发光芯片的制作方法

文档序号:17824288发布日期:2019-06-05 22:31阅读:来源:国知局
技术总结
本实用新型公开了一发光芯片,其包括一外延叠层、一钝化层、一N型电极以及一P型电极,所述外延叠层具有相互间隔的自所述外延叠层的一P型半导体层经一有源区延伸至一N型半导体层的一N型焊盘裸露部和至少一N型扩展条穿孔,所述钝化层层叠于所述N型半导体层和所述P型半导体层,且所述钝化层的N型焊盘通道和所述N型焊盘裸露部相连通,所述钝化层的第一通道和所述N型扩展条穿孔相连通,所述钝化层的P型焊盘通道和第二通道对应于所述P型半导体层;所述N型电极和所述P型电极分别层叠于所述钝化层,并且所述N型电极电连接于所述N型半导体层,所述P型电极电连接于所述P型半导体层。

技术研发人员:魏振东;李俊贤;刘英策;周弘毅;邬新根
受保护的技术使用者:厦门乾照光电股份有限公司
技术研发日:2018.10.12
技术公布日:2019.06.04

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