一种阵列基板、显示面板及其制备方法与流程

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板、显示面板及其制备方法。

背景技术：

随着显示行业技术的发展，人们对显示面板的要求越来越高，如对于一些高端显示面板会要求窄边框的设计，追求有效显示区域最大化。而现有显示面板的设计需要在边框位置预留出一定宽度以放置goa驱动电路以及vss信号线等其他信号线。由此，导致现有显示面板(amoled面板)的左右边框较大。若缩减goa驱动电路以减小边框宽度，则会造成goa驱动能力下降；而若缩减vss信号线以减小边框宽度，则会导致显示面板的显示区域vss电位均匀性较差，信号线电压降(irdrop)现象较为严重，从而影响显示面板显示的均匀性。因此，实现显示面板的窄边框设计为一大难题。

因此，现有技术存在缺陷，急需改进。

技术实现要素：

本发明提供一种阵列基板、显示面板及其制备方法，能够缩减显示面板的两侧边框，达到显示面板窄边框化的目的。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明提供一种阵列基板，包括：

衬底基板；

薄膜晶体管层，制备于所述衬底基板上，所述薄膜晶体管层包括对应显示区域的第一区域，以及位于所述第一区域外侧的第二区域，所述薄膜晶体管层与所述第二区域对应的部分包括goa电路；

绝缘层，制备于所述薄膜晶体管层上；

电源信号线，对应所述第二区域制备于所述绝缘层上，用以提供电源电压；

其中，所述电源信号线与所述goa电路至少一部分重叠，且所述电源信号线与所述薄膜晶体管层与所述goa电路对应的部分绝缘。

根据本发明一优选实施例，所述阵列基板还包括平坦化层与金属接触层，所述平坦化层制备于所述电源信号线上，且在对应所述电源信号线的位置设置有第一过孔；所述金属接触层制备于所述平坦化层上，且通过所述第一过孔与所述电源信号线搭接。

根据本发明一优选实施例，所述阵列基板还包括像素定义层，所述像素定义层制备于所述金属接触层上，且在对应所述电源信号线的位置设置有第二过孔。

本发明还包括一种显示面板，包括：

衬底基板；

薄膜晶体管层，制备于所述衬底基板上，所述薄膜晶体管层包括对应显示区域的第一区域，以及位于所述第一区域外侧的第二区域，所述薄膜晶体管层与所述第二区域对应的部分包括goa电路；

绝缘层，制备于所述薄膜晶体管层上；

电源信号线，对应所述第二区域制备于所述绝缘层上，用以提供电源电压；

平坦化层，制备于所述电源信号线上；

像素定义层，制备于所述平坦化层上，且定义出像素区域；

像素单元层，对应所述像素区域制备于所述平坦化层上；

其中，所述电源信号线与所述goa电路至少一部分重叠，且所述电源信号线与所述薄膜晶体管层与所述goa电路对应的部分绝缘。

根据本发明一优选实施例，对应所述第二区域的所述平坦化层表面制备有金属接触层，且所述平坦化层在对应所述电源信号线的位置设置有第一过孔，所述金属接触层通过所述第一过孔与所述电源信号线搭接。

根据本发明一优选实施例，所述像素定义层在对应所述电源信号线的位置设置有第二过孔，所述像素单元层包括阴极层，所述阴极层通过所述第二过孔与所述金属接触层搭接。

根据本发明一优选实施例，所述显示面板还包括薄膜封装层，制备于所述像素单元层上，所述薄膜封装层向所述第二区域延伸，并用于包裹所述电源信号线以及所述goa电路。

本发明还包括一种显示面板的制备方法，所述方法包括以下步骤：

步骤s10，提供一衬底基板，在所述衬底基板上制备薄膜晶体管层，其中，所述薄膜晶体管层包括对应显示区域的第一区域，以及位于所述第一区域外侧的第二区域，所述薄膜晶体管层与所述第二区域对应的部分包括goa电路；

