一种两通路TVS器件及其制备方法与流程

文档序号:15219560发布日期:2018-08-21 17:17阅读:134来源:国知局

本发明涉及半导体技术领域,特别涉及一种两颗tvs并联后与第三颗tvs串联的大浪涌tvs(transientvoltagesuppressors)器件及其制备方法。



背景技术:

随着电子信息技术的发展,半导体器件日趋小型化,高密度和多功能化,尤其是便携式的消费电子产品对主板面积有严格的要求。

瞬态电压抑制器(tvs)是一种用于电压瞬变和浪涌防护的半导体器件,正可以很好的解决这些问题。它具有箝位系数很小,体积小,响应快,漏电流小,可靠性高等优点。因而在电压瞬变和浪涌的防护上得到广泛应用。

随着科技的发展我们希望tvs具有更大抗浪涌能力,并能对两路甚至多路电路同时防护。



技术实现要素:

为解决上述技术问题,本发明提供了一种使用两颗tvs并联后与第三颗tvs串联封装两通路tvs器件及其制备方法,来保证器件能同时对两路电路防护。

本发明采用的技术方案为:

一种两通路tvs器件,包括三颗tvs芯片,其中两颗tvs芯片并联后与第三颗tvs芯片串联组成所述两通路tvs器件。

具体地,所述两通路tvs器件的结构由上到下依次为两颗并排设置的版面较小的tvs和一颗版面较大的tvs,两颗版面较小tvs的结构从上到下依次为上框架、焊料、芯片、焊料、铜片或者中间框架,一颗版面较大的tvs的结构从上到下依次为铜片或中间框架、焊料、芯片、焊料、下框架,所述铜片或者中间框架为三颗tvs芯片共用。

上述两通路tvs器件的制备方法包括以下步骤:

步骤a:把铜片或中间框架、tvs芯片和下框架用焊料进行粘结,然后低温预回流使焊料凝固;

步骤b:把两颗tvs芯片分别与两个上框架用焊料进行粘接,然后低温预回流使焊料凝固;

步骤c:在经步骤a处理的铜片或中间框架上点两排锡膏,把经步骤b处理的芯片与锡膏对齐叠合;

步骤d:隧道炉焊接;

步骤e:塑封,测试。

本发明的有益效果是:本发明是一种双向双路钳位防浪涌器件。可以同时对两路电路实现浪涌防护,本发明可以有集成度要求的电路上使用,并且具有封装体积小,成本低,可靠性高的优点。

附图说明

图1是本发明两通路tvs器件制造方法步骤a的状态示意图;图1a为正视图,图1b为侧视图。

图2是本发明两通路tvs器件制造方法步骤b的状态示意图;图2a为正视图,图2b为侧视图。

图3是本发明两通路tvs器件制造方法步骤c的状态示意图;图3a为正视图,图3b为侧视图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例和附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。

如图1-3所示,本发明的两通路tvs器件,包括三颗tvs芯片100、200、300,其中两颗tvs芯片100、200版面是4.5×2.5mm,其并联后与第三颗版面是4.5×2.5mm的tvs芯片300串联组成所述两通路tvs器件;具体结构为,两颗tvs芯片100、200上部通过焊料101、201与上框架102、202焊接在一起,下部通过焊料103、203与铜片或者框架400连接,铜片或者框架400下部通过焊料301与芯片300焊接在一起,芯片300下部通过焊料302与下框架303焊接在一起,铜片或者框架400为三颗芯片共用。

上述两通路tvs器件的制备方法包括以下步骤:

步骤a:把铜片或中间框架400、tvs芯片300和下框架303用焊料进行粘结,然后低温预回流使焊料凝固;使用的tvs芯片耐压为29v,预回流温度260℃;

步骤b:把两颗tvs芯片100、200分别与两个上框架102、202用焊料进行粘接,然后低温预回流使焊料凝固;使用的tvs芯片耐压为29v,预回流温度260℃;

步骤c:在经步骤a处理的铜片或中间框架400上点两排锡膏,把经步骤b处理的芯片100、200与锡膏对齐叠合;

步骤d:隧道炉焊接;隧道炉温度400℃max;

步骤e:塑封,测试;使用的封装为smc-3封装,器件抗浪涌能力达到6kv以上,双向抗浪涌。

以上已将本发明做详细说明,但以上所述,仅为本发明的较好的实施例,不应当限定本发明实施的范围。即,凡是根据本发明申请范围所作的等效变化与修饰等,都应仍然属于本发明的专利涵盖范围内。



技术特征:

技术总结
本发明提供了一种两通路TVS器件,其包括三颗TVS芯片,其中两颗TVS芯片并联后与第三颗TVS芯片串联组成所述两通路TVS器件。传统TVS器件是单路器件,通过单芯片或者两颗芯片或者多颗芯片串联叠加实现,无法在得到大浪涌能力的同时对两路电路同时保护。本发明通过两颗芯片并联后与第三颗芯片叠加的方法,让器件同时兼备大浪涌能力和多路保护的特性,并且器件具有封装体积小,成本低的优点。

技术研发人员:王帅;苏海伟;魏峰;单少杰;杨琨;姜洪源;金志任;蒋立柱
受保护的技术使用者:上海长园维安微电子有限公司
技术研发日:2017.12.21
技术公布日:2018.08.17
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