1.一种含有碳化硅涂层的硅氧碳复合材料，包括内核与外壳，其特征在于，所述内核为硅氧材料，所述外壳由内向外依次包括sic层和c层，且在xrd图谱中，si（111）衍射峰强度为i1，sic（111）衍射峰强度为i2，i2/i1满足如下关系：0.002≤i2/i1≤0.062。
2.根据权利要求1所述的硅氧碳复合材料，其特征在于，所述硅氧材料为多孔材料，主要由硅单质以及二氧化硅组成，所述硅氧材料的分子式为siox，其中0.1≤x≤0.4。
3.根据权利要求1或2所述的硅氧碳复合材料，其特征在于，所述c层的质量占硅氧碳复合材料总质量的2-10%。
4.一种如权利要求1-3中任一项所述的含有碳化硅涂层的硅氧碳复合材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述动态烧结处理在回转炉中进行，控制烧结温度为1000-1300℃，时间为1-4h。
6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述硅的氧化物为sio，所述sio的中值粒径d50为1-10μm，所述镁粉和sio混合时控制质量比为（0.5-3）：（1-4）。
7.根据权利要求4-6中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述镁粉和硅的氧化物混合时还加入氯化钠，所述氯化钠的加入量控制硅的氧化物和氯化钠的质量比为（1-4）：（9-15）。
8.根据权利要求4-6中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述镁热还原反应的温度为500-850℃，时间为2-6h。
9.根据权利要求4-6中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述酸刻蚀时的蚀刻溶液为盐酸，其质量浓度为10-40%，酸刻蚀时间为2-8h；
10.一种权利要求1-3中任一项所述的含有碳化硅涂层的硅氧碳复合材料或权利要求4-9中任一项所述的制备方法制备得到的含有碳化硅涂层的硅氧碳复合材料在电池负极中的应用。