显示模组及显示屏的制作方法

本发明涉及显示领域，特别是涉及一种显示模组及显示屏。

背景技术：

有机发光二极管(organiclight-emittingdiode，oled)显示面板，也称为有机电致发光显示面板，是一种新兴的平板显示装置，由于其具有制备工艺简单、成本低、功耗低、发光亮度高、体积轻薄、响应速度快，而且易于实现彩色显示和大屏幕显示、易于实现柔性显示等优点，具有广阔的应用前景。

在有机发光二极管显示面板制作完成后，通常需要进行一系列的显示面板可靠性测试，通常采用落球实验测试屏幕的抗冲击性能，在该类测试方案及实际使用中，存在瞬间的冲击导致显示面板局部应力激增的现象，从而可能引起显示异常。

因此，当显示面板受到瞬间冲击时，其上所受应力急剧增大，易引发显示区域出现黑斑、亮斑、彩斑等显示不良。

技术实现要素：

基于此，有必要针对显示面板受到撞击时易出现显示不良的问题，提供一种显示面板及显示模组。

一种显示模组，包括：包括：若干个发光单元以及相邻所述发光单元之间的像素限定层；其中，所述像素限定层包括第一像素限定层及形成在所述第一像素限定层上的第二像素限定层，所述第一像素限定层的弹性模量小于所述第二像素限定层的弹性模量。

在其中一个实施例中，所述显示模组还包括支撑柱，所述支撑柱位于所述第二像素限定层远离所述发光单元的表面上；所述发光单元包括第一电极、形成在所述第一电极上的发光层及形成在所述像素限定层、所述支撑柱及所述发光层上的第二电极；所述第二像素限定层朝向所述第二电极的表面上具有第一凹凸结构。

在其中一个实施例中，所述第二像素限定层通过所述第一凹凸结构对应的嵌入所述第二电极、所述支撑柱。

在其中一个实施例中，所述第一凹凸结构包括多个第一凹槽，所述多个第一凹槽以等间距的方式依次排列。

在其中一个实施例中，所述第一凹槽的深度小于所述第二像素限定层的厚度，优选地，所述第一凹槽的深度范围是50纳米至90纳米。

在其中一个实施例中，所述第一像素限定层朝向所述第二像素限定层的表面上具有第二凹凸结构，所述第一像素限定层通过所述第二凹凸结构嵌入所述第二像素限定层。

在其中一个实施例中，所述第二凹凸结构包括多个第二凹槽，所述多个第二凹槽以等间距的方式依次排列；所述第二凹槽的深度小于所述第一像素限定层的厚度；所述第二凹槽的深度范围是80纳米至120纳米。

在其中一个实施例中，所述像素限定层包括层叠交错设置的至少一层所述第一像素限定层和至少一层所述第二像素限定层，且至少一层所述第一像素限定层嵌入相邻的第二像素限定层。

在其中一个实施例中，所述像素限定层的厚度范围是1200纳米至2000纳米。

一种显示屏，包括前述的显示模组。

上述显示模组及显示屏，该显示模组包括：若干个发光单元以及相邻所述发光单元之间的像素限定层。其中，所述像素限定层包括第一像素限定层及形成在所述第一像素限定层上的第二像素限定层，所述第一像素限定层的弹性模量小于所述第二像素限定层的弹性模量。通过将像素限定层分为第一像素限定层和第二像素限定层，且第一像素限定层的弹性模量与第二像素限定层的弹性模量不等，可以有效解决了显示模组受到外物冲击时应力过于集中的问题，其中弹性模量小的像素限定层可用作柔性缓冲层，避免应力集中。

附图说明

图1为显示模组的纵向剖面示意图；

图2a至图2c为本申请的一个实施例提供的显示模组的部分截面图；

图3a至图3b为本申请的一个实施例提供的显示模组的部分截面图；

图4为本申请的一个实施例提供的显示模组的部分截面图；

图5为本申请的一个实施例提供的显示模组的部分截面图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

需要说明的是，当元件被称为“设置于”、“形成于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是在于限制本发明。

