显示装置和修复显示装置的方法与流程

显示装置和修复显示装置的方法
1.相关申请的交叉引用
2.本技术要求于2020年3月9日提交的韩国专利申请号10
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2020
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0028874的优先权和权益，其全部公开内容通过引用在此并入。
技术领域
3.本公开涉及显示装置和修复显示装置的方法。


背景技术：

4.随着多媒体的发展，显示装置的重要性已经增加。相应地，已经开发了各种类型的显示装置，比如液晶显示器(lcd)和有机发光显示器(oled)。
5.在这些显示装置中，自发光显示装置包括自发光元件，例如，有机发光元件。自发光元件可包括面向彼此的两个电极和插入其间的发光层。当自发光元件为有机发光元件时，从两个电极提供的电子和空穴在发光层中彼此复合以产生激子，并且所产生的激子从激发态变为基态以发光。
6.因为这种自发光显示装置不需要额外的光源，所以它具有低功耗，并且可被制成轻而薄的，并且它具有高水平特性，比如宽视角、高亮度和对比度以及快速响应速度，使得它作为下一代显示装置吸引了相当大的关注。
7.同时，当制造并随后测试显示装置以评估显示质量时，邻近的波长转换图案彼此混合。因此，可发现一些子像素被识别为黑点的缺陷(例如，导致黑点的子像素中的缺陷)。由于在形成波长转换图案的喷墨工艺期间可能发生的油墨的误注入，或者由于用于分隔波长转换图案和光透射图案等的分隔壁的缺陷，可能发生邻近的波长转换图案彼此混合的现象。
8.因此，可进行将设置在缺陷性子像素中的波长转换图案重新形成为正常波长转换图案的修复工艺，从而减少或最小化显示装置的质量的劣化。


技术实现要素：

9.本公开的方面涉及修复显示装置的方法，其中修复缺陷性波长转换图案以形成正常波长转换图案(在下文中称为修复图案)，从而提高显示装置的显示质量的可靠性。
10.本公开的另一方面涉及显示装置，其中通过修复缺陷性波长转换图案来提高显示质量。
11.然而，本公开的方面不受限于或限于本文阐述的方面。通过参考下面给出的本公开的详细描述，本公开的上面和其他方面对于本公开所属领域的普通技术人员来说将变得更加明显。
12.根据本公开的实施方式，修复显示装置的方法，其中显示装置包括：包括缺陷性波长转换图案的缺陷性像素区，该方法包括：去除缺陷性像素区的缺陷性波长转换图案，将包括波长转换材料的油墨注入到缺陷性像素区中，以及固化注入到缺陷性像素区中的油墨。
13.在示例实施方式中，在缺陷性波长转换图案的去除中，通过用激光束辐射缺陷性波长转换图案来去除缺陷性波长转换图案。
14.在示例实施方式中，利用激光器单元施加激光束，并且激光器单元包括纳米激光器或飞秒激光器。
15.在示例实施方式中，显示装置进一步包括：基板、在基板的表面上的滤色器和在滤色器的表面上的分隔壁，并且缺陷性波长转换图案在由分隔壁分隔的空间中的滤色器的表面上。
16.在示例实施方式中，在缺陷性波长转换图案的去除中，通过用激光束辐射缺陷性像素区以选择性仅去除缺陷性波长转换图案而不去除滤色器，来去除缺陷性波长转换图案。
17.在示例实施方式中，滤色器选择性透射第一颜色的光，并且波长转换材料包括将不同于第一颜色的第二颜色的光转换成第一颜色的光的材料。
18.在示例实施方式中，缺陷性波长转换图案的去除包括：通过去除缺陷性波长转换图案在缺陷性像素区中形成槽，并且油墨的注入包括：通过用包括波长转换材料的油墨填充槽来形成包括波长转换材料的修复材料层。
19.在示例实施方式中，油墨的固化包括：通过用光辐射修复材料层来形成修复图案。
20.在示例实施方式中，该方法包括在形成修复图案后检查修复图案的高度。
21.在示例实施方式中，油墨的固化包括：在其中在缺陷性像素区中引入气体的状态下向油墨施加光。
22.在示例实施方式中，该方法包括在去除缺陷性波长转换图案之前检测其中已发生缺陷的像素区。
23.根据本公开的实施方式，修复显示装置的方法，其中显示装置包括混合波长转换图案，该方法包括：去除混合波长转换图案；以及在通过去除混合波长转换图案而形成的槽中形成修复图案。
24.在示例实施方式中，混合波长转换图案包括将第一颜色的光转换成第二颜色的光的第一波长转换材料，和将第一颜色的光转换成第三颜色的光的第二波长转换材料，并且修复图案包括第一波长转换材料而不包括第二波长转换材料。
25.在示例实施方式中，混合波长转换图案的去除包括：用激光束辐射混合波长转换图案。
26.在示例实施方式中，修复图案的形成包括：在槽中形成包括第一波长转换材料的修复材料层；以及通过固化修复材料层形成修复图案。
27.在示例实施方式中，在槽中形成修复材料层包括：将包括第一波长转换材料的油墨注入到槽中。
28.根据本公开的实施方式，显示装置，该显示装置包括像素，该像素包括配置为显示第一颜色的第一子像素和配置为显示第二颜色的第二子像素，该显示装置包括颜色转换基板，该颜色转换基板包括：第一基板、在第一基板的表面上并且包括属于第一子像素的第一波长转换图案和属于第二子像素的修复图案的颜色控制层，以及在第一基板和修复图案之间的混合波长转换层。
29.在示例实施方式中，混合波长转换层包括将第三颜色的光转换成第一颜色的光的
第一波长转换材料和将第三颜色的光转换成第二颜色的光的第二波长转换材料，并且修复图案包括第二波长转换材料而不包括第一波长转换材料。
30.在示例实施方式中，显示装置包括面向颜色转换基板的显示基板，其中显示基板包括：面向第一基板的第二基板、在面向第一基板的第二基板的表面上并提供给每个子像素的子像素电极、沿着子像素的边界在第二基板上并暴露子像素电极的像素限定层、在由像素限定层暴露的子像素电极上的发光层，以及在发光层上的公共电极。
31.在示例实施方式中，像素进一步包括配置为显示第三颜色的第三子像素，并且颜色控制层进一步包括属于第三子像素的光透射图案。
32.根据实施方式的修复显示装置的方法，可选择性去除具有缺陷的波长转换图案(在下文中称为缺陷性波长转换图案或混合波长转换图案)以形成正常波长转换图案(在下文中称为修复图案)，从而提高显示装置的光效率和显示质量。
33.根据实施方式的显示装置，设置在缺陷性子像素中的缺陷性波长图案被修复成修复图案，以减少可能发生在缺陷性子像素中的黑点的数量，从而提高显示装置的光效率和显示质量。
34.本公开的方面不受前述内容的限制，并且其他各种方面在本文中被预期。
35.尽管出于图示性目的已经公开了本公开的示例实施方式，但是本领域普通技术人员将理解，在不背离如所附权利要求及其等同物中公开的本公开的范围和精神的情况下，各种合适的修改、添加和/或替换是可能的。
附图说明
36.通过参考所附附图更详细地描述本公开的示例实施方式，本公开的上面和其他方面和特征将变得更明显，在所附附图中：
37.图1为根据实施方式的显示装置的透视图；
38.图2为沿着图1的线ii
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ii’截取的显示装置的截面视图；
39.图3为根据实施方式的显示基板的像素布置的示意性布局视图；
40.图4为根据实施方式的颜色转换基板的像素布置的示意性布局视图；
41.图5为沿着图3和图4的线v
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v’截取的显示装置的截面视图；
42.图6为图5的部分q的放大的截面视图；
43.图7和图8为图示图6中显示的结构的修改示例的截面视图；
44.图9至图12为图示根据实施方式的修复显示装置的工艺的示例的截面视图；
45.图13为图示修复显示装置的工艺的另一示例的截面视图；
46.图14为图示根据实施方式的已经历修复工艺的显示装置的示例的截面视图；
47.图15为图示根据实施方式的已经历修复工艺的显示装置的另一示例的截面视图；
48.图16为图示根据实施方式的已经历修复工艺的显示装置的另一示例的截面视图；
49.图17为图示根据实施方式的已经历修复工艺的显示装置的另一示例的截面视图；
50.图18为图示根据实施方式的已经历修复工艺的显示装置的另一示例的截面视图；
51.图19至图21为图示根据实施方式的修复显示装置的工艺的另一示例的截面视图；并且
52.图22为图示根据实施方式的已经历修复工艺的显示装置的另一示例的截面视图。
具体实施方式
53.现在将参考所附附图在下文中更充分地描述本公开，在所附附图中显示本公开的示例实施方式。然而，本公开可体现为不同的形式，并且不应解释为限于本文阐述的实施方式。而是，提供这些实施方式使得本公开将是透彻和完整的，并将本公开的范围充分传达给本领域普通技术人员。
54.还应理解，当元件或层被称为在另一元件、层或基板“上”时，其可直接在其他元件、层或基板上，或者也可存在中间元件(多个中间元件)或中间层(多个中间层)。相反，当元件或层被称为“直接”在另一元件或层“上”时，可不存在中间元件(多个中间元件)或中间层(多个中间层)。
55.相同的附图标记遍及说明书指示相同的组件。在所附附图中，为了清楚起见，层和区域的厚度可被放大。如本文使用的，当描述本公开的实施方式时，术语“可”的使用指“本公开的一个或多个实施方式”。如本文使用的，术语“和/或”包括一个或多个相关的列举项目的任何和所有组合。如本文使用的，术语“基本上”、“约”、“近似”和类似术语被用作近似的术语而不用作程度的术语，并且旨在说明本领域普通技术人员将会认识到的测量值或计算值中的固有偏差。
