一种基材离子轰击装置的制作方法

1.本实用新型涉及离子轰击技术领域，尤其涉及一种基材离子轰击装置。


背景技术：

2.离子轰击技术主要应用于等离子渗氮工艺中，离子渗氮是利用低真空中气体辉光放电产生的离子轰击工件表面，使得金属表面成分、组织结构及性能发生变化的工艺过程；完整的离子轰击工艺包括有加热、离子清洁及活化表面等步骤，由于其工艺步骤繁琐，因此离子轰击装置需要的装置较多且操作难度高，占地面积高，对体积较小的工作进行加工时，需要花费大量的物资及时间。


技术实现要素：

3.为了克服现有技术方案的不足,本实用新型提供一种基材离子轰击装置，能够解决背景技术提出的问题。
4.本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种基材离子轰击装置，包括一结构主体，所述结构主体包括反应炉、高压电闸及真空泵，所述高压电闸及真空泵均设于所述反应炉的侧面，所述反应炉的前端面设有控制面板；
5.所述反应炉内部设有反应室，所述反应室设有贯穿所述反应炉侧壁的第一进料口及第二进料口，所述真空泵与所述反应室接通；
6.所述反应室的底部设有旋转底座，所述旋转底座的下部设有第一电线，所述第一电线从所述反应炉的下部穿出，所述反应室的内壁设有通电层，所述通电层设有第二电线，所述第二电线从所述反应炉的侧面穿出，所述第一电线及第二电线均穿过所述高压电闸与外界电源连接；
7.所述反应炉的上端设有与所述反应室接通的开口，所述开口设有可开合的盖板。
8.进一步的，所述第一进料口及第二进料口处均设有电磁阀且连接处设有密封件；
9.进一步的，所述反应室内部设有真空检测装置及压力检测装置，所述真空检测装置及压力检测装置均通过数据总线与所述控制面板连接；
10.进一步的，所述盖板的边缘部设有密封圈，所述盖板上设有多个等距分布的排气孔；
11.进一步的，所述反应室的底部设有驱动电机，所述驱动电机与所述旋转底座驱动连接；
12.进一步的，所述高压电闸内置有安全断路器。
13.与现有技术相比，本实用新型的一种基材离子轰击装置有着以下有益效果：将离子轰击工艺所需的各个装置集成到同一台装置中，能够减小离子轰击工艺所需的物料及时间以应用于较小的工件；同时能够保证离子轰击工艺所需的各个步骤，确保工艺的顺利完成。
附图说明
14.图1为本实用新型整体结构示意图；
15.图2为本实用新型内部结构示意图。
16.图中标号：1
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反应炉；2
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高压电闸；3
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真空泵；4
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控制面板；5
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反应室；6
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第一进料口；7
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第二进料口；8
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旋转底座；9
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第一电线；10
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通电层；11
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第二电线；12
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盖板；13
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电磁阀；14
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密封件；15
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真空检测装置；16
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压力检测装置；17
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密封圈；18
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排气孔；19
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驱动电机。
具体实施方式
17.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
18.下面结合图1
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2对本实用新型的一种基材离子轰击装置作详细的描述：一种基材离子轰击装置，包括一结构主体，所述结构主体包括反应炉1、高压电闸2及真空泵3，所述高压电闸2及真空泵3均设于所述反应炉1的侧面，所述反应炉1的前端面设有控制面板4；
19.所述反应炉1内部设有反应室5，所述反应室5设有贯穿所述反应炉1侧壁的第一进料口6及第二进料口7，所述真空泵3与所述反应室5接通；
20.所述反应室5的底部设有旋转底座8，所述旋转底座8的下部设有第一电线9，所述第一电线9从所述反应炉1的下部穿出，所述反应室5的内壁设有通电层10，所述通电层10设有第二电线11，所述第二电线11从所述反应炉1的侧面穿出，所述第一电线9及第二电线11均穿过所述高压电闸2与外界电源连接；
21.所述反应炉1的上端设有与所述反应室5接通的开口，所述开口设有可开合的盖板12。
22.所述第一进料口6及第二进料口7处均设有电磁阀13且连接处设有密封件14；所述反应室5内部设有真空检测装置15及压力检测装置16，所述真空检测装置15及压力检测装置16均通过数据总线与所述控制面板4连接；所述盖板12的边缘部设有密封圈17，所述盖板12上设有多个等距分布的排气孔18；所述反应室5的底部设有驱动电机19，所述驱动电机19与所述旋转底座8驱动连接；所述高压电闸2内置有安全断路器。
23.工作原理：打开盖板12，并将待加工件放置在反应室5内的旋转底座8上，开启真空泵3对反应室5进行抽真空，完成抽真空的步骤后，通过第一进料口6加入氮气以及通过第二进料口7加入催渗剂，随后打开高压电闸2反应炉1与外界电路连接形成通路，旋转底座8与外界电源的负极连接成为反应中的阴极，反应室5内壁的通电层10则通过第二电线11与外界电源的正极连接成为阳极，由于通电形成通路，发生电化学反应，离子在反应室5内游离，与旋转的工件的表面发生碰撞，借助离子轰击将工件表面的油脂等脏污物质轰击出工件表面；催渗剂会分解出氢，在直流电场中电离成正离子，并轰击工件表面夺取工件表面氧化膜中的氧，达到活化工件表面的作用；离子轰击后会形成通道，帮助氮进入工件内形成氮层起到改善工件表面性质的作用；工序完成后，通过高压电闸2关闭装置。
24.在抽真空的过程中，真空检测装置15能够实时反馈反应室5内的真空情况，当达到离子轰击工艺的真空要求后才停止并通入氮气；充入氮气的过程中，反应室5内的压力会增
加，压力检测装置16能够反馈反应室5内的压力，以至满足工艺开始的前提；整个过程中，能够通过控制面板4观察到反应室5内的真空度及压力。
25.综上所述，本实用新型的一种基材离子轰击装置有着以下有益效果：将离子轰击工艺所需的各个装置集成到同一台装置中，能够减小离子轰击工艺所需的物料及时间以应用于较小的工件；同时能够保证离子轰击工艺所需的各个步骤，确保工艺的顺利完成。
26.对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。