正如背景技术所述，现有的有机发光二极管显示面板制作完成后，通常会对显示面板进行可靠性测试。通常，会采用落球实验检测屏体可靠性。例如，在如下具体的实验条件下：使用重量为32.65g直径为20mm的钢球，将落球固定于夹具上，并从2cm至62.5cm的高度上落下，击中屏体表面时，实验结果为屏体表面被击中的区域出现黑斑、亮斑、彩斑等不良。发明人分析得知，落球击中屏体的瞬间，屏体上的应力集中于落球的落点，应力无法分散，从而导致显示面板中膜层被破坏甚至导致显示面板破碎。

基于此，本申请提供了一种显示模组，可释放屏体上的应力，提高显示面板的可靠性。本申请的显示模组可应用于硬屏，也可以应用于柔性显示屏(如amoled柔性显示屏)。

图1示出了显示模组的纵向剖面图。该显示面板包括基板110、驱动层120、平坦化层130、第一电极140、发光层150、第二电极160以及像素限定层170。其中，驱动层120包括tft(薄膜晶体管)。发光层150划分为第一子像素181、第二子像素182和第三子像素183。第一电极140通过设于平坦化层130上的通孔与引线导电层121电连接。像素限定层170上与发光层150对应的位置设有开口。当第一电极140被驱动层120驱动获得正电压时，发光层150位于第一电极140和第二电极160之间，发光层因激发产生可见光。根据电压的大小，光有不同的亮度。根据材料不同，例如第一子像素181可为红色子像素、第二子像素182可为蓝色子像素和第三子像素183的材料可为绿色子像素，发射层发射红色光、绿色光或蓝色光。

在一个实施例中，本申请的一个实施例提供一种显示模组。该显示模组包括若干个发光单元以及相邻发光单元之间的像素限定层。请参见图2a，发光单元180包括第一电极140、形成在第一电极上的发光层150及形成在像素限定层170、发光层150上的第二电极160。其中，像素限定层170包括第一像素限定层220及形成在第一像素限定层220上的第二像素限定层230，第一像素限定层220的弹性模量小于第二像素限定层230的弹性模量。进一步地，请参见图2b,该显示模组包括阵列基板210、形成在阵列基板210上的第一电极140、形成在第一电极140上的像素限定层170及形成在像素限定层170及发光层150上的第二电极160。像素限定层170用于隔离各个发光单元。

其中，阵列基板210包括薄膜晶体管，薄膜晶体管通常包括缓冲层211，形成在缓冲层211上的半导体层212，半导体层包括源区212a、漏区212b和位于源区212a与漏区212b之间的沟道区212c。薄膜晶体管还包括位于半导体层212上的栅极绝缘层213以及位于栅极绝缘层213上的栅极214。栅极214上包括层间绝缘层215，源极216和漏极217位于层间绝缘层215上，并通过接触孔电连接至源区212a和漏区212b。源极216和漏极217上覆盖有平坦化层130。可以理解是，层间绝缘层215与平坦化层130之间还设置有钝化层，钝化层的设置是本领域所公知，在此不再赘述。

第一电极140形成在阵列基板210上。根据显示模组的类型，比如顶发光类型或底发光类型，第一电极140可以用做透明电极或反射电极。当第一电极140用作透明电极时，第一电极140可以利用可具有相对大的功函数的透明导电材料形成，材料例如氧化铟锡(ito)、氧化锌锡(zto)、氧化铟锌(izo)、氧化锌(znox)、氧化锡(snox)、氧化镓铟锌(gizo)、掺有铝的氧化锌(azo)等。这些可以单独使用或者以其的组合形式使用。当第一电极140用作反射电极时，则第一电极140可以利用金属，例如银(ag)、铝(al)、铂(pt)、金(au)、铬(cr)、钨(w)、钼(mo)、钛(ti)、钯(pd)等形成，或者利用这些金属的合金形成。

在第一电极140上形成像素限定层170，像素限定层170上设置有与发光层150对应的开口240，开口240对应的位置处形成发光单元180。像素限定层170包括形成在第一电极140上的第一像素限定层220及形成在第一像素限定层220上的第二像素限定层230。其中，第一像素限定层220可包括但不限于诸如苯并环丁烯(bcb)、聚酰亚胺(pi)、聚酰胺(pa)、丙烯酸树脂或酚醛树脂等的有机材料。第二像素限定层230可包括但不限于诸如氮化硅、氧化硅或氮氧化硅的等的无机材料。从而第一像素限定层220的弹性模量小于第二像素限定层230的弹性模量。进一步地，在像素限定层170上可以通过例如光刻工艺形成与发光层150对应的开口240,发光单元180位于开口240内。