56.在下文中，将参考所附附图描述本公开的实施方式。
57.图1为根据实施方式的显示装置的透视图，并且图2为沿着图1的线ii
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ii’截取的显示装置的截面视图。
58.参考图1和图2，显示装置1可指提供显示屏的任何适当的电子装置。显示装置1的示例可包括电视、笔记本计算机、监视器、广告牌、移动电话、智能电话、平板个人计算机(pc)、电子钟、智能手表、手表电话、移动通信终端、电子笔记本、电子书、便携式多媒体播放器(pmp)、导航仪、游戏机、数字照相机和物联网(iot)。
59.在附图中，限定第一方向dr1、第二方向dr2和第三方向dr3。第一方向dr1和第二方向dr2可为在一个平面中彼此垂直的方向。第三方向dr3可为垂直于第一方向dr1和第二方向dr2位于其中的平面的方向。第三方向dr3垂直于第一方向dr1和第二方向dr2中的每个。在一些实施方式中，第三方向dr3指示显示装置1的厚度方向。
60.在以下实施方式中，除非另外指出，否则“上”或“上方”指示在第三方向dr3的一侧的显示方向(例如，正dr3方向)，并且类似地，“上表面”指示面向第三方向dr3的一侧(例如，正dr3方向)的表面。此外，“之下”或“下方”指示与显示方向相反的在第三方向dr3的另一侧的方向(例如，负dr3方向)，并且类似地，“下表面”指示面向第三方向dr3的另一侧(例如，负dr3方向)的表面。
61.为了易于描述，本文中可使用空间相对术语，比如“之下”、“下面”、“下”、“下方”、“上面”、“上”等，来描述附图中图示的一个元件或特征与另一元件或特征(多个元件或特征)的关系。应理解，除了附图中描绘的定向之外，空间相对术语旨在涵盖使用中或操作中的装置的不同定向。例如，如果附图中的装置被翻转，则被描述为在其他元件或特征“下面”或“之下”或“下方”的元件将然后被定向为在其他元件或特征“上面”。因此，示例术语“下面”和“下方”可涵盖上面和下面的两种定向。装置可以其他方式定向(例如，旋转90度或处于其他定向)，并且应相应地解释本文使用的空间相对描述符。
62.在平面上显示装置1可具有矩形形状。例如，显示装置1可具有矩形平面形状，该矩
形平面形状具有在第一方向dr1上的长边和在第二方向dr2上的短边。显示装置1的边缘(在第一方向dr1上的长边与在第二方向dr2上的短边在该处相遇(例如，交叉或相交))可形成为直角，或者可为圆的以具有设定或预定的曲率。然而，显示装置1的平面形状不限于所图示的形状，并且可应用为圆形形状或其他形状。例如，显示装置1的平面形状可为任何适当的形状。
63.显示装置1可包括其中显示图像的显示区da和其中不显示图像的非显示区nda。显示区da可包括多个像素px。非显示区nda可位于显示区da的周围(例如，可位于邻近于显示区da)，并且可部分或完全围绕显示区da。
64.显示装置1可包括显示基板10和面向显示基板10的颜色转换基板30。例如，颜色转换基板30和显示基板10可在第三方向dr3上彼此部分或完全重叠。显示装置1可进一步包括耦接显示基板10和颜色转换基板30的密封构件50，以及填充在显示基板10和颜色转换基板30之间(例如，位于两者之间)的填充层70。
65.显示基板10可从显示区da的多个发光区发射具有设定或预定的峰值波长的光。显示基板10可包括用于显示图像的元件和电路。例如，显示基板10可包括像素电路(比如开关元件)、限定显示区da的发光区和非发光区的像素限定层，以及自发光元件。
66.例如，自发光元件可包括从有机发光二极管、量子点发光二极管、无机类微型发光二极管(例如，微型led)和无机类的纳米发光二极管(例如，纳米led)中选择的至少一种。在下文中，将描述自发光元件为有机发光二极管的情况作为示例。然而，本公开不限于此。
67.颜色转换基板30可设置在显示基板10上方并且可面向显示基板10。颜色转换基板30可转换从显示基板10发射的光的峰值波长并透射光，或可保持从显示基板10发射的光的峰值波长并透射光。例如，显示基板10可发射具有设定或预定的峰值波长的光，并且颜色转换基板30可透射具有不同的峰值波长的至少两种光。例如，显示基板10可发射蓝光，并且颜色转换基板30可转换蓝光的至少一部分，并且可透射蓝光、绿光和/或红光。
68.密封构件50可在非显示区nda中沿着显示基板10和颜色转换基板30的边缘设置，并且可介于显示基板10和颜色转换基板30之间。在平面图中密封构件50可围绕显示区da。显示基板10和颜色转换基板30可通过密封构件50彼此耦接。例如，密封构件50可包括(例如，为)有机材料。密封构件50可由环氧树脂制成，但是其材料不限于此。
69.填充层70可设置在由密封构件50围绕的显示基板10和颜色转换基板30之间的空间中。例如，填充层70可由下面的显示基板10、上面的颜色转换基板30和侧面的密封构件50封装。填充层70可填充显示基板10和颜色转换基板30之间的空间。填充层70可由可透光的材料(例如，透明材料)制成。填充层70可包括(例如，为)有机材料。例如，填充层70可由硅(si)类有机材料和/或环氧类有机材料制成，但是其材料不限于此。
70.图3为根据实施方式的显示基板的像素布置的示意性布局视图。
71.参考图1至图3，显示装置1的显示区da包括沿着多个行和多个列布置的多个像素px。像素px意为用于显示的重复最小单位。为了全色显示，每个像素px可包括多个子像素pxs(pxs1、pxs2和pxs3)以发射不同颜色的光。例如，每个像素px包括发射蓝光的第一子像素pxs1、发射绿光的第二子像素pxs2和发射红光的第三子像素pxs3。
72.第一子像素pxs1、第二子像素pxs2和第三子像素pxs3可被提供给每个像素px(例如，包括在每个像素px中)。子像素pxs1、pxs2和pxs3可沿着第一方向dr1以第一子像素
pxs1、第二子像素pxs2和第三子像素pxs3的顺序依次布置。
73.显示基板10的每个像素px可包括多个发光区la(la1、la2和la3)和非发光区nla。
74.发光区la可为其中从显示基板10产生的光发射到显示基板10的外侧的区，并且非发光区nla可为其中从显示基板10产生的光不发射到显示基板10的外侧的区。
75.多个发光区la(la1、la2和la3)可包括第一发光区la1、第二发光区la2和第三发光区la3。第一至第三发光区la1、la2和la3可分别为第一至第三子像素pxs1、pxs2和pxs3的发光区la。例如，第一发光区la1为第一子像素pxs1的发光区la，第二发光区la2为第二子像素pxs2的发光区la，并且第三发光区la3可为第三子像素pxs3的发光区la。
76.从第一至第三发光区la1、la2和la3发射到显示基板10的外侧的光可为具有设定或预定的峰值波长的光。例如，第一至第三发光区la1、la2和la3可发射蓝光。从第一至第三发光区la1、la2和la3发射的光可具有范围为440nm至480nm的峰值波长。如本文使用的，术语“nm”可指等于10
‑9米的距离。
77.第一至第三发光区la1、la2和la3可沿着第一方向dr1依次布置在显示基板10的显示区da中。第一至第三发光区la1、la2和la3中的每个的平面形状可为其中在第二方向dr2上的宽度比在第一方向dr1上的宽度更长的矩形，但不限于此。
78.在示例实施方式中，第一发光区la1在第一方向dr1上的宽度wl1可小于第二发光区la2在第一方向dr1上的宽度wl2，并且可小于第三发光区la3在第一方向dr1上的宽度wl3。第二发光区la2在第一方向dr1上的宽度wl2可小于第三发光区la3在第一方向dr1上的宽度wl3。然而，第一至第三发光区la1、la2和la3在第一方向dr1上的宽度wl1、wl2和wl3之间的关系不限于图3中图示的实施方式。例如，第一发光区la1在第一方向dr1上的宽度wl1、第二发光区la2在第一方向dr1上的宽度wl2和第三发光区la3在第一方向dr1上的宽度wl3可彼此基本上相同。
79.在一些实施方式中，第一发光区la1的面积(例如，平面面积)可小于第二发光区la2的面积并且可小于第三发光区la3的面积。第二发光区la2的面积可小于第三发光区la3的面积。然而，本公开不限于此。例如，第一发光区la1、第二发光区la2和第三发光区la3的面积可彼此基本上相同。
80.非发光区nla可布置成围绕多个发光区la(la1、la2和la3)。
81.一个子像素pxs的非发光区nla接触相邻子像素pxs的非发光区nla(无论它是否为同一像素px中的子像素pxs)。相邻子像素pxs的非发光区nla可连接为一个。此外，所有子像素pxs的非发光区nla可连接为一个，但是本公开不限于此。相邻子像素pxs中的每个的发光区la1、la2和la3可由非发光区nla划分(例如，分开或隔开)。
82.图4为根据实施方式的颜色转换基板的像素布置的示意性布局视图。
83.结合图1和图2参考图4，颜色转换基板30的每个像素px可包括多个透光区ta(ta1、ta2和ta3)和多个阻光区ba(ba1、ba2和ba3)。
