技术特征：
1.一种聚焦离子束装置，其具备：差动排气装置，其具备与被处理基板的被处理面的任意区域对置的头部，在所述头部中的与所述被处理面对置的对置面上以围绕所述头部的中心的方式形成有排气槽，在所述头部中的所述排气槽的内侧的区域设置有开口部，该开口部形成能够对所述被处理面进行处理的处理用空间，所述差动排气装置在使所述对置面与所述被处理面对置的状态下，利用来自所述排气槽的吸气作用，将所述处理用空间设为高真空；以及聚焦离子束柱状体，其配置在所述头部中的与所述对置面相反的一侧，具备与所述开口部连结而能够与所述处理用空间连通的镜筒，在所述镜筒内内置有聚焦离子束光学系统来将离子束以穿过所述开口部内的方式射出，所述聚焦离子束的装置的特征在于，还具备：真空垫，其位于所述被处理基板的面方向的外侧，将以环绕该被处理基板的方式围绕的吸入面露出，且由多孔质材料构成；基板支承台，其载置所述被处理基板和所述真空垫；以及真空泵，其对所述真空垫进行真空吸引，当所述头部的一部分向比所述被处理基板的周缘部靠面方向的外侧移动时，所述吸入面对该吸入面与所述头部之间的空间的空气进行吸引来维持所述处理用空间的压力。2.根据权利要求1所述的聚焦离子束装置，其中，所述真空垫仅形成在围绕所述被处理基板的区域，所述真空垫中的上表面及与所述被处理基板的外周面对置的面构成所述吸入面。3.根据权利要求2所述的聚焦离子束装置，其中，当所述头部的一部分向所述被处理基板的面方向的外侧移动时，所述上表面与所述头部的对置面对置。4.根据权利要求1所述的聚焦离子束装置，其中，所述真空垫形成为轮廓比所述被处理基板大的矩形板状，配置于所述基板支承台的上表面，在所述真空垫上配置有所述被处理基板和支撑垫，该支撑垫隔开规定的宽度尺寸的间隙而围绕所述被处理基板的面方向的外侧。5.根据权利要求4所述的聚焦离子束装置，其中，所述支撑垫由多孔质材料构成。
技术总结
提供一种聚焦离子束装置，其具备差动排气装置和聚焦离子束柱状体，还具备：真空垫，其使吸入面露出以围绕被处理基板的面方向的外侧，且由多孔质材料构成；基板支承台，其载置所述被处理基板和所述真空垫；以及真空泵，其对所述真空垫进行真空吸引，当所述差动排气装置的头部向所述被处理基板的面方向的外侧移动时，所述吸入面进行该吸入面与所述头部之间的空间的吸气，所述聚焦离子束装置无需大的真空腔室，对被处理基板的周缘附近也能进行处理，能够增大被处理基板中的处理区域。够增大被处理基板中的处理区域。够增大被处理基板中的处理区域。
技术研发人员：水村通伸
受保护的技术使用者：株式会社V技术
技术研发日：2021.06.29
技术公布日：2023/2/3