技术特征：
技术总结
本发明提供一种过流保护电路及曝光机台。过流保护电路包括侦测单元、记录单元、判断单元及控制单元，侦测单元侦测流经曝光机台中的光源的电流，记录单元记录电流的波峰值，判断单元判断第(n+2)个波峰的波峰值是否大于第(n+1)个波峰的波峰值，且判断第(n+2)个波峰的波峰值是否大于或等于基准值的预设倍数，当第(n+2)个波峰的波峰值大于第(n+1)个波峰的波峰值且第(n+2)个波峰的波峰值大于或等于基准值的预设倍数时发出控制信号以控制光源断电，当电流中第(n)个波峰的波峰值大于电流中第(n+1)个波峰的波峰值时，电流中第(n)个波峰的波峰值被取做基准值，当电流中第(n)个波峰的波峰值小于电流中第(n+1)个波峰的波峰值时，电流中第(n+1)个波峰的波峰值被取做基准值，n为正整数。
技术研发人员：桂宇畅
受保护的技术使用者：武汉华星光电技术有限公司
技术研发日：2017.07.31
技术公布日：2017.10.24