一种增强抗单粒子能力加固的槽型栅功率器件的制作方法

文档序号:14594716发布日期:2018-06-05 04:19阅读:来源:国知局
技术特征:

1.一种增强抗单粒子能力加固的槽型栅功率器件,其特征在于,所述器件包括:

N+源极接触,所述N+源极接触为深槽结构;

Pwell区域,所述Pwell区域位于所述N+源极的下方;

N漂移区,所述N漂移区位于所述Pwell区域的下方;

其中,所述N+源极、Pwell区域、N漂移区构成寄生NPN晶体管结构;

其中,所述器件还包括:

N型空穴阻挡层,所述N型空穴阻挡层设置在所述N+源极的下方,阻挡空穴载流子流动。

2.如权利要求1所述的抗单粒子能力加固的槽型栅功率器件,其特征在于,所述器件还包括:

所述深槽结构两侧填充有厚氧化层介质,所述深槽结构底部形成P+区域,吸收空穴载流子。

3.如权利要求1所述的抗单粒子能力加固的槽型栅功率器件,其特征在于,所述器件还包括:

所述深槽结构位于所述Pwell区域内。

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