84.透光区ta可为从显示基板10发射的光透射(例如，透射通过)颜色转换基板30并发射到显示装置1的外侧的区，并且阻光区ba可为其中从显示基板10发射的光不透射的区。例如，阻光区ba可为从显示基板10发射的光被阻挡的区。
85.多个透光区ta：ta1、ta2和ta3可包括第一透光区ta1、第二透光区ta2和第三透光区ta3。第一至第三透光区ta1、ta2和ta3可分别为第一至第三子像素pxs1、pxs2和pxs3(例
如，对应于第一至第三子像素pxs1、pxs2和pxs3)的透光区ta。例如，第一透光区ta1为第一子像素pxs1的透光区ta，第二透光区ta2为第二子像素pxs2的透光区ta，并且第三透光区ta3可为第三子像素pxs3的透光区ta。第一至第三透光区ta1、ta2和ta3可分别对应于显示基板10的第一至第三发光区la1、la2和la3。
86.从显示基板10的发光区la1、la2和la3发射的光可分别透射(例如，穿过)颜色转换基板30的第一至第三透光区ta1、ta2和ta3并且可发射到显示装置1的外侧。第一透光区ta1可将第一颜色的光发射到显示装置1的外侧，第二透光区ta2可将不同于第一颜色的第二颜色的光发射到显示装置1的外侧，并且第三透光区ta3可将不同于第一颜色和第二颜色的第三颜色的光发射到显示装置1的外侧。例如，第一颜色的光可为峰值波长范围为440nm至约480nm的蓝光，第二颜色的光可为峰值波长范围为510nm至550nm的绿光，并且第三颜色的光可为峰值波长范围为610nm至650nm的红光。
87.第一至第三透光区ta1、ta2和ta3可沿着第一方向dr1依次布置在颜色转换基板30的显示区da中。第一至第三透光区ta1、ta2和ta3的平面形状可类似于第一至第三发光区la1、la2和la3的平面形状，但是本公开不限于此。在一些实施方式中，第一至第三透光区ta1、ta2和ta3的平面形状可分别对应于第一至第三发光区la1、la2和la3的平面形状。
88.在示例实施方式中，第一透光区ta1在第一方向dr1上的宽度wt1可小于第二透光区ta2在第一方向dr1上的宽度wt2并且可小于第三透光区ta3在第一方向dr1上的宽度wt3。第二透光区ta2在第一方向dr1上的宽度wt2可小于第三透光区ta3在第一方向dr1上的宽度wt3。然而，第一至第三透光区ta1、ta2和ta3在第一方向dr1上的宽度wt1、wt2和wt3之间的关系不限于图4所图示的实施方式。例如，第一透光区ta1在第一方向dr1上的宽度wt1、第二透光区ta2在第一方向dr1上的宽度wt2和第三透光区ta3在第一方向dr1上的宽度wt3可彼此基本上相同。
89.在一些实施方式中，第一透光区ta1的面积(例如，平面面积)可小于第二透光区ta2的面积并且可小于第三透光区ta3的面积。第二透光区ta2的面积可小于第三透光区ta3的面积。然而，本公开不限于此。例如，第一透光区ta1、第二透光区ta2和第三透光区ta3的面积可彼此基本上相同。
90.阻光区ba可设置为围绕多个透光区ta。每个相邻子像素pxs的透光区ta可由阻光区ba划分。
91.阻光区ba可包括第一阻光区ba1、第二阻光区ba2和第三阻光区ba3。第一至第三阻光区ba1、ba2和ba3可连接为一个，但是本公开不限于此。
92.第一阻光区ba1可沿着第一方向dr1位于第一透光区ta1和第二透光区ta2之间，第二阻光区ba2可沿着第一方向dr1位于第二透光区ta2和第三透光区ta3之间，并且第三阻光区ba3可沿着第一方向dr1位于第三透光区ta3和第一透光区ta1之间。例如，第三阻光区ba3可位于第一像素的第三透光区ta3和在第一方向dr1上与第一像素邻近的第二像素的第一透光区ta1之间。第一至第三阻光区ba1、ba2和ba3可防止或减少从第一至第三透光区ta1、ta2和ta3发射的光的颜色混合。
93.图5为沿着图3和图4的线v
‑
v’截取的显示装置的截面视图。
94.参考图5，显示基板10可包括第一基板110，和设置在第一基板110上的开关元件t、多个发光元件el和覆盖多个发光元件el的薄膜封装结构130。颜色转换基板30可包括第二
基板310和设置在第二基板310的面向第一基板110的表面(例如，下表面)上的颜色控制结构cfl、wcl和tpl。颜色控制结构可包括波长转换层wcl和光透射图案tpl，该光透射图案tpl在一些子像素中与波长转换层wcl设置在相同的水平(例如，高度)处。颜色控制结构可进一步包括滤色器层cfl。填充层70可设置在薄膜封装结构130与颜色控制结构cfl、wcl和tpl之间。如上所述，填充层70可耦接显示基板10和颜色转换基板30，同时填充显示基板10和颜色转换基板30之间的空间。
95.第一基板110可为绝缘基板。第一基板110可包括(例如，为)透明材料。例如，第一基板110可包括(例如，为)透明绝缘材料，比如玻璃和/或石英。第一基板110可为适当的刚性基板。然而，第一基板110不限于上面所示的材料。第一基板110可包括(例如，为)塑料，比如聚酰亚胺(pi)，并且可具有能够翘曲、弯曲、折叠和/或滚压的适当的柔性特性。
96.开关元件t可设置在第一基板110的表面(例如，上表面)上。开关元件t可针对(例如，对应于)每个子像素pxs设置。开关元件t可设置在每个子像素pxs的发光区la中。开关元件t可设置在每个子像素pxs中在显示基板10的第一至第三发光区la1、la2和la3中的每个中。然而，本公开不限于此。例如，包括在每个子像素pxs中的至少一个开关元件t可设置在非发光区nla中。
97.开关元件t可为包括(例如，为)聚硅氧烷的薄膜晶体管或包括(例如，为)氧化物半导体的薄膜晶体管。用于向开关元件t传输信号的多个信号线(例如，栅线、数据线和电源线等)可进一步设置在第一基板110上。
98.绝缘膜120可设置在开关元件t上。在示例实施方式中，绝缘膜120可为平坦化膜。绝缘膜120可包括有机膜。例如，绝缘膜120可包括(例如，为)有机材料，比如丙烯酸树脂、环氧树脂、酰亚胺树脂和/或酯树脂。
99.发光元件(或发光二极管)el可设置在绝缘膜120上。发光元件el可包括子像素电极pxse、发光层eml和公共电极cme。从发光层eml发射的光可例如在第三方向dr3上通过公共电极cme向上发射到显示装置1的上表面(例如，朝向显示装置1的上表面发射)。
100.子像素电极pxse可设置在绝缘膜120的表面(例如，上表面)上。子像素电极pxse可针对由稍后将更详细地描述的像素限定层pdl限定的第一至第三发光区la1、la2和la3中的每个设置。子像素电极pxse可通过穿透(例如，形成为穿透)绝缘膜120的接触孔电耦接(例如，电连接)到开关元件t。
101.子像素电极pxse可为发光元件el的第一电极，例如，阳极电极。子像素电极pxse可具有其中层压了包括(例如，为)氧化铟锡(ito)、氧化铟锌(izo)、氧化锌(zno)和/或氧化铟(in2o3)的高功函材料层以及包括(例如，为)银(ag)、镁(mg)、铝(al)、铂(pt)、铅(pb)、金(au)、镍(ni)、钕(nd)、铱(ir)、铬(cr)、锂(li)、钙(ca)、mgf或其混合物的反射材料层的层压结构。高功函材料层可设置在反射材料层上面，以更靠近发光层eml设置。子像素电极pxse可具有ito/mg、ito/mgf2、ito/ag或ito/ag/ito的多层结构，但是本公开不限于此。
102.像素限定层pdl可沿着每个子像素pxs的边界设置在绝缘膜120的表面(例如上表面)上。像素限定层pdl可设置在子像素电极pxse上(例如，在子像素电极pxse的一侧或边缘上)，并且可包括暴露子像素电极pxse(例如，子像素电极pxse的中心部分)的开口。非发光区nla和发光区la可由像素限定层pdl和其开口划分。例如，非发光区nla可对应于(例如，重叠于)像素限定层pdl，并且发光区la可对应于(例如，重叠于)像素限定层pdl的开口。像素
限定层pdl可使多个发光元件el中的每个的子像素电极pxse分开和绝缘。
103.像素限定层pdl可包括(例如，为)有机绝缘材料，比如聚丙烯酸酯树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、不饱和聚酯树脂、聚苯醚树脂、聚苯硫醚树脂和/或苯并环丁烯(bcb)。像素限定层pdl还可包括(例如，为)无机材料。
104.发光层eml设置在由像素限定层pdl暴露的子像素电极pxse上。在其中显示装置1为有机发光显示装置的实施方式中，发光层eml可包括包含(例如，为)有机材料的有机层。有机层包括有机发光层，并且在一些情况下，可进一步包括空穴注入层/空穴传输层和/或电子注入层/电子传输层作为辅助层来辅助光发射。例如，有机层可包括有机发光层并且可进一步包括空穴注入层、空穴传输层、电子注入层和/或电子传输层。在另一实施方式中，当显示装置1为微型led显示装置或纳米led显示装置等时，发光层eml可包括(例如，为)无机材料，比如无机半导体。
105.在一些实施方式中，发光层eml可具有串联结构，该串联结构包括在厚度方向上彼此重叠的多个有机发光层和设置在其间的电荷产生层。例如，电荷产生层可位于多个有机发光层的每对邻近的有机发光层之间。彼此重叠的有机发光层可发射相同波长的光，但是也可发射不同波长的光。每个子像素pxs的发光层eml的至少一部分可与相邻的(例如，邻近的)子像素pxs的发光层eml分开。