请参见图2c，发光单元180还包括包括注入第一载流子的第一层组251、形成在第一层组251上的发光层150及形成在发光层150上注入第二载流子的第二层组252。其中，第一层组251可以包括第一载流子注入层，还可以包括第一载流子传输层，也可以包括第二载流子阻挡层。可以理解的是，当第一载流子是空穴，则第二载流子是电子；当第一载流子是电子，则第二载流子是空穴。发光层150指的是在驱动显示面板时电子与空穴复合形成激子从而产生光发射。第二层组252可以包括第二载流子注入层，还可以包括第二载流子传输层，也可以包括第一载流子阻挡层。这是本领域的技术人员公知的，这里不再赘述。

请继续参见图2b，第二电极160覆盖像素限定层170和发光层150。第二电极160可以根据根据显示模组的类型用做透明电极或反射电极。当显示模组是顶发光类型时，第二电极160是透明电极。当显示模组是底发光类型时，第二电极160是反射电极。第二电极160的材料与第一电极140的材料是类似的，在此不再赘述。

由于第一像素限定层220的弹性模量小于第二像素限定层230的弹性模量，第一像素限定层220用作应力吸收层，第二像素限定层230用作应力支撑层。当显示模组被重物冲击时，显示模组受到的应力可以得到一定程度的分散，从而增强了显示模组的弯曲特性，提高显示模组在落球实验测试中的信赖性。本实施例中，通过将像素限定层分为第一像素限定层和第一像素限定层，且第一像素限定层的弹性模量小于第二像素限定层的弹性模量，可以有效解决了显示模组受到外物冲击时应力过于集中的问题，其中弹性模量较小的第一像素限定层可用作应力缓冲层，弹性模量较大的第一像素限定层可用作应力支撑层，当重物冲击显示模组时，避免应力集中，以免显示模组损坏。

在一个实施例中，请参见图3a，显示模组还包括支撑柱320，支撑柱320位于第二像素限定层230远离发光单元的表面上，且支撑柱320位于第二像素限定层230与第二电极160之间，第二电极160覆盖像素限定层170、支撑柱320及发光层150。

具体地，在第一电极140上形成像素限定层170，像素限定层170包括形成在第一电极140上的第一像素限定层220及形成在第一像素限定层220上的第二像素限定层230。在第二像素限定层230上形成多个支撑柱320。支撑柱320可以采用与第一像素限定层220相同的材料，比如聚酰亚胺。支撑柱320也可以采用与第一像素限定层220不同的材料。

请参见图3b，像素限定层170包括形成在阵列基板210上的第一像素限定层220及形成在第一像素限定层220的第二像素限定层230。第二像素限定层230朝向第二电极160的表面上具有第一凹凸结构310，第二像素限定层230通过第一凹凸结构310对应的嵌入第二电极160。支撑柱320也可以通过第一凹凸结构310对应的嵌入第二像素限定层230，第二电极160覆盖第二像素限定层230、支撑柱以及发光层150。

进一步地，第一凹凸结构310包括多个第一凹槽311，多个第一凹槽311以等间距的方式依次排列。第一凹槽311的深度可以小于第二像素限定层230的厚度，则第一凹槽311的深度范围是50纳米至90纳米。在具有多个第一凹槽311的第二像素限定层230的表面上形成支撑柱3200，则与支撑柱320对应的多个第一凹槽311通过与支撑柱320相同的材料进行填充。然后在支撑柱320及第二像素限定层230的表面上形成第二电极160，则与第二电极160对应多个第一凹槽311通过与第二电极160相同的材料进行填充。

本实施例中，弹性模量较小的第一像素限定层可用作应力缓冲层，弹性模量较大的第二像素限定层可用作应力支撑层，且第二像素限定层朝向第二电极的表面上具有第一凹凸结构，第二像素限定层也可用作应力释放层，解决了应力集中无法分散导致元件受损的技术问题。另外，第二像素限定层通过第一凹凸结构嵌入第二电极，增大了第二像素限定层与第二电极的接触面积，从而增大了第二像素限定层与第二电极之间的粘附力。支撑柱通过第一凹凸结构嵌入第二像素限定层，增大了支撑柱与第二像素限定层之间的接触面积，从而改善了支撑柱与第二像素限定层之间的粘附力，提高了显示模组的可靠性。

