本实用新型涉及电容生产技术领域，具体公开了一种铝电容组粒装置。
背景技术：
铝电容作为一种储能电子元件，具有容量大的优点，适用于电源滤波或低频电路中。铝电容生产工艺主要包括芯子卷绕、电容组粒两大工程。组粒即是将卷绕好的芯子组入到铝外壳内的过程，此过程会使用到组粒装置，此装置主要包含了组粒治具和压合机构。一般芯子与铝外壳是过渡配合的尺寸设置，芯子组入到铝外壳时芯子外壁一般都会在铝外壳边沿划过并产生些许的粉屑，粉屑会掉落到组粒治具内，容易造成组粒治具的堵塞，需要耗费大量的时间去清理，降低了生产效率。
技术实现要素：
基于此，有必要针对现有技术问题，提供一种铝电容组粒装置，设置独特的结构，可将在芯子与铝外壳组合过程中产生的粉屑进行及时排除，防止组粒治具内堵塞。
为解决现有技术问题，本实用新型公开一种铝电容组粒装置，包括底座，底座上方设置有转盘，转盘与设置于底座顶部的电机驱动连接，转盘顶部等分设置有若干组粒治具，组粒治具包括固定连接在转盘上的基座、固定连接在基座上的立柱、固定连接在立柱上的组合板，组合板一侧设置有若干组粒嵌合槽，立柱一侧设置有与组粒嵌合槽连通的排屑道；底座一侧设置有组粒压合机构，组粒压合机构包括两根并列设置在底座上的支撑柱、固定连接在支撑柱顶部的固定板、设置于固定板上方的活动板、设置于活动板一侧的气缸，气缸与一固定连接在底座上的竖版固定连接，气缸输出轴固定连接在活动板顶部，固定板与活动板之间通过弹簧连接，活动板一侧固定连接有夹持座。
优选地，固定板上固定连接有贯穿活动板且与活动板滑动连接的导柱，弹簧套设在导柱上。
优选地，固定板顶部固定连接有缓冲垫。
优选地，转盘上且位于组粒治具一侧设置有废屑收集槽。
优选地，支撑柱底部固定连接有缓冲气垫。
本实用新型的有益效果为：本实用新型公开一种铝电容组粒装置，设置独特的结构，由于立柱上设置了与组粒嵌合槽连通的排屑道，组粒过程中产生的粉屑将自动掉落到排屑道内，粉屑在转盘旋转带动下获得离心力，粉屑将自动飞出排屑道外。组粒压合机构能够进行组粒的压合操作，转盘的转动能够连续地带动组粒治具转动到组粒压合机构下方，节省了大量的操作等待时间。其结构简单，使用方便，可将在芯子与铝外壳组合过程中产生的粉屑进行及时排除，防止组粒治具内堵塞，减少组粒装置的维护时间，提升生产效率。气缸压动活动板时，活动板将压缩弹簧并沿着导柱方向直线移动，有效提升活动板移动的直线性及流畅性，提升组粒压合的质量及效率。在固定板顶部设置缓冲垫，活动板在气缸的驱动下向固定板侧靠近并与缓冲垫接触相抵，缓冲垫能有效地限制活动板最大移动范围，并减缓活动板移动速度，防止活动板过度压合导致产品损坏，提升组粒质量。在组粒治具一侧设置废屑收集槽，从排屑道飞出的粉屑将掉落到废屑收集槽中，防止粉屑在转盘上飞出，方便对粉屑进行收集处理。在支撑柱底部设置缓冲气垫，缓冲气垫可减缓组粒压合时对底座造成的冲击力，减小底座振动对组粒压合造成的影响，提升组粒稳定性。
附图说明
图1为本实用新型组粒装置的俯视结构示意图。
图2为本实用新型的组粒压合机构的结构示意图。
附图标记为：底座1、转盘2、组粒治具3、基座31、立柱32、排屑道321、组合板33、组粒嵌合槽331、组粒压合机构4、支撑柱41、固定板42、活动板43、气缸44、竖板45、弹簧46、夹持座47、导柱48、缓冲垫49、废屑收集槽5、缓冲气垫6。
具体实施方式
为能进一步了解本实用新型的特征、技术手段以及所达到的具体目的、功能，下面结合附图与具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述。
参考图1至图2。
本实用新型实施例公开一种铝电容组粒装置，包括底座1，底座1上方设置有转盘2，转盘2与设置于底座1顶部的电机驱动连接，转盘2顶部等分设置有若干组粒治具3，组粒治具3包括固定连接在转盘2上的基座31、固定连接在基座31上的立柱32、固定连接在立柱32上的组合板33，组合板33一侧设置有若干组粒嵌合槽331，立柱32一侧设置有与组粒嵌合槽331连通的排屑道321；底座1一侧设置有组粒压合机构4，组粒压合机构4包括两根并列设置在底座1上的支撑柱41、固定连接在支撑柱41顶部的固定板42、设置于固定板42上方的活动板43、设置于活动板43一侧的气缸44，气缸44与一固定连接在底座1上的竖版45固定连接，气缸44输出轴固定连接在活动板43顶部，固定板42与活动板43之间通过弹簧46连接，活动板43一侧固定连接有夹持座47。
具体使用时，在组粒嵌合槽331内置入电容铝外壳，在夹持座47上放置电容芯子并对芯子进行夹持。转盘2通过设置于其下方的电机驱动旋转，可使用步进电机对转盘2进行驱动，以让转盘2带动设置在其上方的组粒治具3依次地、定角度地转动到组粒压合机构4下方，方便进行连续的组粒压合操作。当组粒治具3到达组粒压合机构4下方时，启动气缸44，气缸44将对活动板43提供下压力，活动板43将压缩弹簧46并向固定板42一侧靠近，活动板43下压过程中，夹持在夹持座47上的芯子被压入到放置在组粒嵌合槽331上的铝外壳内，实现了芯子与铝外壳的组合。组粒过程中，芯子与铝外壳组合摩擦产生的粉屑将通过组粒嵌合槽331掉落到排屑道321中，由于转盘2的转动，粉屑将获得离心力飞离排屑道321。粉屑能够及时得到排除，防止组粒治具内堵塞，减少组粒装置的维护时间，提升生产效率。
基于上述实施例，固定板42上固定连接有贯穿活动板43且与活动板43滑动连接的导柱48，弹簧46套设在导柱48上。气缸44压动活动板43时，活动板43将压缩弹簧46并沿着导柱48方向直线移动，有效提升活动板43移动的直线性及流畅性，提升组粒压合的质量及效率。
基于上述实施例，固定板42顶部固定连接有缓冲垫49。在固定板42顶部设置缓冲垫49，活动板43在气缸44的驱动下向固定板42侧靠近并与缓冲垫49接触相抵，缓冲垫49能有效地限制活动板43最大移动范围，并减缓活动板43移动速度，防止活动板43压合过度导致产品损坏，提升组粒质量。
基于上述实施例，转盘2上且位于组粒治具3一侧设置有废屑收集槽5。在组粒治具3一侧设置废屑收集槽5，从排屑道321飞出的粉屑将掉落到废屑收集槽5中，防止粉屑在转盘2上飞出，方便对粉屑进行收集处理。
基于上述实施例，支撑柱41底部固定连接有缓冲气垫6。在支撑柱41底部设置缓冲气垫6，缓冲气垫6可减缓组粒压合时对底座1造成的冲击力，减小底座1振动对组粒压合造成的影响，提升组粒稳定性。
以上实施例仅表达了本实用新型的1种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。