106.在实施方式中，对于每个子像素pxs，由每个发光层eml发射的光的波长可为相同的。例如，每个子像素pxs的发光层eml可发射蓝光，并且颜色转换基板30的颜色控制结构可包括波长转换层wcl和光透射图案tpl，从而显示每个子像素pxs的颜色。
107.在另一实施方式中，对于每个子像素pxs，由每个发光层eml发射的光的波长的光发射波长带可为不同的。例如，第一子像素pxs1的发光层eml可发射第一颜色的光，并且第二子像素pxs2的发光层eml可发射第二颜色的光，并且第三子像素pxs3的发光层eml可发射第三颜色的光。
108.公共电极cme可设置在发光层eml上。公共电极cme可不仅接触发光层eml，而且也可接触在非发光区nla中的像素限定层pdl的上表面。
109.公共电极cme可不区分子像素pxs而被耦接(例如，连接)。例如，公共电极cme可共同耦接至多个(例如，一些或所有)子像素pxs。公共电极cme可为整体设置的电极而不区分子像素pxs。公共电极cme可为发光元件el的第二电极，例如，阴极电极。
110.公共电极cme可包括低功函材料层，该低功函材料层包括(例如，为)锂(li)、钙(ca)、lif、铝(al)、镁(mg)、银(ag)、铂(pt)、钯(pd)、镍(ni)、金(au)、钕(nd)、铱(ir)、铬(cr)、baf、钡(ba)中的至少一种、其化合物，或其混合物(例如，ag和mg的混合物)。公共电极cme可进一步包括设置在低功函材料层上的透明金属氧化物层。
111.薄膜封装结构130可设置在公共电极cme上。薄膜封装结构130可防止或阻挡氧和/或湿气渗透到发光元件el中。
112.薄膜封装结构130可包括至少一个薄膜封装层。例如，薄膜封装层可包括第一无机膜131、有机膜132和第二无机膜133。第一无机膜131和第二无机膜133中的每个可包括(例如，为)氮化硅、氧化硅和/或氮氧化硅。有机膜132可包括(例如，为)有机绝缘材料，比如聚丙烯酸酯树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、不饱和聚酯树脂、聚苯醚树脂、聚苯硫醚树脂和/或苯并环丁烯(bcb)。
113.如上所述，颜色转换基板30可包括第一至第三透光区ta1、ta2和ta3以及第一至第三阻光区ba1、ba2和ba3。颜色转换基板30的第一至第三透光区ta1、ta2和ta3可分别对应于显示基板10的第一至第三发光区la1、la2和la3。第一至第三阻光区ba1、ba2和ba3可防止或阻挡从第一至第三透光区ta1、ta2和ta3发射的光的颜色混合。
114.颜色转换基板30可包括第二基板310、滤色器层cfl、阻光构件vab、第一封盖层320、分隔壁ptl、波长转换层wcl、光透射图案tpl和第二封盖层330。
115.颜色转换基板30可设置在薄膜封装结构130上，以面向薄膜封装结构130。例如，颜色转换基板30和薄膜封装结构130可彼此部分或完全重叠。颜色转换基板30的第二基板310可包括(例如，为)透明材料。例如，第二基板310可包括(例如，为)透明绝缘材料，比如玻璃和/或石英。第二基板310可为适当的刚性基板。然而，第二基板310不限于上面所示的材料。第二基板310可包括(例如，为)塑料，比如聚酰亚胺(pi)，并且可具有能够翘曲、弯曲、折叠和/或滚压的适当的柔性特性。
116.第二基板310可为与第一基板110相同的基板，但是在材料、厚度和透过率等方面可不同于第一基板110。例如，第二基板310可具有比第一基板110更高的透过率。因为第二基板310包括(例如，为)透光材料，所以从第一至第三透光区ta1、ta2和ta3发射的光可透射以提供到显示装置1的外侧。第二基板310可比第一基板110更厚或更薄。
117.在第二基板310的面向第一基板110的表面(例如，下表面)上可进一步设置缓冲层。缓冲层可防止或阻挡杂质流到第二基板310的表面中。
118.滤色器层cfl可设置在第二基板310的面向第一基板110的表面(例如，下表面)上。
119.滤色器层cfl可包括第一滤色器cf1、第二滤色器cf2和第三滤色器cf3。滤色器cf1、cf2和cf3中的每个可包括(例如，为)比如染料和/或颜料的着色剂，该着色剂吸收除了相应颜色波长以外的波长。
120.第一滤色器cf1可设置在第一子像素pxs1的第一透光区ta1中。第一滤色器cf1也可设置在第一至第三阻光区ba1、ba2和ba3中。在示例实施方式中，设置在第一透光区ta1中的第一滤色器cf1和设置在第一至第三阻光区ba1、ba2和ba3中的第一滤色器cf1可通过相同的工艺形成(例如，可由相同的材料或相同的层形成)。设置在第一透光区ta1中的第一滤色器cf1可形成为朝向与第一透光区ta1邻近的第一阻光区ba1和第三阻光区ba3延伸，以彼此成一体。
121.第一滤色器cf1可为蓝色滤色器。第一滤色器cf1可选择性透射第一颜色的光(例如，蓝光)，并且可阻挡和/或吸收第二颜色的光(例如，绿光)和第三颜色的光(例如，红光)。例如，第一滤色器cf1可包括(例如，为)蓝色着色剂。蓝色着色剂可包括(例如，为)蓝色染料和/或蓝色颜料。
122.当第一滤色器cf1包括(例如，为)蓝色着色剂时，通过第一滤色器cf1透射的外部光或反射光可具有蓝色波长带。由使用者的眼睛感知的眼睛颜色敏感度可根据光的颜色而变化。例如，使用者的眼睛对蓝色波长带中的光的感知可能不如对绿色波长带中的光和红色波长带中的光敏感。相应地，第一滤色器cf1包括(例如，为)蓝色着色剂，使得使用者可以较低的敏感度感知反射光。
123.第二滤色器cf2可设置在第二子像素pxs2的第二透光区ta2中。第二滤色器cf2可设置在第二透光区ta2中，并且可朝向与第二透光区ta2邻近的第一阻光区ba1和第二阻光
区ba2延伸，以部分地设置在阻光构件vab上，该阻光构件vab设置在第一滤色器cf1上。
124.第二滤色器cf2可为绿色滤色器。第二滤色器cf2可选择性透射第二颜色的光(例如，绿光)，并且可阻挡和/或吸收第一颜色的光(例如，蓝光)和第三颜色的光(例如，红光)。例如，第二滤色器cf2可包括(例如，为)绿色着色剂。绿色着色剂可包括(例如，为)绿色染料和/或绿色颜料。
125.第三滤色器cf3可设置在第三子像素pxs3的第三透光区ta3中。第三滤色器cf3可设置在第三透光区ta3中，并且可朝向与第三透光区ta3邻近的第二阻光区ba2和第三阻光区ba3延伸，以部分地设置在阻光构件vab上，该阻光构件vab设置在第一滤色器cf1上。
126.第三滤色器cf3可为红色滤色器。第三滤色器cf3可选择性透射第三颜色的光(例如，红光)，并且可阻挡和/或吸收第一颜色的光(例如，蓝光)和第二颜色的光(例如，绿光)。例如，第三滤色器cf3可包括(例如，为)红色着色剂。红色着色剂可包括(例如，为)红色染料和/或红色颜料。
127.第一至第三滤色器cf1、cf2和cf3可吸收从显示装置1的外侧流入颜色转换基板30的一部分光，以减少由于外部光导致的反射光。因此，第一至第三滤色器cf1、cf2和cf3可用于防止或减少由于外部光的反射而导致的颜色失真。
128.阻光构件vab可沿着子像素pxs的边界设置在第一滤色器cf1的面向第一基板110的表面(例如，下表面)上。阻光构件vab设置在第一至第三阻光区ba1、ba2和ba3中，以阻挡光透射。阻光构件vab可设置成围绕第一至第三透光区ta1、ta2和ta3，并且可因此在平面图中具有栅格形状。
129.阻光构件vab可包括(例如，为)有机材料。阻光构件vab可吸收外部光，以减少由于外部光的反射导致的颜色失真。此外，阻光构件vab可防止或阻挡彼此邻近设置的透光区ta1、ta2和ta3之间光的侵入和/或混合，从而提高显示装置1的颜色再现性。
130.在实施方式中，阻光构件vab可吸收所有可见波长的光。阻光构件vab可包括(例如，为)光吸收材料。例如，阻光构件vab可由用作显示装置1的黑色矩阵的材料制成。在另一实施方式中，阻光构件vab可吸收可见波长中的设定波长或波长范围的光，并且透射另一设定波长或波长范围的光。
131.可省略阻光构件vab。
132.第一封盖层320可设置在滤色器层cfl上。例如，在第一至第三透光区ta1、ta2和ta3中，第一封盖层320可直接接触设置在第一至第三透光区ta1、ta2和ta3中以及在第一至第三阻光区ba1、ba2和ba3中的第一至第三滤色器cf1、cf2和cf3中的每个的表面(例如，图5中的下表面)。第一封盖层320可直接接触设置在第一至第三阻光区ba1、ba2和ba3中的阻光构件vab。例如，第一封盖层320可覆盖第一至第三滤色器cf1、cf2和cf3以及阻光构件vab的下表面。
133.第一封盖层320可防止或阻挡比如湿气和/或空气的杂质从外侧渗透，以损坏和/或污染滤色器层cfl和/或波长转换层wcl。此外，第一封盖层320可防止或阻挡滤色器层cfl中包括的着色剂扩散到波长转换层wcl和/或光透射图案tpl中，这将在后面更详细地描述。
134.第一封盖层320可由无机材料制成。例如，第一封盖层320可包括(例如，为)选自以下中的至少一种：氮化硅、氮化铝、氮化锆、氮化钛、氮化铪、氮化钽、氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锡和氮氧化硅。
