一种电阻印刷机印刷盘的定位机构的制作方法

文档序号:15916774发布日期:2018-11-13 22:19阅读:202来源:国知局

本实用新型涉及电阻印刷机领域,特别是涉及一种电阻印刷机印刷盘的定位机构。



背景技术:

贴片电阻,又称片式固定电阻器,是金属玻璃铀电阻器中的一种,是将金属粉和玻璃铀粉混合,采用丝网印刷法印在基板上制成的电阻器,体积小、重量轻、安装密度高,抗震性强.抗干扰能力强,高频特性好等优点,广泛应用于计算机、手机、电子辞典、医疗电子产品、摄录机、电子电度表及VCD机等。

按生产工艺分厚膜片式电阻和薄膜片式电阻两种,厚膜贴片电阻是采用丝网印刷将电阻性材料淀积在绝缘基体(例如氧化铝陶瓷)上,然后烧结形成的。电阻性材料的印刷主要是通过电阻印刷机完成,电阻层印刷的位置,要求印刷机定位要精确,而现有技术中电阻印刷机印刷盘的的定位机构由6个定位轮组成,生产过程中经常出现印刷偏移的现象,影响贴片电阻产品的品质。



技术实现要素:

本实用新型主要解决的技术问题是提供一种电阻印刷机印刷盘的定位机构,能够有效防止印刷偏移的现象,提高贴片电阻产品的品质。

为解决上述技术问题,本实用新型采用的一个技术方案是:提供一种电阻印刷机印刷盘的定位机构,包括外平台,所述外平台的两侧设置有用于传输电阻基板的运输轨道,所述外平台沿着厚度方向贯穿设置有嵌入槽,所述嵌入槽下方设置有能够升降的吸基板,所述吸基板的面积小于所述嵌入槽的面积,所述吸基板呈矩形且四个顶角位置的两侧均分别设置有定位轮,所述吸基板上设置有与每一定位轮位置对应从而限定吸基板位置的凹角,每一所述定位轮远离对应凹角位置的一端设置有推动块,所述吸基板上均匀分布有真空吸孔,所述外平台下方设置有用于为所述真空吸孔提供真空的动力源。

优选的,所述吸基板包括若干个吸基板单元,且相互之间固定连接。

优选的,所述吸基板和所述嵌入槽之间的间隙为2.5mm~3.5mm。

优选的,所述定位轮的直径为9mm~11mm。

优选的,所述定位轮采用聚甲醛材质。

本实用新型的有益效果是:本实用新型能够有效防止印刷偏移的现象,提高贴片电阻产品的品质。

附图说明

图1是本实用新型一种电阻印刷机印刷盘的定位机构的结构示意图。

附图中各部件的标记如下:

1、外平台;2、运输轨道;3、嵌入槽;4、吸基板;5、定位轮;6、凹角;7、推动块;8、真空吸孔;9、动力源。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述,以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。

实施例:

如图1所示,一种电阻印刷机印刷盘的定位机构,包括外平台1,外平台1采用不锈钢板材,光滑平整,能够防止印刷时刮破网板。外平台1的两侧设置有运输轨道2,待印刷的电阻基板通过运输轨道2移动至外平台1下方。外平台1沿着厚度方向贯穿设置有嵌入槽3,嵌入槽3的下方设置有吸基板4,吸基板4的面积小于嵌入槽3的面积,吸基板4和嵌入槽3之间的间隙为2.5mm~3.5mm,吸基板4能够沿着嵌入槽3的开口方向移动。

如图1所示,吸基板4的形状呈矩形,且四个顶角位置的两侧均分别设置有定位轮5,即:定位轮5的数量为8个,此种设计能够有效平衡对称限定吸基板4的位置,避免其在实际生产过程中经常出现的位置偏移现象,为了增加定位轮5和吸基板4之间的有效接触面积,提高定位轮5对吸基板4的有效定位作用,吸基板4上设置有与每一个定位轮5位置对应的凹角6。每一个定位轮5远离对应凹角6位置的一端设置有推动块7,推动块7推动对应定位轮5从而将定位轮5抵推到相应凹角6内,实现吸基板4的位置限定。

如图1所示,吸基板4包括若干个吸基板单元,本实施例提供的是三个吸基板单元,相邻吸基板单元之间固定连接,此种结构的设计能够避免整块吸基板存在的不平整现象。吸基板4上分布有真空吸孔8,真空吸孔8在吸基板4上均匀分布,外平台1下方设置有用于为真空吸孔8提供真空的动力源9,动力源9可以采用真空泵,当待印刷的电阻基板移动至吸基板4上后,经过位置限定过程,最终通过真空吸孔8将其位置固定。定位轮5的直径设计为9mm~11mm,且采用聚甲醛材质,具有硬度高和耐磨性好的优点。

本实施例的工作过程为:

待印刷的电阻基板通过运输轨道2移动,推动块7推动对应定位轮5实现平衡限定吸基板4的位置,吸基板4下降,待印刷的电阻基板进入吸基板4上,定位轮5推动待印刷的电阻基板和吸基板4处于相同的位置,真空吸孔8抽取真空将待印刷的电阻基板位置固定,吸基板4带动真空吸孔8固定的带印刷的电阻基板上升,通过上方的印刷结构进行电阻印刷,此种定位机构,能够有效防止印刷偏移的现象,提高贴片电阻产品的品质。

以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

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