一种具有高亮度和高对比度的AMOLED显示器件及其制造工艺的制作方法

文档序号:35507718发布日期:2023-09-20 18:28阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种具有高亮度和高对比度的amoled显示器件,包括玻璃基板、薄膜晶体管阵列层、阳极层、有机发光层、阴极层、封装盖板,其特征在于,玻璃基板、薄膜晶体管阵列层、阳极层、有机发光层、阴极层、封装盖板自下而上依次设置,所述薄膜晶体管阵列层、阳极层与阴极层侧面设有包覆层,位于阴极层外部的包覆层与薄膜晶体管阵列层、阳极层外部的包覆层之间连接有纤维加强筋。

2.根据权利要求1所述的一种具有高亮度和高对比度的amoled显示器件,其特征在于,所述包覆层包括中间层的基层,基层内侧的石墨烯层及基层外侧的金属网层。

3.根据权利要求2所述的一种具有高亮度和高对比度的amoled显示器件,其特征在于,所述石墨烯层厚度为1~3nm,基层的厚度为20~30nm,金属网层的厚度为5~10nm。

4.根据权利要求1所述的一种具有高亮度和高对比度的amoled显示器件,其特征在于,所述纤维加强筋包括柱状的支撑杆,支撑杆外部包覆有碳纤维,纤维加强筋的半径为10~15nm。

5.一种制造工艺,其特征在于,包括下列步骤:

6.根据权利要求1所述的一种具有高亮度和高对比度的amoled显示器件,其特征在于,还包括粘接在玻璃基板朝向薄膜晶体管阵列层侧的复合石墨烯层。

7.根据权利要求6所述的一种具有高亮度和高对比度的amoled显示器件,其特征在于,所述复合石墨烯层包括石墨烯及纳米二氧化硅颗粒。

8.根据权利要求7所述的一种具有高亮度和高对比度的amoled显示器件,其特征在于,所述石墨烯与纳米二氧化硅颗粒的重量比为2:1~1.2。

9.一种制造工艺,其特征在于,包括下列步骤:


技术总结
本发明公开了一种具有高亮度和高对比度的AMOLED显示器件及其制造工艺,属于显示器件技术领域,该装置包括玻璃基板、薄膜晶体管阵列层、阳极层、有机发光层、阴极层、封装盖板,玻璃基板、薄膜晶体管阵列层、阳极层、有机发光层、阴极层、封装盖板自下而上依次设置,所述薄膜晶体管阵列层、阳极层与阴极层侧面设有包覆层,位于阴极层外部的包覆层与薄膜晶体管阵列层、阳极层外部的包覆层之间连接有纤维加强筋;该AMOLED显示器件可提高发光效率,减少外界光进入显示器件发生的反射,进而增强显示亮度与对比度。

技术研发人员:李金雄,周志强
受保护的技术使用者:深圳市鸿展光电有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/15
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