技术特征：
1.一种新型真空灭弧室触头结构，包括触头杯(4)、触头盘(1)，所述触头杯(4)的杯壁上开设有若干斜槽，触头盘(1)固定安装在触头杯(4)杯壁上方，触头杯(4)内设有凸台，所述凸台与触头盘(1)之间设有间隙；其特征在于：所述触头杯(4)内设有支撑部(5)，所述支撑部(5)一端连接至所述触头杯(4)的腔体底部，另一端连接至触头盘(1)的内表面；所支撑部(5)靠近触头盘(1)一端为变形段(2)，可压缩变形，远离触头盘(1)一端为绝缘段(3)。2.根据权利要求1所述的新型真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述支撑部(5)的变形段(2)采用无氧铜制成。3.根据权利要求1所述的新型真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述支撑部(5)的绝缘段(3)采用金属化陶瓷制成。4.根据权利要求3所述的新型真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述支撑部(5)的变形段(2)与绝缘段(3)焊接固定。5.根据权利要求1所述的新型真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述触头杯(4)与触头盘(1)、支撑部(5)与触头杯(4)、支撑部(5)与触头盘(1)采用焊接连接。6.根据权利要求1所述的新型真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述凸台与触头盘(1)之间的间隙小于等于0.6mm。7.根据权利要求6所述的新型真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述凸台与触头盘(1)之间的间隙为0.4mm。8.根据权利要求1所述的新型真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述凸台呈锥台形。9.根据权利要求6所述的新型真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述支撑部(5)呈环形，环绕在凸台外周，所述支撑部(5)的内壁与凸台侧壁间留有间隙。10.根据权利要求1所述的新型真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述斜槽与水平面的倾斜角度为5-12度。
技术总结
本实用新型公开一种新型真空灭弧室触头结构，包括触头杯、触头盘，所述触头杯的杯壁上开设有若干斜槽，触头盘固定安装在触头杯杯壁上方，触头杯内设有凸台，所述凸台与触头盘之间设有间隙；所述触头杯内设有支撑部，所述支撑部一端连接至所述触头杯的腔体底部，另一端连接至触头盘的内表面；所支撑部靠近触头盘一端为变形段，可压缩变形，远离触头盘一端为绝缘段。本实用新型的触头结构，增大触头盘开断过程中所需要克服的熔焊力，有效解决了触头盘因为熔焊力拉变形乃至拉断的问题；同时可在合闸过程中保证最小通流路径，降低电阻满足灭弧室温升要求。室温升要求。室温升要求。
技术研发人员：罗海洋 马元杰 田志强 陈军平
受保护的技术使用者：成都旭光电子股份有限公司
技术研发日：2022.11.23
技术公布日：2023/2/28