技术特征：
技术总结
一种完美吸收体的制造方法，至少包括以下步骤：1)自洁净的基材一表面向外，依次进行第一金属层、介质层及第二金属层的沉积处理；2)在所述第二金属层表面进行电子束光刻胶的旋涂处理；3)对旋涂的所述电子束光刻胶进行热固化处理；4)对所述热固化后的电子束光刻胶进行曝光、显影处理，获得具有未经过曝光的电子束光刻胶区域；5)对进行曝光、显影处理后的所述电子束光刻胶区域进行干法刻蚀处理，使得第二金属层断裂形成若干周期性四方阵排布结构，并去除所述未经曝光的电子束光刻胶，得到完美吸收体。这种完美吸收体的制造方法不会对光刻胶产生破坏，而且剥离后的金属阵列不存在失真现象。
技术研发人员：张昭宇;韩谞;何克波
受保护的技术使用者：香港中文大学（深圳）
技术研发日：2017.03.29
技术公布日：2017.08.29