过流保护电路及曝光机台的制作方法

本发明涉及液晶显示领域，尤其涉及一种过流保护电路及曝光机台。

背景技术：

随着半导体技术、液晶显示技术等技术的飞速发展，液晶显示器中由于体积轻、耗电少等优点而深受消费者的喜爱。在制作液晶显示器时，需要使用到曝光机台。曝光机台中的光源(比如，汞灯)对曝光机的稳定运行起着至关重要的作用。目前，曝光机台中的光源的保护措施是当流经光源的电流超过预设值(126安)预设时间(2秒)时，对所述光源进行断电。然而，曝光机台中光源的现有保护措施不能够完全保护光源。比如，当流经光源的电流虽然小于所述预设值，但是由于光源本身的质量问题时(比如，光源本身存在细微裂痕，因光源质量问题造成的光源散热不畅)，当流经光源的电流突然出现剧烈波动时，此时，如果对光源继续通电则有可能造成光源的爆炸，从而造成曝光机台损伤，或者是曝光机台处理的产品的损伤。

技术实现要素：

本发明提供一种过流保护电路。一种过流保护电路，所述过流保护电路包括侦测单元、记录单元、判断单元及控制单元，所述侦测单元用于侦测流经曝光机台中的光源的电流，所述记录单元用于记录流经所述曝光机台中的光源的电流的波峰值，所述判断单元用于判断所述电流中第(n+2)个波峰的波峰值是否大于所述电流中第(n+1)个波峰的波峰值，且判断所述电流中第(n+2)个波峰的波峰值是否大于或等于基准值的预设倍数，当所述电流中第(n+2)个波峰的波峰值大于所述电流中第(n+1)个波峰的波峰值且所述电流中第(n+2)个波峰的波峰值大于或等于基准值的预设倍数时发出控制信号，所述控制信号用于控制所述曝光机台中的光源断电，其中，当所述电流中第(n)个波峰的波峰值大于所述电流中第(n+1)个波峰的波峰值时，所述电流中第(n)个波峰的波峰值被取做所述基准值，当所述电流中第(n)个波峰的波峰值小于所述电流中第(n+1)个波峰的波峰值时，所述电流中第(n+1)个波峰的波峰值被取做所述基准值，且所述n为正整数。

相较于现有技术，本发明的过流保护电路在电流中第(n+2)个波峰的波峰值大于所述电流中第(n+1)个波峰的波峰值且所述电流中第(n+2)个波峰的波峰值大于或等于基准值的预设倍数时发出控制信号，以控制所述曝光机台中的光源断电，从而避免了在流经所述光源的电流发生较大幅度的波动时所述光源继续通电而造成的爆炸事故。且进一步地，本发明中的过流保护电路对电流发生较大幅度的波动时的判断是实时判断的，从而能够及时的确定对所述光源是否断电。

本发明还提供了一种曝光机台。所述曝光机台包括光源及过流保护电路，所述过流保护电路包括侦测单元、记录单元、判断单元及控制单元，所述侦测单元用于侦测流经所述光源的电流，所述记录单元用于记录流经所述光源的电流的波峰值，所述判断单元用于判断所述电流中第(n+2)个波峰的波峰值是否大于所述电流中第(n+1)个波峰的波峰值，且判断所述电流中第(n+2)个波峰的波峰值是否大于或等于基准值的预设倍数，当所述电流中第(n+2)个波峰的波峰值大于所述电流中第(n+1)个波峰的波峰值且所述电流中第(n+2)个波峰的波峰值大于或等于基准值的预设倍数时发出控制信号，其中，当所述电流中第(n)个波峰的波峰值大于所述电流中第(n+1)个波峰的波峰值时，所述电流中第(n)个波峰的波峰值被取做所述基准值，当所述电流中第(n)个波峰的波峰值小于所述电流中第(n+1)个波峰的波峰值时，所述电流中第(n+1)个波峰的波峰值被取做所述基准值，其中，所述n为正整数，所述控制信号用于控制所述光源断电。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明一较佳实施方式提供的过流保护电路的电路框图。

图2为本发明流经曝光机台中的光源的电流波形示意图。

图3为本发明一较佳实施方式提供的曝光机台的电路框图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1，图1为本发明一较佳实施方式提供的过流保护电路的电路框图。所述过流保护电路10应用于曝光机台1中，用于保护所述曝光机台1中的光源30。所述过流保护电路10包括侦测单元100、记录单元200、判断单元300及控制单元400。所述侦测单元100用于侦测流经曝光机台1中的光源30的电流。所述记录单元200用于记录流经所述曝光机台中的光源的电流的波峰值(部分波峰在图2中用圆圈圈出)。所述判断单元300用于判断所述电流中第(n+2)个波峰的波峰值是否大于所述电流中第(n+1)个波峰的波峰值，且判断所述电流中第(n+2)个波峰的波峰值是否大于或等于基准值的预设倍数。当所述电流中第(n+2)个波峰的波峰值大于所述电流中第(n+1)个波峰的波峰值且所述电流中第(n+2)个波峰的波峰值大于或等于基准值的预设倍数时发出控制信号，所述控制信号用于控制所述曝光机台1中的光源30断电。其中，当所述电流中第(n)个波峰的波峰值大于所述电流中第(n+1)个波峰的波峰值时，所述电流中第(n)个波峰的波峰值被取做所述基准值，当所述电流中第(n)个波峰的波峰值小于所述电流中第(n+1)个波峰的波峰值时，所述电流中第(n+1)个波峰的波峰值被取做所述基准值，且所述n为正整数。

