线圈装置的制作方法

文档序号:36475477发布日期:2023-12-22 05:19阅读:94来源:国知局
线圈装置的制作方法

本公开涉及线圈装置。本申请主张基于2022年1月5日申请的日本专利申请即特愿2022-508号的优先权、以及基于2022年2月14日申请的日本专利申请即特愿2022-020719号的优先权。该日本专利申请所记载的全部记载内容通过参照引用在本说明书中。


背景技术:

1、例如在日本特开2016-9854号公报(专利文献1)中记载了一种线圈装置。专利文献1所记载的线圈装置具有基膜、第一导电图案、第二导电图案、镀层、第一接合层、第一覆盖膜、第二接合层及第二覆盖膜。

2、基膜具有第一主面和作为第一主面的相对面的第二主面。在基膜上形成有在厚度方向上贯通基膜的贯通孔。第一导电图案在第一主面上卷绕成漩涡状。第二导电图案在第二主面上卷绕成漩涡状。第一导电图案及第二导电图案通过形成于贯通孔的内壁面上的镀层而电连接。

3、第一接合层以覆盖第一导电图案的方式配置于第一主面上。第一覆盖膜配置于第一接合层上。第二接合层以覆盖第二导电图案的方式配置于第二主面上。第二覆盖膜配置于第二接合层上。

4、在先技术文献

5、专利文献

6、专利文献1:日本特开2016-9854号公报


技术实现思路

1、本公开的线圈装置具备:基膜,具有第一主面及第二主面;第一线圈布线,配置于第一主面上,且具有卷绕成漩涡状的部分;第二线圈布线,配置于第二主面上,且具有卷绕成漩涡状的部分;第一保护层,以覆盖第一线圈布线的方式配置于第一主面上;第二保护层,以覆盖第二线圈布线的方式配置于第二主面上;以及导电部。在基膜上形成有沿厚度方向贯通基膜的贯通孔。导电部通过埋入贯通孔内、并且与第一线圈布线和第二线圈布线连接,从而将第一线圈布线与第二线圈布线电连接。若将第一线圈布线、第二线圈布线及导电部的质量的合计设为a,将基膜、第一线圈布线、第二线圈布线、第一保护层、第二保护层及导电部的体积的合计设为b,则a/b的值为2.0g/cm3以上。



技术特征:

1.一种线圈装置,具备:

2.根据权利要求1所述的线圈装置,其中,所述线圈装置进一步具备:

3.根据权利要求1或2所述的线圈装置,其中,

4.根据权利要求1至3中任一项所述的线圈装置,其中,

5.根据权利要求4所述的线圈装置,其中,

6.根据权利要求5所述的线圈装置,其中,

7.根据权利要求4至6中任一项所述的线圈装置,其中,

8.根据权利要求1至7中任一项所述的线圈装置,其中,

9.根据权利要求1至8中任一项所述的线圈装置,其中,

10.根据权利要求1至9中任一项所述的线圈装置,其中,

11.一种线圈装置,具备:


技术总结
一种线圈装置,具备:基膜,具有第一主面及第二主面;第一线圈布线,配置于第一主面上,且具有卷绕成漩涡状的部分;第二线圈布线,配置于第二主面上,且具有卷绕成漩涡状的部分;第一保护层,以覆盖第一线圈布线的方式配置于第一主面上;第二保护层,以覆盖第二线圈布线的方式配置于第二主面上;以及导电部。在基膜上形成有沿厚度方向贯通基膜的贯通孔。导电部通过埋入贯通孔内、并且将第一线圈布线与第二线圈布线连接,从而将第一线圈布线与第二线圈布线电连接。

技术研发人员:池邉茉纪,新田耕司,冈良雄,酒井将一郎,尾形道
受保护的技术使用者:住友电气工业株式会社
技术研发日:
技术公布日:2024/1/15
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