技术特征：
1.一种防止扬尘的等离子体刻蚀设备，包括刻蚀组件(1)，其特征在于：所述刻蚀组件(1)包括操作箱(11)，所述操作箱(11)的内腔底部固定设置有支撑平台(13)，所述操作箱(11)的顶部中间开设有进风口(2)，所述操作箱(11)的下部左右两侧均固定设置有出风管(5)，所述出风管(5)的内部卡接有防扬尘组件(6)，所述防扬尘组件(6)包括管内衬筒(61)，所述管内衬筒(61)的底部固定连接有卡边(62)，所述卡边(62)卡接在出风管(5)的底部，所述管内衬筒(61)的顶部侧面一圈固定连接有若干个伸缩弹簧(64)，若干个所述伸缩弹簧(64)远离管内衬筒(61)的一端均固定连接有梯形限位块(65)，所述管内衬筒(61)的内壁之间均匀固定连接有若干个防扬尘罩机构(66)，所述防扬尘罩机构(66)包括光滑顶面(661)，所述光滑顶面(661)的中间开设有透风口(662)，所述光滑顶面(661)的底部固定连接有粗糙底面(663)，所述粗糙底面(663)的下表面均匀开设有若干个微粒遮挡口(664)。2.根据权利要求1所述的一种防止扬尘的等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述操作箱(11)的内壁下部固定设置有防沾附层(12)，所述支撑平台(13)的顶部左右两侧对称固定连接有限位夹(14)。3.根据权利要求2所述的一种防止扬尘的等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述支撑平台(13)的顶部且位于两个限位夹(14)之间固定放置有待刻蚀基板(15)。4.根据权利要求1所述的一种防止扬尘的等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述操作箱(11)的内腔侧壁之间固定设置有匀风板(3)，且匀风板(3)位于操作箱(11)内腔的上部。5.根据权利要求4所述的一种防止扬尘的等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述操作箱(11)的内腔侧壁且位于匀风板(3)的上方均匀固定设置有若干个导流板(4)。6.根据权利要求1所述的一种防止扬尘的等离子体刻蚀设备，其特征在于：所述卡边(62)靠近出风管(5)外壁的一面通过磁性吸附条(63)与出风管(5)吸附。
技术总结
本实用新型公开了一种防止扬尘的等离子体刻蚀设备，包括刻蚀组件，所述刻蚀组件包括操作箱，所述操作箱的内腔底部固定设置有支撑平台，所述操作箱的顶部中间开设有进风口，所述操作箱的下部左右两侧均固定设置有出风管，本实用新型涉及等离子体刻蚀设备技术领域。该防止扬尘的等离子体刻蚀设备，通过管内衬筒、光滑顶面、粗糙底面以及微粒遮挡口的相互配合，经过出风管内的微粒部分会顺着光滑顶面滑落到外壁，部分会沉积在微粒遮挡口的内部，当强大的气流经过出风管时，避免出现扬尘，使待刻蚀基板的表面保持洁净，保证了刻蚀的效果，通过伸缩弹簧、梯形限位块以及卡边的设置，便于定时对管内衬筒进行更换清洁。于定时对管内衬筒进行更换清洁。于定时对管内衬筒进行更换清洁。
技术研发人员：黄英杰
受保护的技术使用者：合肥方本等离子体科技有限公司
技术研发日：2021.11.12
技术公布日：2022/3/15