135.分隔壁ptl可设置在第一封盖层320上。分隔壁ptl可位于第一至第三阻光区ba1、ba2和ba3中，并且可与非发光区nla重叠。分隔壁ptl可设置成与阻光构件vab重叠。分隔壁ptl可设置成围绕第一至第三透光区ta1、ta2和ta3。分隔壁ptl可包括暴露滤色器层cfl和光透射图案tpl的开口。
136.颜色控制层wcl和tpl可设置在由分隔壁ptl的开口暴露的空间中。在实施方式中，颜色控制层wcl和tpl可通过利用分隔壁ptl作为堤岸的喷墨工艺形成。分隔壁ptl可用作将用于形成颜色控制层wcl和tpl的油墨组合物稳定放置在设定或预定的位置的导向件。分隔壁ptl可包括(例如，为)光敏有机材料，但是其材料不限于此。分隔壁ptl可进一步包括(例如，为)阻光材料。
137.颜色控制层wcl和tpl可包括转换入射光的波长的波长转换层wcl以及保持并通过入射光的波长的光透射图案tpl。波长转换层wcl和/或光透射图案tpl可设置成对于每个子像素pxs是分开的。波长转换层wcl和/或光透射图案tpl可在厚度方向上与发光区la和透光区ta重叠。彼此邻近设置的波长转换层wcl和/或光透射图案tpl可通过设置在阻光区ba中的分隔壁ptl彼此间隔开。
138.波长转换层wcl和光透射图案tpl可设置在第一封盖层320上。在一些实施方式中，如上所述，波长转换层wcl和光透射图案tpl可通过喷墨方法形成。然而，本公开不限于此。例如，波长转换层wcl和光透射图案tpl中的每个可通过施加光敏材料以及使所施加的光敏材料曝光并显影以形成图案来形成。在下文中，将更详细地描述波长转换层wcl和光透射图案tpl通过喷墨方法形成的情况。
139.波长转换层wcl可设置在其中由发光元件el入射的光的波长不同于相应子像素pxs的颜色的波长并且因此其中需要转换波长的子像素pxs中。光透射图案tpl可设置在其中由发光元件el入射的光的波长与相应子像素pxs的颜色的波长相同的子像素pxs中。示例实施方式为其中每个子像素pxs的发光层eml将要发射第一颜色的光的情况。在该情况下，光透射图案tpl设置在第一子像素pxs1中，并且波长转换层wcl设置在第二子像素pxs2和第三子像素pxs3中。作为另一示例，当每个子像素pxs的发光元件el将要发射波长不同于每个子像素pxs的颜色的波长的光，比如紫外光时，可在每个子像素pxs中仅设置波长转换层wcl而无需光透射图案tpl。
140.在示例实施方式中，波长转换层wcl可包括设置在第二子像素pxs2中的第一波长转换图案wcl1和设置在第三子像素pxs3中的第二波长转换图案wcl2。
141.光透射图案tpl可设置在第一子像素pxs1中由分隔壁ptl分隔的第一透光区ta1中。光透射图案tpl可与设置在第一透光区ta1中的第一滤色器cf1重叠。光透射图案tpl将要透射从发光层eml入射的第一颜色的光，并保持第一颜色的光的波长。例如，光透射图案tpl将要透射从发光层eml入射的蓝光，并保持蓝光的波长。
142.光透射图案tpl可包括(例如，为)第一基础树脂brs1。光透射图案tpl可进一步包括(例如，为)分散在第一基础树脂brs1中的第一散射体scp1。
143.第一波长转换图案wcl1可设置在第二子像素pxs2中由分隔壁ptl分隔的第二透光区ta2中。第一波长转换图案wcl1可与设置在第二透光区ta2中的第二滤色器cf2重叠。第一波长转换图案wcl1可将从发光层eml入射的具有第一颜色的波长的光转换成具有不同于第一颜色的第二颜色的波长的光，并可发射转换后的光。例如，第一波长转换图案wcl1可将从
发光层eml入射的蓝光转换成绿光，并可发射绿光。
144.第一波长转换图案wcl1可包括(例如，为)第二基础树脂brs2和分散在第二基础树脂brs2中的第一波长转换材料wcp1。第一波长转换图案wcl1可进一步包括(例如，为)分散在第二基础树脂brs2中的第二散射体scp2。
145.第二波长转换图案wcl2可设置在第三子像素pxs3中由分隔壁ptl分隔的第三透光区ta3中。第二波长转换图案wcl2可与设置在第三透光区ta3中的第三滤色器cf3重叠。第二波长转换图案wcl2可将从发光层eml入射的具有第一颜色的波长的光转换成具有不同于第一颜色的第三颜色的波长的光，并可发射转换后的光。例如，第二波长转换图案wcl2可将从发光层eml入射的蓝光转换成红光，并可发射红光。
146.第二波长转换图案wcl2可包括(例如，为)第三基础树脂brs3和分散在第三基础树脂brs3中的第二波长转换材料wcp2。第二波长转换图案wcl2可进一步包括(例如，为)分散在第三基础树脂brs3中的第三散射体scp3。
147.第一至第三基础树脂brs1、brs2和brs3可包括(例如，为)半透明有机材料。例如，第一至第三基础树脂brs1、brs2和brs3可包括(例如，为)环氧树脂、丙烯酸树脂、卡多树脂(cardo resin)和/或酰亚胺树脂。第一至第三基础树脂brs1、brs2和brs3可由相同的材料制成，但是本公开不限于此。
148.第一至第三散射体scp1、scp2和scp3可分别与第一至第三基础树脂brs1、brs2和brs3具有不同的折射率。第一至第三散射体scp1、scp2和scp3可为金属氧化物颗粒和/或有机材料颗粒。金属氧化物的示例可包括氧化钛(tio2)、氧化锆(zro2)、氧化铝(al2o3)、氧化铟(in2o3)、氧化锌(zno)和氧化锡(sno2)，并且有机材料的示例可包括丙烯酸树脂和氨基甲酸乙酯树脂。第一至第三散射体scp1、scp2和scp3可由相同的材料制成，但是本公开不限于此。
149.第一波长转换材料wcp1可将第一颜色转换成第二颜色，并且第二波长转换材料wcp2可将第一颜色转换成第三颜色。例如，第一波长转换材料wcp1可将蓝光转换成绿光，并且第二波长转换材料wcp2可将蓝光转换成红光。第一波长转换材料wcp1和第二波长转换材料wcp2可为量子点、量子棒和/或磷光体。量子点可包括第iv族纳米晶体、第ii
‑
vi族化合物纳米晶体、第iii
‑
v族化合物纳米晶体、第iv
‑
vi族化合物纳米晶体或其组合。
150.第二封盖层330设置在波长转换层wcl和光透射图案tpl上。第二封盖层330可由无机材料制成。第二封盖层330可包括(例如，为)从作为第一封盖层320的材料列出的材料中选择的材料。第二封盖层330和第一封盖层320可由相同的材料制成，但是本公开不限于此。
151.第二封盖层330可覆盖波长转换图案wcl1和wcl2以及光透射图案tpl中的每个。第二封盖层330可不仅覆盖波长转换图案wcl1和wcl2以及光透射图案tpl中的每个的一个表面(例如，下表面)而且也可覆盖其侧表面。第二封盖层330可在相邻的颜色控制层wcl和tpl之间的空间中接触分隔壁ptl。第二封盖层330可相对于由颜色控制层wcl和tpl形成的表面阶梯具有共形形状。
152.填充层70可设置在显示基板10和颜色转换基板30之间。填充层70可用于填充在显示基板10和颜色转换基板30之间的空间，并且可用于耦接显示基板10和颜色转换基板30。填充层70可设置在显示基板10的薄膜封装结构130和颜色转换基板30的第二封盖层330之间。填充层70可由硅类有机材料或环氧类有机材料等制成，但是其材料不限于此。
153.图6为图5的部分q的放大截面视图，并且图7和图8为图示图6中示出的结构的修改示例的截面视图。
154.参考图6，在实施方式中，发光层eml可包括设置在子像素电极pxse上的空穴传输层htl、设置在空穴传输层htl上的第一发光材料层ell1和设置在第一发光材料层ell1上的电子传输层etl。在本实施方式中，发光层eml仅包括一个发光材料层，例如，作为发光材料层的第一发光材料层ell1，并且第一发光材料层ell1可发射蓝光。然而，发光层eml的层压结构不限于图6的结构，并且可被修改，例如，如在下面将要描述的图7和图8中所示。
155.参考图7，在另一实施方式中，发光层eml可包括设置在第一发光材料层ell1上的第一电荷产生层cgl1和设置在第一电荷产生层cgl1上的第二发光材料层ell2，并且电子传输层etl可设置在第二发光材料层ell2上。
156.第一电荷产生层cgl1可用于将电荷注入到第一发光材料层ell1和第二发光材料层ell2中。第一电荷产生层cgl1可用于控制在第一发光材料层ell1和第二发光材料层ell2之间的电荷平衡。在一些实施方式中，第一电荷产生层cgl1可包括n型(例如，n类)电荷产生层和p型(例如，p类)电荷产生层。p型电荷产生层可设置在n型电荷产生层上。
157.如在第一发光材料层ell1中一样，第二发光材料层ell2可发射蓝光，但是第二发光材料层ell2不限于此。第二发光材料层ell2可发射与从第一发光材料层ell1发射的光具有相同的峰值波长或不同的峰值波长的蓝光。在另一实施方式中，第一发光材料层ell1和第二发光材料层ell2可发射彼此不同颜色的光。例如，第一发光材料层ell1可发射蓝光，并且第二发光材料层ell2可发射绿光。具有图7中所示结构的发光层eml包括两个发光材料层，使得图7中所示结构的光发射效率和寿命与图6的结构的光发射效率和寿命相比，可提高。
