Oled显示器的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及显示器技术领域，特别涉及一种OLED显示器。
【背景技术】
[0002]近年来，显示器市场中心位置逐渐由平板显示器(Flat Panel Display，FPD)所占据。利用FPD可以制造大尺寸且薄而轻的显示设备。这类FPD包括液晶显示器(LiquidCrystal Display，IXD)、等离子体显示面板(Plasma Display Panel，PDP)、有机发光二极管(Organic Light Emitting D1de，0LED)显不器等。
[0003]OLED显示器是一种新兴的平板显示器，其具备自发光，不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及制程较简单等优异的特性，因此具有非常好的发展前景。
[0004]—般的，OLED显示器包括像素阵列和控制电路，像素阵列中的每个像素包括发光二极管和薄膜晶体管，其中，薄膜晶体管通过扫描线接收控制电路提供的信号，以驱动发光二极管发光显示。
[0005]请参考图1，其为现有的OLED显示器部分结构剖面示意图。如图1所示，OLED显示器I包括:玻璃基板10，形成于玻璃基板10上的第一绝缘层11，形成于第一绝缘层11上的源极12、漏极13以及源漏极之间的沟道14，覆盖所述源极12、漏极13以及沟道14的第二绝缘层15，形成于所述第二绝缘层15上的栅极16及扫描线17。
[0006]在现有的OLED显示器中，经常产生不希望出现的彩色伪影，这大大降低了OLED显示器的显示质量。因此，这也成了本领域亟待解决的一个问题。
【实用新型内容】
[0007]本实用新型的目的在于提供一种OLED显示器，以解决现有的OLED显示器中，经常产生不希望出现的彩色伪影，大大降低了 OLED显示器的显示质量的问题。
[0008]为解决上述技术问题，本实用新型提供一种OLED显示器，所述OLED显示器包括:玻璃基板，形成于所述玻璃基板上的绝缘层，其中，所述玻璃基板与所述绝缘层之间或者所述绝缘层中形成有导电层。
[0009]可选的，在所述的OLED显示器中，所述绝缘层包括形成于所述玻璃基板上的氮化硅层以及形成于所述氮化硅层上的氧化硅层。
[0010]可选的，在所述的OLED显示器中，所述导电层形成于所述氮化硅层和所述氧化硅层之间。
[0011]可选的，在所述的OLED显示器中，所述导电层为多晶硅层。
[0012]可选的，在所述的OLED显示器中，所述导电层呈一面整体结构。
[0013]可选的，在所述的OLED显示器中，所述导电层呈网格结构。
[0014]可选的，在所述的OLED显示器中，所述绝缘层为第一绝缘层。
[0015]可选的，在所述的OLED显示器中，还包括:形成于所述第一绝缘层上的源极、漏极以及源漏极之间的沟道，覆盖所述源极、漏极以及沟道的第二绝缘层，形成于所述第二绝缘层上的栅极及扫描线。
[0016]可选的，在所述的OLED显示器中，网格结构的导电层中的每一网格包围一组源极、漏极及栅极。
[0017]可选的，在所述的OLED显示器中，所述导电层的厚度与所述绝缘层的厚度处于同一数量级。
[0018]发明人对现有技术进行了深入的研究后发现，导致现有的OLED显示器中，经常产生不希望出现的彩色伪影的原因在于，控制电路工作时发出的电磁波以及扫描线中变化的电流信号会影响到薄膜晶体管，从而导致了彩色伪影的产生。
[0019]因此，在本实用新型提供的OLED显示器中，玻璃基板与绝缘层之间或者绝缘层中形成有导电层，通过所述导电层可以起到电磁/电流屏蔽的作用，从而避免了控制电路或者扫描线对于薄膜晶体管的干扰，进而避免了不希望出现的彩色伪影，提高了 OLED显示器的显示质量。