技术特征：
1.一种基材离子轰击装置，其特征在于，包括一结构主体，所述结构主体包括反应炉、高压电闸及真空泵，所述高压电闸及真空泵均设于所述反应炉的侧面，所述反应炉的前端面设有控制面板；所述反应炉内部设有反应室，所述反应室设有贯穿所述反应炉侧壁的第一进料口及第二进料口，所述真空泵与所述反应室接通；所述反应室的底部设有旋转底座，所述旋转底座的下部设有第一电线，所述第一电线从所述反应炉的下部穿出，所述反应室的内壁设有通电层，所述通电层设有第二电线，所述第二电线从所述反应炉的侧面穿出，所述第一电线及第二电线均穿过所述高压电闸与外界电源连接；所述反应炉的上端设有与所述反应室接通的开口，所述开口设有可开合的盖板。2.根据权利要求1所述的一种基材离子轰击装置，其特征在于：所述第一进料口及第二进料口处均设有电磁阀且连接处设有密封件。3.根据权利要求1所述的一种基材离子轰击装置，其特征在于：所述反应室内部设有真空检测装置及压力检测装置，所述真空检测装置及压力检测装置均通过数据总线与所述控制面板连接。4.根据权利要求1所述的一种基材离子轰击装置，其特征在于：所述盖板的边缘部设有密封圈，所述盖板上设有多个等距分布的排气孔。5.根据权利要求1所述的一种基材离子轰击装置，其特征在于：所述反应室的底部设有驱动电机，所述驱动电机与所述旋转底座驱动连接。6.根据权利要求1所述的一种基材离子轰击装置，其特征在于：所述高压电闸内置有安全断路器。

技术总结
本实用新型公开一种基材离子轰击装置，包括一结构主体，所述结构主体包括反应炉、高压电闸及真空泵，所述高压电闸及真空泵均设于所述反应炉的侧面，所述反应炉的前端面设有控制面板；所述反应炉内部设有反应室，所述反应室设有贯穿所述反应炉侧壁的第一进料口及第二进料口，所述真空泵与所述反应室接通；将离子轰击工艺所需的各个装置集成到同一台装置中，能够减小离子轰击工艺所需的物料及时间以应用于较小的工件；同时能够保证离子轰击工艺所需的各个步骤，确保工艺的顺利完成。确保工艺的顺利完成。确保工艺的顺利完成。


技术研发人员：游耀华 游瑾富
受保护的技术使用者：深圳中为思创科技有限公司
技术研发日：2021.05.07
技术公布日：2021/11/5