一种基于等离子蚀刻机气动布局的反应室腔体的制作方法

本发明涉及反应室腔体，特别涉及一种基于等离子蚀刻机气动布局的反应室腔体，属于蚀刻机技术领域。

背景技术：

蚀刻通常也称光化学蚀刻，指通过显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，目前，市面上的蚀刻机大多为喷淋式蚀刻机，喷淋式蚀刻机上设有蚀刻喷淋装置，且机身顶部为平面结构，通过喷淋裝置对工件的正反两面进行蚀刻。

传统的装置在使用时装置内部会产生气体紊流的现象，不利于装置的正常使用；同时传统装置在安装和维修时，由于内部构件的格挡，导致维修和安装不便。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种基于等离子蚀刻机气动布局的反应室腔体，以解决上述背景技术中提出的使用不便的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种基于等离子蚀刻机气动布局的反应室腔体，包括腔体、安装座和腔门，所述腔体的两端分别设有第一门框和第二门框，所述第一门框的一边侧和第二门框的一边侧分别设有第一安装板和第二安装板，所述第二安装板的两端和第一安装板的两端均通过转动接头分别与腔门一端的两侧转动连接，两个所述腔门的中部均设有观察视窗，所述腔体的外壁均匀设有两个加强筋，所述腔体的底部设有安装座，所述安装座顶部的两边侧均设有滑槽，两个所述滑槽分别与固定板的两端滑动连接，所述腔体的底部设有通气腔，所述通气腔的底部设有固定环，所述腔体的两侧均设有若干通气孔。

作为本发明的一种优选技术方案，所述腔体底部的四个边角均设有支撑腿。

作为本发明的一种优选技术方案，所述固定板的顶部设有若干固定螺孔和若干散热孔。

作为本发明的一种优选技术方案，两个所述腔门的边侧均设有锁扣。

作为本发明的一种优选技术方案，所述腔体的顶部设有提手。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明一种基于等离子蚀刻机气动布局的反应室腔体，该装置工艺气体通过布气管一次导流，均匀分布于下方槽内及产品两侧，反应产物副产物和未电离气体通过腔体底面长方箱体侧板进行第二次导流，然后经过腔体底部外面变径管进行第三次导流。该气动布局能有效保证保证工艺气体均匀分布于各槽及被处理产品两侧、使反应室腔体内部气流及离子平稳交换，使反应稳定均匀没有素流；该装置内部组件安装的固定板可以从装置内部滑动出来，便于装置内部构件的安装和维修。

附图说明

图1为本发明正面结构示意图；

图2为本发明外部的结构示意图；

图3为本发明侧面的结构示意图；

图4为本发明侧面的结构示意图；

图5为本发明固定座的结构示意图。

图中：1、腔体；2、安装座；3、加强筋；4、第一门框；5、腔门；6、观察视窗；7、转动接头；8、第一安装板；9、第二门框；10、通气孔；11、第二安装板；12、通气腔；13、固定环；14、滑槽；15、固定板。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1-5，本发明提供了一种基于等离子蚀刻机气动布局的反应室腔体，包括腔体1、安装座2和腔门5，腔体1的两端分别设有第一门框4和第二门框9，第一门框4的一边侧和第二门框9的一边侧分别设有第一安装板8和第二安装板11，第二安装板11的两端和第一安装板8的两端均通过转动接头7分别与腔门5一端的两侧转动连接，两个腔门5的中部均设有观察视窗6，腔体1的外壁均匀设有两个加强筋3，腔体1的底部设有安装座2，安装座2顶部的两边侧均设有滑槽14，两个滑槽14分别与固定板15的两端滑动连接，腔体1的底部设有通气腔12，通气腔12的底部设有固定环13，腔体1的两侧均设有若干通气孔10。

优选的，腔体1底部的四个边角均设有支撑腿，便于该装置的存放。

优选的，固定板15的顶部设有若干固定螺孔和若干散热孔，便于装置内部构件的固定和散热。

优选的，两个腔门5的边侧均设有锁扣，方便将腔门5固定在腔体1的外部。

优选的，腔体1的顶部设有提手，便于装置的运输和移动。

具体使用时，本发明一种基于等离子蚀刻机气动布局的反应室腔体，该装置使用时，将该装置内部的固定板15从安装座2的内部滑出来，将该装置内部的组成元件固定在固定板15的顶部，再次滑进去即可，使用时，将加工件放置到该装置的内部，加工时，可以通过观察视窗6观察该加工件的加工情况，同时该装置产生的气体会从若干通气孔10的内部排出装置。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“同轴”、“底部”、“一端”、“顶部”、“中部”、“另一端”、“上”、“一侧”、“顶部”、“内”、“前部”、“中央”、“两端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

此外，术语“第一”、“第二”、“第三”、“第四”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量，由此，限定有“第一”、“第二”、“第三”、“第四”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置”、“连接”、“固定”、“旋接”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定，对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

技术特征：

技术总结
本发明公开了一种基于等离子蚀刻机气动布局的反应室腔体，包括腔体、安装座和腔门，腔体两个边侧的一端分别设有第一安装板和第二安装板，第二安装板的两端和第一安装板的两端均通过转动接头分别与腔门一端的两侧转动连接，两个腔门的中部均设有观察视窗，本发明一种基于等离子蚀刻机气动布局的反应室腔体，该装置工艺气体通过布气管一次导流，均匀分布于下方槽内及产品两侧，反应产物副产物和未电离气体通过腔体底面长方箱体侧板进行第二次导流，然后经过腔体底部外面变径管进行第三次导流。该气动布局能有效保证保证工艺气体均匀分布于各槽及被处理产品两侧、使反应室腔体内部气流及离子平稳交换，使反应稳定均匀没有素流。

技术研发人员：廖鑫;王奇
受保护的技术使用者：珠海安普特科技有限公司
技术研发日：2018.07.16
技术公布日：2018.12.11