在本实施方式中，所述侦测单元100侦测流经到所述光源30的电流，并将侦测到的流经所述光源30的电流值输出。所述记录单元200与所述侦测单元100之间可以进行信号传输，在本实施方式中，所述记录单元200与所述侦测单元100之间电连接，所述记录单元200接收所述侦测单元100侦测到的流经所述光源30的电流值，并记录流经所述光源30中的电流的波峰值。流经所述光源30的电流为交流电，且所述交流电是受到外界影响而实时变化的，因此，侦测到的流经所述光源30的电流的波形也是类似正弦波信号的且波的波峰值是实时变化的(请参阅图2)。因此，可以通过各个波峰值的变化判断流经所述光源30的电流的实时峰值的变化情况。

优选地，所述侦测单元100邻近所述光源30设置，且所述侦测单元100用于侦测与所述光源30相连的电源线的电磁场的变化，并根据与所述光源30相连的电源线的电磁场的变化得到流经曝光机台1中的光源30的电流的变化。

所述侦测单元100包括霍尔元件，所述霍尔元件用于侦测与所述光源相连的电源线的磁场的变化，并根据所述电磁场的变化得到流经曝光机台1中的光源30的电流的变化。

所述侦测单元100还包括通孔，所述通孔用于通过与所述光源30相连的电源线，所述霍尔元件通过所述通孔环绕所述电源线设置。

由于在曝光机台1中所述光源30的电源端距离所述光源30的距离较长，一般地，所述光源30的电源端距离所述光源30的距离为3～5米，所述光源30的电源端提供给所述光源30的电流经过连接所述光源30的电源端与所述光源30之间的导线时，会发生衰减，因此，所述电源端电流的变化和流经所述光源30的电源的变化不同。本发明通过将侦测单元100邻近所述光源30设置，从而能够更加精确地测定流经所述光源30的电流的变化。进一步地，本发明通过在侦测单元100中设置霍尔元件，所述霍尔元件可以为霍尔传感器，所述霍尔元件在侦测与光源相连的电源线的磁场的变化时，无需与电源线接触，不会影响到曝光机台1中的各个电路以及曝光机台1中给光源30供电的电源端以及光源30，且不会消耗给光源30供电的电源的功率，特别适合于大电流传感。更进一步地，所述通孔通过电源线，且霍尔元件环绕所述电源线设置能够提高侦测流经所述光源的电流的变化的精度。在一实施方式中，所述过流保护电路10还包括转换单元500。所述转换单元500用于将所述侦测单元100侦测到的流经所述曝光机台1中的光源30的电流转换成电压。相应地，所述记录单元200用于记录流经所述曝光机台1中的光源30的电压的波峰值。所述判断单元300用于判断所述电压中第(n+2)个波峰的波峰值是否大于所述电压中第(n+1)个波峰的波峰值，且判断所述电压中第(n+2)个波峰的波峰值是否大于或等于基准值的预设倍数。当所述电压中第(n+2)个波峰的波峰值大于所述电压中第(n+1)个波峰的波峰值且所述电压中第(n+2)个波峰的波峰值大于或等于基准值的预设倍数时发出控制信号，，所述控制信号用于控制所述曝光机台中的光源断电其中，当所述电压中第(n)个波峰的波峰值大于所述电压中第(n+1)个波峰的波峰值时，所述电压中第(n)个波峰的波峰值被取做所述基准值，当所述电压中第(n)个波峰的波峰值小于所述电压中第(n+1)个波峰的波峰值时，所述电压中第(n+1)个波峰的波峰值被取做所述基准值，且所述n为正整数。

优选地，所述过流保护电路10还包括报警单元600。所述报警单元600用于在所述控制信号控制所述曝光机台1中的光源30断电时，发出警报信息，以提示用户流经所述曝光机台1中的光源30的电流出现剧烈波动。以便用户及时给出处理对策。

相较于现有技术，本发明的过流保护电路10在电流中第(n+2)个波峰的波峰值大于所述电流中第(n+1)个波峰的波峰值且所述电流中第(n+2)个波峰的波峰值大于或等于基准值的预设倍数时发出控制信号，以控制所述曝光机台1中的光源30断电，从而避免了在流经所述光源30的电流发生较大幅度的波动时所述光源30继续通电而造成的爆炸事故。且进一步地，本发明中的过流保护电路10对电流发生较大幅度的波动时的判断是实时判断的，从而能够及时的确定对所述光源30是否断电。

进一步地，所述判断单元300还用于判断流经所述曝光机台1中的光源30的电流的波峰值是否大于或等于预设峰值，当流经所述曝光机台1中的光源30的电流的波峰值大于或等于所述预设峰值时，所述控制单元400发出控制信号，所述控制信号用于控制所述曝光机台1中的光源30断电。优选地，所述预设峰值大于或等于所述基准值的预设倍数。由此可见，本发明的过流保护电路10还可以在流经所述曝光机台1中的光源30的电流的波峰值是否大于或等于预设峰值时，控制所述曝光机台1中的光源30断电。且在流经所述曝光机台1中的光源30的电流的波峰值是否小于预设峰值时，若流经所述曝光机台1的光源30的电流的发生剧烈变化时，控制所述曝光机台1中的光源30断电，从而起到了对所述曝光机台1中的光源30的双重保护。

请参阅图3，图3为本发明一较佳实施方式提供的曝光机台的电路框图。所述曝光机台1包括光源30和过流保护电路10。所述过流保护电路10请参阅前面的描述，在此不再赘述。

以上所揭露的仅为本发明一种较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本发明权利要求所作的等同变化，仍属于发明所涵盖的范围。