限的等同物内的所有改变和修改旨在被所附权利要求所涵盖。