步骤s20，在所述薄膜晶体管层上依次制备绝缘层以及金属层，图案化所述金属层形成对应所述goa电路的电源信号线，所述电源信号线用以提供电源电压；

步骤s30，在所述金属层上依次制备平坦化层、像素定义层以及像素单元层；

其中，所述电源信号线与所述goa电路至少一部分重叠，且所述电源信号线与所述薄膜晶体管层与所述goa电路对应的部分绝缘。

根据本发明一优选实施例，所述步骤s30包括以下步骤：

步骤s301，在所述金属层上制备平坦化层，对所述平坦化层图案化形成对应所述电源信号线的第一过孔；

步骤s302，在对应所述第二区域的所述平坦化层上制备金属接触层，所述金属接触层通过所述第一过孔与所述电源信号线搭接；

步骤s303，在所述金属接触层以及所述平坦化层上制备所述像素定义层，对所述像素定义层进行图案化形成对应所述电源信号线的第二过孔；

步骤s304，在所述像素定义层上制备所述像素单元层，其中，所述像素单元层包括阴极层，所述阴极层通过所述第二过孔与所述金属接触层搭接。

根据本发明一优选实施例，所述步骤s30之后还包括以下步骤：

步骤s40，在所述像素单元层上制备薄膜封装层，所述薄膜封装层向所述第二区域延伸，并包裹所述电源信号线以及所述goa电路。

本发明的有益效果为：相较于现有的显示面板，本发明提供的阵列基板、显示面板及其制备方法，通过在现有显示面板的制备工艺中，增加一层绝缘层以及一层金属层的制程，将现有设计的左右边框中以sd1层制作的vss信号线(电源信号线)换成采用sd2层(金属层)制作，并叠加在goa电路上方，中间设置一层较厚的绝缘层进行信号直接的隔绝。可以实现在不缩减goa电路的宽度以及也不缩减vss信号线的宽度的同时，达到缩减面板左右边框的目的。此外，由于本发明的电源信号线与阴极层搭接，可以为显示区域的阴极层提供较为均匀的电位(vss电位)，从而进一步提高显示效果，有助于改善显示面板发光不均匀的问题。

附图说明

为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的阵列基板结构示意图；

图2为本发明实施例提供的显示面板结构示意图；

图3为本发明实施例提供的显示面板的制备方法流程图。

具体实施方式

以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。

本发明针对现有技术的显示面板，存在边框较宽，不利于显示面板窄边框的设计的技术问题，本实施例能够解决该缺陷。

如图1所示，为本发明实施例提供的阵列基板结构示意图。该阵列基板，包括：衬底基板10；薄膜晶体管层(图中未标示)，制备于所述衬底基板10上，所述薄膜晶体管层包括对应显示区域的第一区域11，以及位于所述第一区域11外侧的第二区域，所述薄膜晶体管层与所述第二区域对应的部分包括goa电路12；绝缘层(图中未标示)，制备于所述薄膜晶体管层上；电源信号线13，对应所述第二区域制备于所述绝缘层上，用以提供电源电压；其中，所述电源信号线13与所述goa电路12至少一部分重叠；优选的，所述电源信号线13所在的区域对应位于所述goa电路12所在区域的范围内。所述电源信号线13与所述薄膜晶体管层与所述goa电路12对应的部分绝缘。

另外，所述阵列基板还包括平坦化层与金属接触层，所述平坦化层制备于所述电源信号线13上，且在对应所述电源信号线13的位置设置有第一过孔；所述金属接触层制备于所述平坦化层上，且通过所述第一过孔与所述电源信号线13搭接。

所述阵列基板还包括像素定义层，所述像素定义层制备于所述金属接触层上，且在对应所述电源信号线13的位置设置有第二过孔。所述阵列基板还包括：覆晶薄膜14，绑定于所述阵列基板的一侧边缘位置；印刷电路板15，与所述覆晶薄膜14绑定。

另外，图示所述电源信号线13与所述goa电路12的宽度仅为了将两者位置清楚的表述，此处不作为限定，两者具体宽度以实际制程所需宽度为准。

如图2所示，为本发明实施例提供的显示面板结构示意图，该显示面板包括：衬底基板20；薄膜晶体管层21，制备于所述衬底基板20上，所述薄膜晶体管层21包括对应显示区域的第一区域210，以及位于所述第一区域210外侧的第二区域，所述薄膜晶体管层21与所述第二区域对应的部分包括goa电路211；绝缘层22，制备于所述薄膜晶体管层21上；电源信号线23，对应所述第二区域制备于所述绝缘层22上，用以提供电源电压；平坦化层24，制备于所述电源信号线23上；像素定义层25，制备于所述平坦化层24上，且定义出像素区域；像素单元层，对应所述像素区域制备于所述平坦化层24上；其中，所述电源信号线23对应所述goa电路211设置于所述绝缘层22，即所述电源信号线23与所述goa电路211绝缘重叠设置。可以实现在不缩减所述goa电路211的宽度以及也不缩减所述电源信号线23(vss信号线)的宽度的同时，达到缩减所述显示面板左右边框的目的。

对应所述第二区域的所述平坦化层24表面制备有金属接触层28，且所述平坦化层24在对应所述电源信号线23的位置设置有第一过孔240，所述金属接触层28通过所述第一过孔240与所述电源信号线23搭接。所述像素定义层25在对应所述电源信号线23的位置设置有第二过孔250，所述像素单元层包括阴极层26，所述阴极层26通过所述第二过孔250与所述金属接触层28搭接。由于所述电源信号线23通过所述金属接触层28与所述阴极层26搭接，实现边框位置的所述电源信号线23连接至所述显示面板的所述显示区域内的所述阴极层26，可以为所述阴极层26提供较为均匀的电位(vss电位)，从而进一步提高显示效果，有助于改善显示面板发光不均匀的问题。