在一个实施例中，请参见图4，第一像素限定层220朝向第二像素限定层230的表面上具有第二凹凸结构410，第一像素限定层220通过第二凹凸结构410嵌入第二像素限定层230。具体地，在阵列基板210上形成第一像素限定层220，在第一像素限定层220形成第二像素限定层230。第一像素限定层220朝向第二像素限定层230的表面上具有第二凹凸结构410，第二凹凸结构410使得第一像素限定层220朝向第二像素限定层230的表面是不平坦的，增加了第一像素限定层220及第二像素限定层230之间的接触面积，从而通过第二凹凸结构410增加了第一像素限定层220及第二像素限定层230之间的粘附力。

进一步地，请继续参见图4，第二凹凸结构410包括多个第二凹槽411，多个第二凹槽411以等间距的方式依次排列。第二凹槽411的深度小于第一像素限定层220的厚度，第二凹槽的深度范围是80纳米至120纳米。

本实施例中，通过将像素限定层分为第一像素限定层和第二像素限定层，且第一像素限定层的弹性模量小于第二像素限定层的弹性模量，弹性模量较小的第一像素限定层可用作应力缓冲层，弹性模量较大的第二像素限定层可用作应力支撑层，可以有效解决了显示模组受到外物冲击时应力过于集中的问题。

在一个实施例中，请参见图5，像素限定层170包括层叠设置的至少一层第一像素限定层220和至少一层第二像素限定层230，且至少一层第一像素限定层嵌入对应的第二像素限定层230。

其中，该显示模组包括阵列基板210及形成在阵列基板上的像素限定层170。其中，像素限定层170包括形成在阵列基板210上的至少一层第一像素限定层220及至少一层第二像素限定层230。其中，至少一层第一像素限定层220与至少一层第二像素限定层230相互交错层叠。至少一层第一像素限定层220嵌入相邻的第二像素限定层230。且第一像素限定层220的弹性模量小于第二像素限定层230的弹性模量。

进一步地，像素限定层170的厚度范围是1200纳米至2000纳米。优选地，像素限定层170的厚度是1600纳米。第一像素限定层220的弹性模量小于第二像素限定层230的弹性模量，第一像素限定层220的厚度是1400纳米至1800纳米，第一像素限定层220的材料采用聚酰亚胺、pmma光刻胶、聚酰亚胺光刻胶、有机硅光刻胶中的任一种。优选地，第一像素限定层220的材料为聚酰亚胺，第一像素限定层220的厚度是1500纳米。第二像素限定层230的厚度是140纳米至180纳米，第二像素限定层230的材料采用氮化硅、氧化硅或氮氧化硅的无机材料中的任一种。优选地，第二像素限定层230的材料为氮化硅，第二像素限定层230的厚度是160纳米。

示例性地，请继续参见图5，像素限定层170包括形成在阵列基板上210上的第一层的第一像素限定层220、形成在第一层的第一像素限定层220上的第二像素限定层230及形成在第二像素限定层230上的第二层的第一像素限定层220。第一层的第一像素限定层220朝向第二像素限定层230的表面上具有若干个第三凹槽510，第二像素限定层230的材料填充若干个第三凹槽510。第二像素限定层230朝向第二层的第一像素限定层220的表面上具有若干个第四凹槽520，第二层的第一像素限定层220的材料填充若干个第四凹槽520。可以理解的是，第一层的第一像素限定层220与第二像素限定层230所采用的材料是不同的，第一层的第一像素限定层220与第二层的第一像素限定层220所采用的材料可以相同，也可以不同。

本实施例中，像素限定层包括层叠设置的至少一层第一像素限定层和至少一层第二像素限定层，且至少一层第一像素限定层嵌入对应的第二像素限定层，提高显示面板的机械强度。另外，弹性模量较小的第一像素限定层可用作应力缓冲层，弹性模量较大的第二像素限定层可用作应力支撑层，避免应力集中，可以有效解决了显示模组受到外物冲击时应力过于集中的问题。

在一个实施例中，本申请的一个实施例还提供一种显示屏，包括前述显示模组。显示屏还包括封装结构，封装结构设置于阴极层上，该封装结构可以是薄膜封装结构或玻璃粉封装的任意一种。这两种封装方式都是本领域的公知技术，不再赘述。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。