等离子体处理装置和等离子体处理方法与流程

本发明例示的实施方式涉及等离子体处理装置和等离子体处理方法。

背景技术：

1、等离子体处理装置在对基片的等离子体处理中使用。在等离子体处理装置中，为了从腔室内生成的等离子体将离子引入基片，使用高频偏置电功率。下述的专利文献1公开了对高频偏置电功率的功率水平和频率进行调制的等离子体处理装置。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2009-246091号公报

技术实现思路

1、发明要解决的技术问题

2、本发明提供能够抑制为了生成等离子体而使用的高频电功率的反射的技术。

3、用于解决技术问题的技术方案

4、在一个例示的实施方式中，提供一种等离子体处理装置。等离子体处理装置具有腔室、基片支承部、高频电源和偏置电源。基片支承部设置在腔室内。高频电源构成为供给高频电功率以在腔室内从气体生成等离子体。偏置电源构成为向基片支承部供给电偏置能量，以将离子引入基片支承部上的基片。电偏置能量具有以具有偏置频率的倒数的时间长度的偏置周期反复的波形。高频电源在供给高频电功率且向基片支承部供给电偏置能量的期间中，进行(a)、(b)和(c)。(a)包括如下处理：作为偏置周期内的高频电功率的频率的时间序列，使用作为预先决定的频率的时间序列的基本时间序列。(b)在(a)之后进行。(b)包括如下处理：在偏置周期中使用作为高频电功率的频率进行变更了的时间序列。(c)包括如下处理：反复进行(b)，以对高频电源与其负载之间的阻抗的匹配状态基于反映该匹配状态的评价值进行改善。作为在(b)中使用的时间序列，高频电源使用时间序列(ts1)、时间序列(ts2)或时间序列(ts3)。时间序列(ts1)是通过对基本时间序列施加相对于偏置周期的相移量而得到的频率的时间序列。时间序列(ts2)是使基本时间序列在频率方向上放大或缩小的频率的时间序列。时间序列(ts3)是包含与基本时间序列相同个数的频率在内的频率的时间序列，是通过将基本时间序列的多个时间区间中的两个以上的时间区间在时间方向上放大或缩小而得到的频率的时间序列。

5、发明效果

6、根据一个例示的实施方式，能够抑制为了生成等离子体而使用的高频电功率的反射。

技术特征：

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

3.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

4.如权利要求3所述的等离子体处理装置，其特征在于：

5.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

6.如权利要求1～5中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

7.如权利要求6所述的等离子体处理装置，其特征在于：

8.如权利要求6所述的等离子体处理装置，其特征在于：

9.如权利要求1～5中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

10.一种等离子体处理方法，其特征在于，包括：

技术总结
本发明公开的等离子体处理装置中，高频电源在电偏置能量的偏置周期内调节高频电功率的频率。高频电源使用基本时间序列作为偏置周期内的高频电功率的频率的时间序列。高频电源以基于评价值改善匹配状态的方式，反复进行作为偏置周期内的高频电功率的频率的时间序列使用变更了的时间序列的处理。变更了的时间序列通过对基本时间序列施加相移量、使基本时间序列在频率方向缩放、或使基本时间序列的多个时间区间中的两个以上的时间区间在时间方向上缩放而得到。

技术研发人员：舆水地盐
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/2/1