技术特征：
1.一种腔体设备，其特征在于，包括：电压产生装置，用于产生射频电压；腔体，内部用于放置待加工基片；上盖，封闭所述腔体，包括气箱，所述气箱导电，且内部用于通入源气体；导电基座，设置于所述气箱顶部，包括至少一个电容器结构以及至少一个导电条，所述电容器结构包括相互绝缘的外导电部以及内导电部，所述外导电部内部中空，所述内导电部位于所述外导电部的中空内部，所述至少一个导电条通过所述电容器结构连接形成闭合导电环结构，所述闭合导电环结构与所述气箱的外表面接触；导电连接部，连接所述电压产生装置与所述闭合导电环结构。2.根据权利要求1所述的腔体设备，其特征在于，各个所述导电条通过所述外导电部连接形成闭合导电环结构。3.根据权利要求2所述的腔体设备，其特征在于，所述导电基座包括多个电容器结构以及多个导电条，所述导电连接部与各个所述外导电部均连接。4.根据权利要求1所述的腔体设备，其特征在于，各个所述导电条通过所述内导电部连接形成闭合导电环结构。5.根据权利要求4所述的腔体设备，其特征在于，所述导电基座包括多个电容器结构以及多个导电条，所述导电连接部与各个所述内导电部均连接。6.根据权利要求1所述的腔体设备，其特征在于，所述导电连接部连接所述导电条。7.根据权利要求6所述的腔体设备，其特征在于，所述导电基座包括多个电容器结构以及多个导电条，所述导电连接部与各所述导电条均连接。8.根据权利要求6所述的腔体设备，其特征在于，所述腔体设备还包括：第一连接件，将导电条固定于所述气箱顶部，且与所述气箱表面接触。9.根据权利要求8所述的腔体设备，其特征在于，所述第一连接件将导电条固定于所述气箱顶部的同时，还将所述导电连接部与所述导电条连接。10.根据权利要求1所述的腔体设备，其特征在于，所述导电连接部与所述导电条为一体结构。11.根据权利要求1所述的腔体设备，其特征在于，所述腔体设备还包括：第二连接件，将所述内导电部固定于所述气箱顶部。12.根据权利要求1所述的腔体设备，其特征在于，所述腔体设备还包括：绝缘外壳，用于包覆所述导电基座。13.根据权利要求1所述的腔体设备，其特征在于，所述上盖还包括喷头，所述喷头与所述气箱连通，用于向所述腔体内喷射等离子体。14.根据权利要求1所述的腔体设备，其特征在于，所述腔体设备还包括：基座，位于所述腔体内，用于放置所述待加工基片。15.根据权利要求14所述的腔体设备，其特征在于，所述基座包括加热器。
技术总结
本申请涉及一种腔体设备，包括：电压产生装置，用于产生射频电压；腔体，内部用于放置待加工基片；上盖，封闭腔体，包括气箱，气箱导电，且内部用于通入源气体；导电基座，设置于气箱顶部，包括至少一个电容器结构以及至少一个导电条，电容器结构包括相互绝缘的外导电部以及内导电部，外导电部内部中空，内导电部位于外导电部的中空内部，至少一个导电条通过电容器结构连接形成闭合导电环结构，闭合导电环结构与气箱的外表面接触；导电连接部，连接电压产生装置与闭合导电环结构。本申请可以有效提高腔体设备内的成膜质量。腔体设备内的成膜质量。腔体设备内的成膜质量。
技术研发人员：杨光
受保护的技术使用者：长鑫存储技术有限公司
技术研发日：2021.11.08
技术公布日：2022/1/11