【附图说明】
[0020]图1是现有的OLED显示器部分结构剖面示意图；
[0021 ]图2是现有的OLED显示器的整体示意图；
[0022]图3是本实用新型实施例一的OLED显示器部分结构剖面示意图；
[0023]图4是本实用新型实施例二的OLED显示器部分结构剖面示意图；
[0024]图5是本实用新型实施例二中导电层与薄膜晶体管(或者像素)之间位置关系的示意图；
[0025]图6是本实用新型实施例三的OLED显示器部分结构剖面示意图；
[0026]图7是本实用新型实施例四的OLED显示器部分结构剖面示意图。
【具体实施方式】
[0027]以下结合附图和具体实施例对本实用新型提出的OLED显示器作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。
[0028]发明人对现有技术进行了深入的研究后发现，导致现有的OLED显示器中，经常产生不希望出现的彩色伪影的原因在于，控制电路工作时发出的电磁波会干扰像素阵列中薄膜晶体管的操作。具体的，请参考图2，其为现有的OLED显示器的整体示意图。如图2所示，OLED显示器2包括像素阵列20以及驱动像素阵列20的控制电路21。其中，控制电路21包括用于支持OLED显示器的操作和存储的电路，这些电路工作时会发出不同频率的电磁波，而这些电磁波又会干扰像素阵列中薄膜晶体管的操作，从而产生彩色伪影。
[0029]此外，在像素阵列中，由许多彼此相互贴近的像素构成，每个像素包括发光二极管和薄膜晶体管，因此也就导致像素阵列中许多薄膜晶体管彼此相互贴近，而控制各薄膜晶体管的扫描线会根据显示画面的变化产生不断变化的电流信号，从而就会导致控制薄膜晶体管的扫描线中的电流信号对相邻的薄膜晶体管的沟道产生干扰电场，进而产生彩色伪影，影响显示效果。
[0030]基于此，本申请的核心思想在于，在玻璃基板与绝缘层之间或者绝缘层中形成导电层，通过所述导电层起到电磁/电流屏蔽的作用，从而避免了控制电路或者扫描线对于薄膜晶体管的干扰，进而避免了不希望出现的彩色伪影，提高了 OLED显示器的显示质量。
[0031 ]接下去将通过四个实施例对本申请做进一步描述。
[0032]【实施例一】
[0033]请参考图3，其为本实用新型实施例一的OLED显示器部分结构剖面示意图。如图3所示，所述OLED显示器3包括:玻璃基板30，形成于所述玻璃基板30上的绝缘层31。进一步的，所述绝缘层31包括形成于所述玻璃基板30上的氮化硅层31a以及形成于所述氮化硅层31a上的氧化硅层31b。在本申请实施例中，所述绝缘层31为第一绝缘层，在所述氮化硅层31a和所述氧化娃层31b之间之间形成有导电层DDLl。
[0034]其中，所述导电层DDLl为由导电材料形成的膜层。优选的，所述导电层DDLl为多晶硅层，即由材料多晶硅形成的膜层。多晶硅材料形成的导电层DDLl不仅具有很好的电磁屏蔽作用，同时其也是制造OLED显示器中常用的材料，对于材料的获取与使用也更加方便。
[0035]在本申请实施例中，所述导电层DDLl呈一面整体结构。所述导电层DDLl采用一面整体结构具有制造工艺方便的优点，其只需进行一层成膜工艺即可。
[0036]在本申请实施例中，所述OLED显示器3还包括:形成于第一绝缘层31上的源极32、漏极33以及源漏极之间的沟道34，覆盖所述源极32、漏极33以及沟道34的第二绝缘层35，形成于所述第二绝缘层35上的栅极36及扫描线37。这些结构均可采用现有技术，本申请实施例对此不再赘述。
[0037]进一步的，所述导电层DDLl的厚度与所述第一绝缘层31的厚度处于同一数量级。在此基础上，所述导电层DDLl即可取得较佳的电磁屏蔽效果。
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