一种基于布拉格相移光栅的电光调制器的制作方法

文档序号:11763750阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种基于布拉格相移光栅的电光调制器,其特征是,包括基底层、下波导层和上波导层,所述下波导层和上波导层顺序叠接在基底层的上表面上,所述上波导层的顶部设有等周期的布拉格光栅,布拉格光栅的中间位置设有相移结构,相移结构将布拉格光栅分成大小相同的个光栅结构,所述基底层的宽度尺寸要大于下波导层的宽度尺寸、上波导层的宽度尺寸,基底层的上表面还设有电极。

2.根据权利要求1所述的基于布拉格相移光栅的电光调制器,其特征是,所述基底层为金属银。

3.根据权利要求1所述的基于布拉格相移光栅的电光调制器,其特征是,所述下波导层为低折射率的光电聚合物。

4.根据权利要求1所述的基于布拉格相移光栅的电光调制器,其特征是,所述上波导层为高折射率的硅。

5.根据权利要求1所述的基于布拉格相移光栅的电光调制器,其特征是,所述布拉格光栅的周期单元为凹凸状的对称矩形结构,并且周期单元中凹槽部分与凸起部分宽度相同。

6.根据权利要求1所述的基于布拉格相移光栅的电光调制器,其特征是,所述电极为两个金属电极,两个金属电极分别设置于基底层1上表面上的下波导层和上波导层的组合体的两侧。

7.根据权利要求1所述的基于布拉格相移光栅的电光调制器,其特征是,所述下波导层和上波导层的宽度均为200nm。

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