衬底处理装置及衬底处理方法与流程

文档序号:21400772发布日期:2020-07-07 14:33阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种衬底处理装置,具有:台,载置衬底,将所述衬底连接于阳极;对向电极,以与所述台对向的方式配置,具有多个孔,且与阴极连接;及保持部,以介隔所述对向电极而与所述台对向的方式配置,一面保持所述对向电极一面对所述对向电极供给药液。

2.根据权利要求1所述的衬底处理装置,其中所述台与所述保持部同步旋转。

3.根据权利要求1或2所述的衬底处理装置,其中所述对向电极为板状。

4.根据权利要求1或2所述的衬底处理装置,其中所述对向电极为毛状体或网状体。

5.根据权利要求1所述的衬底处理装置,其中所述衬底与所述对向电极为非接触。

6.根据权利要求4所述的衬底处理装置,其中作为所述毛状体或所述网状体的多个所述对向电极是相互分离地配置,且所述多个对向电极从旋转中心以放射状分散配置。

7.一种衬底处理方法,将衬底载置在台上,将所述衬底连接于阳极,将具有多个孔且与阴极连接的对向电极以与所述台对向的方式配置,且一面利用以介隔所述对向电极而与所述台对向的方式配置的保持部保持所述对向电极,一面从所述保持部对所述对向电极供给药液。


技术总结
本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。根据一个实施方式,衬底处理装置具备:台,载置衬底,将衬底连接于阳极;对向电极,以与台对向的方式配置,具有多个孔,且与阴极连接;及保持部,以介隔对向电极而与台对向的方式配置,一面保持对向电极一面向对向电极供给药液。

技术研发人员:吉水康人;北川白马;守田峻海
受保护的技术使用者:东芝存储器株式会社
技术研发日:2019.06.05
技术公布日:2020.07.07
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