158.参考图8，在另一实施方式中，图示了发光层eml可包括三个发光材料层ell1、ell2和ell3以及插入其间的两个电荷产生层cgl1和cgl2。如图8中所示，发光层eml可包括设置在第一发光材料层ell1上的第一电荷产生层cgl1、设置在第一电荷产生层cgl1上的第二发光材料ell2、设置在第二发光材料层ell2上的第二电荷产生层cgl2和设置在第二电荷产生层cgl2上的第三发光材料层ell3。
159.如在第一发光材料层ell1和第二发光材料层ell2中一样，第三发光材料层ell3可发射蓝光。在示例实施方式中，第一发光材料层ell1、第二发光材料层ell2和第三发光材料层ell3中的每个可发射蓝光，但是从发光材料层ell1、ell2和ell3中的每个发射的光可均具有相同的峰值波长，或者一些峰值波长可不同。在另一实施方式中，从第一发光材料层ell1、第二发光材料层ell2和第三发光材料层ell3发射的光的颜色可彼此不同。例如，每个发光材料层可发射蓝光或绿光，且每个发光材料层可发射红光、绿光和蓝光以整体发射白光。例如，在一些实施方式中，第一至第三发光材料层ell1、ell2和ell3中的所有三个均将要发射蓝光。在一些实施方式中，第一至第三发光材料层ell1、ell2和ell3中的一个或两个将要发射蓝光并且第一至第三发光材料层ell1、ell2和ell3的剩余的发光材料层(多个发光材料层)将要发射绿光。在一些实施方式中，第一至第三发光材料层ell1、ell2和ell3中的一个将要发射蓝光，第一至第三发光材料层ell1、ell2和ell3中的另一个将要发射绿光，并且第一至第三发光材料层ell1、ell2和ell3中的剩余一个将要发射红光。
160.图9至图12为图示根据实施方式的修复显示装置的方法的截面视图。
161.图5的显示装置1可在进行图9的修复工艺之前制造。其后，进行检查工艺以确定缺陷性子像素(例如，在波长转换图案中具有缺陷的子像素)的存在与否。可例如通过接合显示基板10和颜色转换基板30以实施测试图案来掌握(例如，检测)每个子像素的黑点的存在和位置的方法进行检查工艺。在下文中，在本公开的实施方式中，将描述设置在显示第二颜色(例如绿色)的第二子像素pxs2的第二透光区ta2中的波长转换图案中发生缺陷的情况作为示例。
162.参考图9，在本公开的实施方式中，已发生缺陷的第一波长转换图案(在下文中，缺陷性波长转换图案wcl1_d或混合波长转换图案wcl1_d)可形成在第二子像素pxs2的第二透光区ta2中。图9中所示的缺陷性波长转换图案wcl1_d可以是由于比如油墨误注入或油墨溢出的器材操作缺陷，或由于形成波长转换层wcl的喷墨工艺期间的材料缺陷而产生的。
163.例如，缺陷性波长转换图案wcl1_d可包括(例如，为)其中混合第二基础树脂brs2和第三基础树脂brs3的第四基础树脂brs2’，以及分散在第四基础树脂brs2’中的第二散射体scp2、第一波长转换材料wcp1和第二波长转换材料wcp2。例如，缺陷性波长转换图案wcl1_d(其可为通过将设置在第二子像素pxs2中的第一波长转换图案wcl1中包括的材料与设置在第三子像素pxs3中的第二波长转换图案wcl2中包括的材料混合而形成的波长转换层)可为导致显示装置1中的黑点的缺陷性波长转换层。
164.在下文中，将更详细地描述根据本公开的实施方式的修复显示装置的方法。
165.参考图9至图12，根据实施方式的修复显示装置的方法包括以下任务：去除缺陷性波长转换图案(或混合波长转换图案)；以及在通过去除缺陷性波长转换图案而形成的槽中形成修复图案。形成修复图案的任务可包括：将包括(例如，为)波长转换材料的油墨注入到通过去除缺陷性波长转换图案形成的槽中以形成修复材料层的任务，以及固化修复材料层以形成修复图案的任务。修复显示装置的方法可进一步包括检查修复图案的厚度的任务。在下文中，将参考图9至图12更详细地描述每个修复工艺。
166.首先，参考图9，去除第二子像素(或缺陷性像素)中形成的缺陷性波长转换图案。
167.例如，可通过用激光束l1辐射缺陷性波长转换图案wcl1_d来去除缺陷性波长转换图案wcl1_d。可利用激光器单元710施加激光束l1。例如，激光器单元710可包括纳米激光器和飞秒激光器中的至少一种。在一些实施方式中，激光器单元710可包括纳秒激光器。
168.激光器单元710可用激光束l1辐射设置在第二透光区ta2中的缺陷性波长转换图案wcl1_d，以去除缺陷性波长转换图案wcl1_d。设置在通过设置于第一阻光区ba1和第二阻光区ba2中的分隔壁ptl分隔的空间中的缺陷性波长转换图案wcl1_d可至少部分地被激光束l1去除。
169.在辐射激光束l1之前，第一掩模mk1可在激光器单元710和颜色转换基板30之间对准。第一掩模mk1可包括图案板，该图案板包括将要透射从激光器单元710发射的激光束l1的透射部分(例如，第一掩模mk1中的开口)和阻挡激光束l1的阻挡部分。
170.第一掩模mk1可设置成使得第一掩模mk1的透射部分与对应于第二子像素pxs2的第二透光区ta2的区对准。例如，第一掩模mk1的透射部分可为第一掩模mk1中与第二透光区ta2重叠的开口。相应地，当激光器单元710用激光束l1辐射缺陷性波长转换图案wcl1_d时，第一掩模mk1可用于防止或减少设置在除了发生缺陷的第二子像素pxs2的第二透光区ta2之外的区中的颜色转换基板30的构件或组件被激光束l1损坏或去除的发生。
171.可控制或调整激光束l1的焦点使得从激光器单元710辐射的激光束l1选择性去除(例如，被设定或配置成去除)缺陷性波长转换图案wcl1_d，而不去除第二滤色器cf2。
172.如图10中所示，可从第二透光区ta2去除缺陷性波长转换图案wcl1_d以形成槽op。槽op可与已发生缺陷的第二子像素pxs2的第二透光区ta2重叠。槽op可为由设置在第一阻光区ba1和第二阻光区ba2中的分隔壁ptl分隔的空间。例如，槽op可为通过激光器单元710利用激光束l1去除的缺陷性波长转换图案wcl1_d的部分占据的体积。
173.随后，参考图10，在通过去除缺陷性波长转换图案wcl1_d而形成的槽op中形成修复材料层。
174.例如，修复材料层wcl1_r(参见图11)可通过喷墨方法形成在通过去除缺陷性波长转换图案wcl1_d而形成的槽op中。喷墨喷嘴720将油墨i注入到由设置在第一阻光区ba1和第二阻光区ba2中的分隔壁ptl分隔的空间中。第二滤色器cf2位于由分隔壁ptl分隔的空间的底表面上。例如，第二滤色器cf2可位于第一封盖层320的底表面上，使得第一封盖层320将第二滤色器cf2与设置在槽op中的油墨i分开。油墨i可包括(例如，为)第一波长转换材料wcp1或第二波长转换材料wcp2，第一波长转换材料wcp1或第二波长转换材料wcp2将第一颜色的光转换(例如，分别转换)成第二颜色的光或第三颜色的光。包括在油墨i中的波长转换材料可为将设定或预定颜色的光转换成其中由进行修复工艺的子像素pxs(例如其中发生缺陷的子像素pxs)表示的颜色的光的波长转换材料。
175.例如，当缺陷性子像素为第二子像素pxs2时，油墨i可包括(例如，为)第一波长转换材料wcp1。油墨i可包括(例如，为)与包括在图5的第一波长转换图案wcl1中的材料相同的材料。例如，油墨i可包括(例如，为)与第二基础树脂brs2含有相同的材料的溶剂，以及分散在溶剂中的第二散射体scp2和第一波长转换材料wcp1。可考虑油墨i的表面张力和在油墨i干燥后的体积收缩来确定油墨i的注入量。
176.可将油墨i注入到槽op中以形成图11的修复材料层wcl1_r，该修复材料层wcl1_r填充由分隔壁ptl分隔的空间。可控制或调整修复材料层wcl1_r，从而不会越过分隔壁ptl朝向邻近的子像素区(多个子像素区)溢出。
177.在利用喷墨喷嘴720注入油墨i之前，第二掩模mk2可在喷墨喷嘴720和颜色转换基板30之间对准。第二掩模mk2可在对应于第二子像素pxs2的第二透光区ta2的区中包括开口。当利用喷墨喷嘴720将油墨i注入到第一封盖层320上时，第二掩模mk2可用于防止或阻挡含有第一波长转换材料wcp1的油墨i注入到除了已发生缺陷的第二子像素pxs2的第二透光区ta2之外的区中。在一些实施方式中，可通过利用喷墨喷嘴720将油墨i注入到第一封盖层320上，并且第二掩模mk2可起到上述功能。然而，本公开不限于此。例如，可省略第二掩模mk2。
178.喷墨喷嘴720可耦接至(例如，连接至)油墨供应设备，以从油墨供应设备接收油墨i。油墨供应设备可包括其中储存有油墨i的油墨存储单元和用于循环油墨i的循环泵。因为循环泵使油墨i循环，所以循环泵可用于防止或减少油墨i硬化(例如，凝结或结块)的现象，并保持油墨i的粘度，从而提高显示装置1的修复工艺的质量和/或可靠性。
179.随后，参考图11，固化修复材料层以形成修复图案。
180.可通过固化修复材料层wcl1_r来形成修复图案wcl1’(参见图12)。例如，可通过利用光辐射装置730将光辐射在(例如，辐射到)修复材料层wcl1_r上来固化修复材料层wcl1_
r。光辐射装置730不受限制，只要其可固化修复材料层wcl1_r即可。例如，光辐射装置730可为适于固化修复材料层wcl1_r的任何装置。例如，光辐射装置730可包括uv灯。