所述显示面板还包括薄膜封装层27，制备于所述像素单元层上，所述薄膜封装层27向所述第二区域延伸，并用于包裹所述电源信号线23以及所述goa电路211。所述薄膜封装层27包括多层层叠设置的无机层与有机层。

本发明还提供上述显示面板的制备方法，如图3所示，所述方法包括以下步骤：

步骤s10，提供一衬底基板，在所述衬底基板上制备薄膜晶体管层，其中，所述薄膜晶体管层包括对应显示区域的第一区域，以及位于所述第一区域外侧的第二区域，所述薄膜晶体管层与所述第二区域对应的部分包括goa电路；

具体地，首先在柔性基板或者玻璃基板上形成所述薄膜晶体管层，包括对应所述显示区域的像素驱动电路以及对应所述第二区域的goa电路等。其中包括：在所述衬底基板上形成多晶硅层；在所述多晶硅层上形成栅绝缘层；在所述栅绝缘层上对应所述多晶硅层的位置形成栅极；在所述栅极上形成间绝缘层；然后再形成源漏极；与此同时，所述第二区域内形成有所述goa电路。

步骤s20，在所述薄膜晶体管层上依次制备绝缘层以及金属层，图案化所述金属层形成对应所述goa电路的电源信号线，所述电源信号线用以提供电源电压；

具体地，所述绝缘层可以为有机绝缘层或者无机绝缘层；所述绝缘层用于隔绝所述goa电路与所述电源信号线的信号，避免相互之间发生信号串扰。所述金属层的材料可以为ti/al/ti等，此处不做限制。

优选的，所述电源信号线为低电位源线，为所述显示区域提供低电位源电压。

其中，所述电源信号线与所述goa电路至少一部分重叠；优选的，所述电源信号线所在区域与所述goa电路所在区域重叠设置。所述电源信号线位于所述goa电路上方位置，所述电源信号线与所述薄膜晶体管层与所述goa电路对应的部分绝缘。

步骤s30，在所述金属层上依次制备平坦化层、像素定义层以及像素单元层；

具体地，所述步骤s30包括以下步骤：

步骤s301，在所述金属层上制备平坦化层，对所述平坦化层图案化，形成对应所述电源信号线的第一过孔；

其中，所述平坦化层形成于所述第一区域以及所述第二区域。

步骤s302，在对应所述第二区域的所述平坦化层上制备金属接触层，所述金属接触层通过所述第一过孔与所述电源信号线搭接；

其中，所述金属接触层可以通过阳极金属层图案化后形成，即所述金属接触层与阳极层经同一道光罩工艺制成。所述第一过孔可以根据工艺制程的需求进行设计开孔大小。

步骤s303，在所述金属接触层以及所述平坦化层上制备所述像素定义层，对所述像素定义层进行图案化形成对应所述电源信号线的第二过孔；

其中，所述像素定义层在对应所述第一区域定义出像素区域；所述第二过孔可以根据工艺制程的需求进行设计开孔大小。

步骤s304，在所述像素定义层上制备所述像素单元层，其中，所述像素单元层包括阴极层，所述阴极层通过所述第二过孔与所述金属接触层搭接。

其中，所述像素单元层还包括阳极层与有机发光层；由于所述电源信号线通过所述金属接触层与所述阴极层搭接，实现边框位置的所述电源信号线连接至所述显示面板的所述显示区域内的所述阴极层，可以为所述阴极层提供较为均匀的电位(vss电位)，从而进一步提高显示效果，有助于改善显示面板发光不均匀的问题。

另外，在所述步骤s30之后还包括以下步骤：

步骤s40，在所述像素单元层上制备薄膜封装层，所述薄膜封装层向所述第二区域延伸，并包裹所述电源信号线以及所述goa电路。

具体地，所述薄膜封装层包括多层层叠设置的无机层与有机层，所述薄膜封装层可以保护所述电源信号线以及所述goa电路不受水氧的侵蚀。

本发明的所述显示面板还可包括其他常规膜层，比如缓冲层、触控层以及偏光片等，本方案还可应用于其他不同类型的显示面板，此处不做限制。

本发明提供的阵列基板、显示面板及其制备方法，通过在现有显示面板的制备工艺中，增加一层绝缘层以及一层金属层的制程，将现有设计的左右边框中以sd1层制作的vss信号线(电源信号线)换成采用sd2层(金属层)制作，并叠加在goa电路上方，中间设置一层较厚的绝缘层进行信号直接的隔绝。可以实现在不缩减goa电路的宽度以及也不缩减vss信号线的宽度的同时，达到缩减面板左右边框的目的。

综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。