一种传输路径生成方法和半导体工艺设备与流程

本发明涉及半导体，特别是涉及一种传输路径生成方法和半导体工艺设备。

背景技术：

1、目前，有一种半导体工艺设备的工艺特点为，物料经过酸槽工艺腔室的工艺处理后，必须进行水槽工艺腔室的工艺处理。其中，若正在加工物料的酸槽工艺腔室出现严重的异常时，则需要将该酸槽工艺腔室正在执行的工艺步骤终止，并且需要人工确认物料所在的位置，并将物料从当前所在的位置人为地手动传输至水槽工艺腔室的位置。

2、由此，目前的技术方案，在半导体工艺设备中的某个工艺腔室出现工艺错误时，需要人工处理，影响加工效率。

技术实现思路

1、本发明实施例所要解决的技术问题是加工效率低。

2、为了解决上述问题，本发明实施例公开了一种传输路径生成方法，所述方法包括：

3、获取每个工艺腔室的腔室状态，工艺腔室包括多组酸槽工艺腔室和水槽工艺腔室，物料在经过酸槽工艺腔室的加工后需转移至同组的水槽工艺腔室；

4、根据腔室状态，设置工艺腔室的工艺状态；

5、根据腔室状态，生成物料的传输路径。

6、本发明实施例公开了一种半导体工艺设备，半导体工艺设备还包括：

7、控制器，用于获取每个工艺腔室的腔室状态，工艺腔室包括多组酸槽工艺腔室和水槽工艺腔室，物料在经过酸槽工艺腔室的加工后需转移至同组的水槽工艺腔室；

8、根据腔室状态，设置工艺腔室的工艺状态；

9、根据腔室状态，生成物料的传输路径。

10、本发明实施例公开了一种电子设备，电子设备包括处理器和存储器，所述存储器存储可在所述处理器上运行的程序或指令，所述程序或指令被所述处理器执行时实现如所述传输路径生成方法的步骤。

11、根据本发明的实施例，通过获取每个工艺腔室的腔室状态，工艺腔室包括多组酸槽工艺腔室和水槽工艺腔室，物料在经过酸槽工艺腔室的加工后需转移至同组的水槽工艺腔室；根据腔室状态，设置工艺腔室的工艺状态；这里，可以根据腔室状态，自动生成物料的传输路径，确保晶圆传输到安全的工艺腔室中，保证被加工的物料的安全性。由此，能够减少人为干预的情况，以及提升半导体工艺设备的加工效率。

技术特征：

1.一种传输路径生成方法，应用于半导体工艺设备，所述半导体工艺设备包括多个工艺腔室，所述工艺腔室用于加工物料，其特征在于，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取每个所述工艺腔室的腔室状态，包括：

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述参数包括：电源状态、排风状态、补给状态、药液状态和模块门信号，所述根据每个所述参数的异常状态信息，确定所述腔室状态，包括：

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述根据所述腔室状态，设置所述工艺腔室的工艺状态，包括：

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述根据所述腔室状态，生成所述物料的传输路径，包括：

6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述获取每个所述工艺腔室的腔室状态之后，所述方法还包括：

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述根据所述腔室状态，设置所述半导体工艺设备的任务状态，包括：

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述腔室状态，生成所述物料的传输路径，包括：

9.一种半导体工艺设备，所述半导体工艺设备包括多个工艺腔室，所述工艺腔室用于加工物料，其特征在于，所述半导体工艺设备还包括：

10.一种电子设备，其特征在于，包括处理器和存储器，所述存储器存储可在所述处理器上运行的程序或指令，所述程序或指令被所述处理器执行时实现如权利要求1～7任一项所述的方法的步骤。

技术总结
本发明实施例提供了一种传输路径生成方法，该方法包括：获取每个工艺腔室的腔室状态，工艺腔室包括多组酸槽工艺腔室和水槽工艺腔室，物料在经过酸槽工艺腔室的加工后需转移至同组的水槽工艺腔室；根据腔室状态，设置工艺腔室的工艺状态；根据腔室状态，生成物料的传输路径。

技术研发人员：刘忠任
受保护的技术使用者：北京北方华创微电子装备有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15