181.在示例实施方式中，在固化修复材料层wcl1_r的工艺中，可通过利用以其中利用气体注射器740将气体ap引入到修复材料层wcl1_r上的同时产生气体气氛的状态下的光辐射装置730在修复材料层wcl1_r上辐射光来固化修复材料层wcl1_r。例如，可通过将光辐射到修复材料层wcl1_r上，同时在修复材料层wcl1_r处(例如，在修复材料层wcl1_r上、附近或周围)产生包括(例如，为)气体ap的气体气氛来固化修复材料层wcl1_r。气体ap可包括(例如，为)氮(n2)或任何适当的气体。气体ap可仅局部地注入到修复材料层wcl1_r上，从而不影响在邻近的子像素pxs中形成的颜色转换基板30。例如，可产生包括气体ap的气体气氛，使得气体气氛基本上仅在修复材料层wcl1_r处(例如，在修复材料层wcl1_r上、附近或周围)。然而，本公开不限于此。例如，整个显示装置可在包括气体ap的气体气氛中。
182.在利用光辐射装置730在修复材料层wcl1_r上辐射光并产生气体(ap)气氛之前，第三掩模mk3可在光辐射装置730和气体注射器740与颜色转换基板30之间对准。第三掩模mk3可在对应于第二子像素pxs2的第二透光区ta2的区中包括开口。第三掩模mk3可用于防止或减少设置在除了发生缺陷的第二子像素pxs2的第二透光区ta2之外的区中的颜色转换基板30的构件或组件被从光辐射装置730发射的光损坏的发生。
183.随后，参考图12，检查修复图案。
184.例如，可利用照相机单元750检查在第二子像素pxs2的第二透光区ta2中形成的修复图案wcl1’的厚度。照相机单元750可通过从进行修复工艺的区的上部分拍摄修复图案wcl1’来测量修复图案wcl1’的厚度。例如，照相机单元750可放置在修复图案wcl1’上面，使得它可以以平面视图拍摄修复图案wcl1’。当厚度处于参考设定值或更小时，可再次进行图10的喷墨工艺。可通过进行检查修复图案wcl1’的厚度的工艺来提高修复工艺的质量和/或可靠性。
185.图13为图示修复显示装置的工艺的另一示例的截面视图。
186.参考图13，图13的实施方式与图10的实施方式的不同之处在于，将含有第一波长转换材料wcp1的油墨i1和含有第二波长转换材料wcp2的油墨i2分别注入到第二子像素pxs2和第三子像素pxs3上，以并发地或同时修复包括在像素中的已发生缺陷的邻近的子像素。
187.例如，通过去除缺陷性波长转换图案(例如，通过分别去除第二子像素pxs2和第三子像素pxs3的缺陷性波长转换图案)形成的槽op1和op2可与第二子像素pxs2的第二透光区ta2和第三子像素pxs3的第三透光区ta3重叠。通过去除缺陷性波长转换图案形成的槽op1和op2可包括与第二透光区ta2重叠的第一槽op1和与第三透光区ta3重叠的第二槽op2。
188.喷墨喷嘴721和722可包括将油墨注入到第一槽op1中的第一喷墨喷嘴721和将油墨注入到第二槽op2中的第二喷墨喷嘴722。第一喷墨喷嘴721和第二喷墨喷嘴722可设置成根据邻近的子像素pxs之间的间隔来控制或调整。例如，第一喷墨喷嘴721和第二喷墨喷嘴722中的每个的高度可基于邻近的子像素pxs分开的水平距离来控制或调整。
189.第一喷墨喷嘴721可将第一油墨i1注入到第一槽op1中。第一油墨i1可与图10的油墨i包括(例如，为)基本上相同的材料。
190.第二喷墨喷嘴722可将第二油墨i2注入到第二槽op2中。第二油墨i2可包括(例如，
为)与第三基础树脂brs3包括(例如，为)相同的材料的溶剂，以及分散在溶剂中的第三散射体scp3和第二波长转换材料wcp2。
191.第二掩模mk2’可在第一喷墨喷嘴721和第二喷墨喷嘴722与颜色转换基板30之间对准。第二掩模mk2’可包括多个透射部分(例如，开口)和多个阻挡部分。第二掩模mk2’可设置成使得多个透射部分设置在对应于第二透光区ta2和第三透光区ta3的区中。
192.可省略第二掩模mk2’。
193.在下文中，将描述已经历如图9至图12中所示的修复工艺的显示装置的截面视图。在以下实施方式中，可简化或者可不重复与已经描述的实施方式的组件相同的组件的描述，并且将主要描述不同之处。尽管以下附图仅显示包括由于缺陷的发生(例如，形成缺陷性波长转换图案(或混合波长转换图案))而已经经历了修复工艺的子像素的像素，但是其中没有发生显示装置的缺陷的另一个像素也可包括图5中所示的结构。例如，根据本公开的显示装置，可将图9至图12中所示的修复工艺应用于显示装置的多个像素中的像素的子集，并且该修复工艺可不应用于多个像素的剩余像素。
194.图14为图示根据实施方式的已经历修复工艺的显示装置的示例的截面视图。
195.在如图14中所示的已经历修复工艺的显示装置中，图示了残留的混合波长转换层可设置在设置于第二阻光区中的分隔壁上。
196.例如，残留的混合波长转换层pa可设置在分隔壁ptl上，该分隔壁ptl设置在已进行修复工艺的第二子像素pxs2和第三子像素pxs3之间的边界处。其上设置有残留的混合波长转换层pa的分隔壁ptl可与设置在第二透光区ta2和第三透光区ta3之间的第二阻光区ba2重叠。残留的混合波长转换层pa可设置在设置于第二阻光区ba2中的分隔壁ptl的表面(例如，基于图14的下表面)上。
197.结合图9参考图14，在形成属于第二子像素pxs2的第一波长转换图案wcl1和属于第三子像素pxs3的第二波长转换图案wcl2的工艺中，由于油墨的误注入或溢出，可形成残留的混合波长转换层pa。例如，在形成在第二子像素pxs2和第三子像素pxs3上方的混合波长转换材料层中，通过由分隔壁ptl分隔的空间，由于油墨的溢出，可形成残留的混合波长转换层pa，因为混合波长转换材料层在去除图9中所示的缺陷性波长转换图案wcl1_d的工艺中保留而不被去除。
198.残留的混合波长转换层pa可包括(例如，为)包括在第一波长转换图案wcl1中的材料和包括在第二波长转换图案wcl2中的材料。例如，残留的混合波长转换层pa可包括(例如，为)第一波长转换材料wcp1和第二波长转换材料wcp2。残留的混合波长转换层pa可进一步包括(例如，为)第二散射体scp2和/或第三散射体scp3。
199.第二封盖层330可覆盖光透射图案tpl、修复图案wcl1’、第二波长转换图案wcl2、分隔壁ptl和残留的混合波长转换层pa。
200.图15为图示根据实施方式的已经历修复工艺的显示装置的另一示例的截面视图。
201.在如图15中所示的已经历修复工艺的显示装置中，图示了修复图案的表面的水平可不同于波长转换图案和/或光透射图案的表面的水平。表面可为颜色控制层的面向显示基板的表面，例如，图15中的颜色控制层的下表面。
202.例如，设置在已经历修复工艺的第二子像素pxs2的第二透光区ta2中的修复图案wcl1’_1的表面的水平h2可不同于邻近的光透射图案tpl的表面的水平h1和/或第二波长转
换图案wcl2的表面的水平h3。此外，修复图案wcl1’_1的表面的水平h2可不同于未经历修复工艺的第一波长转换图案wcl1(参见图5)的表面的水平。在本说明书中，表面的水平可定义为从第二基板310的面向第一基板110的表面到颜色控制层tpl、wcl1’_1和wcl2的下表面的距离。例如，水平h1、h2和h3可分别为从第二基板310的表面(例如，如图15中所示的下表面)到光透射图案tpl的表面(例如，如图15中所示的下表面)、修复图案wcl1’_1的表面(例如，如图15中所示的下表面)和第二波长转换图案wcl2的表面(例如，如图15中所示的下表面)的距离。
203.结合图10和图11参考图15，在本实施方式中，可通过以不同于在形成修复材料层wcl1_r的工艺中设定或预设的油墨量的量将油墨注入到由分隔壁ptl分隔的空间中来形成修复图案wcl1’_1(其表面具有不同的水平(例如，其表面具有可被控制的水平))。例如，在通过将包括第一波长转换材料wcp1的油墨i注入到对应于图10中所示的第二透光区ta2的槽op中来形成修复材料层wcl1_r的工艺中，可通过不同地设定油墨i的注入量(例如，通过控制注入量)来形成修复图案wcl1’_1(其表面具有不同的水平)。例如，可通过控制注入到槽op中的油墨的量来控制修复图案wcl1’_1的水平。尽管在附图中示出了修复图案wcl1’_1的表面的水平h2小于光透射图案tpl的表面的水平h1和/或第二波长转换图案wcl2的表面的水平h3，但是本公开不限于此。例如，修复图案wcl1’_1的表面的水平h2可大于光透射图案tpl的表面的水平h1和/或第二波长转换图案wcl2的表面的水平h3。
204.图16为图示根据实施方式的已经历修复工艺的显示装置的另一示例的截面视图。
205.在如图16中所示的已经历修复工艺的显示装置中，图示了残留的混合波长转换层可设置在第二透光区中的修复图案和第二滤色器之间。
206.例如，残留的混合波长转换层pa_1可设置在已经历修复工艺的第二子像素pxs2的第二透光区ta2中。残留的混合波长转换层pa_1可设置在设置于已经历修复工艺的第二透光区ta2中的第二滤色器cf2和修复图案wcl1’_2之间。残留的混合波长转换层pa_1可设置在设置于第二子像素pxs2中的第二滤色器cf2的一个表面上，并且可向外延伸以设置在设置于第一阻光区ba1和第二阻光区ba2中的分隔壁ptl的侧表面的一部分上。尽管在图16中示出了残留的混合波长转换层pa_1被一体地形成，但是本公开不限于此。例如，残留的混合波长转换层pa_1可包括彼此没有物理连接的两个或更多个部分。
