技术特征：
技术总结
本发明涉及的带有双栅的变K槽型LDMOS属于功率半导体器件技术领域。本发明相对于传统结构具有以下三个特点：（1）在N型漂移区引入双介质槽以折叠漂移区，提高器件的耐压。（2）利用双RESURF技术在双槽之间引入的垂直P柱可以将等势线延伸至漂移区底部从而充分利用器件漂移区，调制器件体内电场可进一步提升器件的击穿电压还可大幅提高漂移区浓度降低比导通电阻。（3）当器件开启时双栅会给电流提供双导通沟道，从而降低器件的比导通电阻。本发明的有益效果为，具有比导通电阻低、耐压高和版图面积小的优点，尤其适用于超低比导通电阻的横向高压半导体功率器件。
技术研发人员：吴丽娟;朱琳;黄也;吴怡清;张银艳;雷冰
受保护的技术使用者：长沙理工大学
技术研发日：2018.06.29
技术公布日：2018.10.16