一种片式电阻电容的制作方法

文档序号:18276003发布日期:2019-07-27 10:08阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种片式电阻电容,其特征在于:包括上保护层、介质膜、电阻电极、基板、电容电极和下保护层,所述介质膜、电阻电极、基板、电容电极设置于所述上保护层与下保护层之间,所述介质膜、电阻电极、电容电极设置于所述基板上,所述介质膜上设置有所述电容电极,所述电阻电极设置于所述介质膜的一侧并与所述电容电极搭接,所述电容电极的电容值与所述电容电极的面积、介质膜的介电常数、介质膜的厚度成正比,所述电阻电极的电阻值与电阻电极的面积、电阻电极浆料方阻、介质膜的厚度成正比。

2.根据权利要求1所述的一种片式电阻电容,其特征在于:所述电容电极的面积与所述介质膜的面积相等。

3.根据权利要求1所述的一种片式电阻电容,其特征在于:所述电阻电极的厚度等于所述电容电极和介质膜的总厚度。

4.根据权利要求1或3所述的一种片式电阻电容,其特征在于:所述介质膜的厚度为50im。

5.根据权利要求1所述的一种片式电阻电容,其特征在于:该片式电阻电容的尺寸为1.6mm*1.6mm。

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