207.结合图9参考图16，残留的混合波长转换层pa_1可通过在去除缺陷性波长转换图案wcl1_d的工艺中保留而不完全去除缺陷性波长转换图案wcl1_d而形成。例如，可仅去除缺陷性波长转换图案wcl1_d的一部分，使得缺陷性波长转换图案wcl1_d的一部分保留在第二透光区ta2中。设置在与由分隔壁ptl分隔的第二透光区ta2重叠的空间中的残留的混合波长转换层pa_1的体积可小于修复图案wcl1’_2的体积。在示例实施方式中，其中残留的混合波长转换层pa_1设置在第二透光区ta2中的体积与由第二透光区ta2中的分隔壁ptl分隔的空间的体积的比率可为约10％或更小。
208.图17为图示根据实施方式的已经历修复工艺的显示装置的另一示例的截面视图。
209.在如图17中所示的已经历修复工艺的显示装置中，图示了在设置在包括在第二子像素中的第二基板上的滤色器层中可能发生抬升(lift
‑
up)现象。
210.例如，在选自设置在已经历修复工艺的第二子像素pxs2中的滤色器cf1和cf2中的至少一个中发生抬升现象，并且因此可在第二基板310与选自设置在第二子像素pxs2中的
滤色器cf1和cf2中的至少一个之间形成抬升空间de。
211.结合图9参考图17，抬升空间de可通过将在去除缺陷性波长转换图案wcl1_d的工艺中从激光束l1产生的能量向上转移到第二基板310以及设置在第二子像素pxs2中的第一滤色器cf1和第二滤色器cf2而形成。
212.抬升空间de可为在彼此间隔开的第二基板310和滤色器层cfl之间形成的精细空间。例如，抬升空间de可为在第二基板310与选自设置在第二子像素pxs2中的第一滤色器cf1和第二滤色器cf2中的至少一个之间的空间。在一些实施方式中，抬升空间de可为包括空白空间(例如，真空)或气体的体积，但是本公开不限于此。抬升空间de可形成在第二基板310和设置成与第二子像素pxs2的第二透光区ta2重叠的第二滤色器cf2之间。抬升空间de也可形成在第二基板310和设置成与第一阻光区ba1和/或第二阻光区ba2重叠的第一滤色器cf1(例如，第一滤色器cf1的一部分)之间。
213.图18为图示根据实施方式的已经历修复工艺的显示装置的另一示例的截面视图。
214.在如图18中所示的已经历修复工艺的显示装置中，图示了修复图案的粘度可不同于第一波长转换图案的粘度。
215.例如，设置在已经历修复工艺的第二子像素pxs2的第二透光区ta2中的修复图案wcl1’_3中包括的第二基础树脂brs2_1的粘度可不同于设置在正常像素中的第一波长转换图案wcl1中包括的第二基础树脂brs2(参见图5)的粘度。修复图案wcl1’_3可包括第二基础树脂brs2_1，以及分散在第二基础树脂brs2_1中的第一波长转换材料wcp1和第二散射体scp2。在该实施方式中，包括在修复图案wcl1’_3中的第二基础树脂brs2_1可与图5中所示的第二基础树脂brs2包括(例如，为)相同的材料，但是仅粘度可不同。
216.结合图5和图10参考图18，可通过由于形成属于第二子像素pxs2的第一波长转换图案wcl1和属于第三子像素pxs3的第二波长转换图案wcl2的工艺与其修复工艺之间的时间差而导致的油墨i的粘度变化来形成修复图案wcl1’_3，该修复图案wcl1’_3包括第二基础树脂brs2_1，该第二基础树脂brs2_1与包括在图5中所示的第一波长转换图案wcl1中的第二基础树脂brs2具有不同的粘度。
217.图19至图21为图示根据实施方式的修复显示装置的工艺的另一示例的截面视图。
218.参考图19，其中混合第一波长转换材料wcp1和第二波长转换材料wcp2的波长转换层可设置在第二子像素pxs2和第三子像素pxs3中。例如，可通过第二透光区ta2、第二阻光区ba2和第三透光区ta3形成其中已发生缺陷的波长转换层wcl3_d(在下文中，缺陷性波长转换层wcl3_d或混合波长转换层wcl3_d)。可通过在与设置在第二透光区ta2和第三透光区ta3之间的第二阻光区ba2重叠的区中的分隔壁ptl的缺失来形成图19中所示的缺陷性波长转换层wcl3_d。
219.例如，缺陷性波长转换层wcl3_d可包括其中混合第二基础树脂brs2和第三基础树脂brs3的第四基础树脂brs2’，以及分散在第四基础树脂brs2’中的第二散射体scp2、第一波长转换材料wcp1和第二波长转换材料wcp2。在一些实施方式中，缺陷性波长转换层wcl3_d还可包括图5的第三子像素pxs3的第二波长转换图案wcl2中所示的第三散射体scp3。例如，缺陷性波长转换图案wcl3_d(其为通过将设置在第二子像素pxs2中的第一波长转换图案wcl1中包括的材料与设置在第三子像素pxs3中的第二波长转换图案wcl2中包括的材料混合而形成的波长转换层)可为导致显示装置1中的黑点的缺陷性波长转换层。
220.在下文中，将描述图19中所示的修复包括颜色转换基板的显示装置的方法。在以下实施方式中，可简化或者可不重复与已经参照图9至图12描述的工艺相同的工艺的描述，并且将主要描述配置中的差异。
221.首先，参考图19，从包括在第二子像素和第三子像素(或缺陷性像素)中的缺陷性波长转换层(或混合波长转换层)去除与第二透光区重叠的区。
222.例如，第一掩模mk1在激光器单元710和颜色转换基板30之间对准，并且然后可施加激光束l1。可设置第一掩模mk1使得其透射部分与对应于第二透光区ta2的区对准。第一掩模mk1的透射部分可用激光束l1辐射，以去除缺陷性波长转换层wcl3_d的与第二透光区ta2重叠的部分。
223.可去除缺陷性波长转换层wcl3_d的与第二透光区ta2重叠的部分，以形成第二透光区ta2中的槽op。缺陷性波长转换层wcl3_d的不与第二透光区ta2重叠的部分可保留在第二基板310上。如图20中所示，通过去除缺陷性波长转换层wcl3_d的一部分而保留的混合波长转换图案wcl3’可设置在第三透光区ta3和第二阻光区ba2上方。
224.随后，参考图20，在由去除缺陷性波长转换层wcl3_d的一部分形成的槽op中形成修复材料层。例如，槽op可由第一阻光区ba1中的分隔壁ptl和混合波长转换图案wcl3’的侧壁分隔或限定。
225.例如，可通过喷墨方法在由去除缺陷性波长转换层wcl3_d的一部分形成的槽op中形成修复材料层wcl1_r。喷墨喷嘴720将油墨i注入到其中设置在第一阻光区ba1中的分隔壁ptl和混合波长转换图案wcl3’被分隔的空间中。相应地，修复材料层wcl1_r可填充其中设置在第一阻光区ba1中的分隔壁ptl和混合波长转换图案wcl3’被分隔的空间。
226.随后，参考图21，可固化修复材料层wcl1_r以形成修复图案wcl1’。修复材料层wcl1_r可接触混合波长转换图案wcl3’。可固化修复材料层wcl1_r以形成具有将在后面更详细地描述的如图22中所示的结构的修复图案wcl1’。修复图案wcl1’可接触属于邻近的第三子像素pxs3的混合波长转换图案wcl3’。
227.图22为图示根据实施方式的已经历修复工艺的显示装置的另一示例的截面视图。
228.在如图22中所示的已经历修复工艺的显示装置中，图示了分隔壁没有设置在第二阻光区中，并且属于第二子像素和第三子像素的颜色控制层可彼此接触。
229.例如，设置在已经历修复工艺的第二子像素pxs2的第二透光区ta2中的修复图案wcl1’可接触设置在邻近的第三子像素pxs3的第三透光区ta3中的混合波长转换图案wcl3’。在一些实施方式中，混合波长转换图案wcl3’也可设置在第二阻光区ba2中，并且修复图案wcl1’可在第二透光区ta2和第二阻光区ba2之间的边界处接触混合波长转换图案wcl3’。分隔壁ptl可不设置在第二阻光区ba2中。相应地，混合波长转换图案wcl3’可设置成与第三透光区ta3和第二阻光区ba2重叠。
230.结合图19参考图22，可通过在去除与第二透光区ta2重叠的混合波长转换层wcl3_d的工艺中保留而不去除设置在对应于第三透光区ta3和第二阻光区ba2的区中的缺陷性波长转换层wcl3_d而形成混合波长转换图案wcl3’。
231.设置在第三子像素pxs3中的混合波长转换图案wcl3’可包括(例如，为)包括在第一波长转换图案wcl1中的材料和包括在第二波长转换图案wcl2中的材料。例如，混合波长转换图案wcl3’可包括(例如，为)第一波长转换材料wcp1和第二波长转换材料wcp2。
232.在一些实施方式中，也可去除设置在与第三透光区ta3重叠的区中的缺陷性波长转换层wcl3_d。在该情况下，上述修复工艺也可在第三子像素pxs3中进行，从而在第三透光区ta3中形成包括(例如，为)第二波长转换材料wcp2的修复图案。在该情况下，可在第二透光区ta2中形成包括第一波长转换材料wcp1的修复图案，并且可在第三透光区ta3中形成包括第二波长转换材料wcp2的修复图案。此外，混合波长转换图案可保持并且设置在设置于第二透光区ta2中的修复图案与设置在第三透光区ta3中的修复图案之间。例如，包括第一波长转换材料wcp1和第二波长转换材料wcp2的残留的混合波长转换图案可以类似于分隔壁ptl的形状设置在第二阻光区ba2中。
233.在总结详细描述时，本领域普通技术人员将理解，在基本上不背离本公开的原理的情况下，可对所公开的实施方式做出许多合适的变化和修改。因此，本公开的公开的实施方式仅在一般和描述性的意义上使用，而不是出于限制的目的。