半导体存储装置及包括其的电子系统的制作方法

文档序号:37680479发布日期:2024-04-18 20:53阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种半导体存储装置,所述半导体存储装置包括:

2.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其中所述存储单元块包括第一存储单元块、第二存储单元块、第三存储单元块,并且其中所述第一通道晶体管电路还包括第一通道晶体管、第二通道晶体管和第三通道晶体管,所述第一通道晶体管、所述第二通道晶体管和所述第三通道晶体管被配置为传输所述驱动信号以使所述工作电压分别被施加到所述第一存储单元块、所述第二存储单元块和所述第三存储单元块。

3.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其中,所述第一通道晶体管电路还包括位于所述far第一延伸部上的第一单独源极/漏极、位于所述far第二延伸部上的第二单独源极/漏极以及位于所述far第三延伸部上的第三单独源极/漏极。

4.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其中所述far呈y形。

5.根据权利要求1所述的半导体存储装置,所述半导体存储装置还包括:

6.根据权利要求5所述的半导体存储装置,其中,

7.根据权利要求5所述的半导体存储装置,其中,

8.根据权利要求5所述的半导体存储装置,所述半导体存储装置还包括:

9.根据权利要求8所述的半导体存储装置,其中,

10.根据权利要求8所述的半导体存储装置,其中,

11.根据权利要求8所述的半导体存储装置,还包括:

12.根据权利要求11所述的半导体存储装置,其中,

13.根据权利要求11所述的半导体存储装置,其中,

14.一种半导体存储装置,所述半导体存储装置包括:

15.根据权利要求14所述的半导体存储装置,其中,所述第一有源区域包括第一延伸部、第二延伸部和第三延伸部,所述第一延伸部、所述第二延伸部和所述第三延伸部相对于彼此分别形成120度的角度。

16.根据权利要求14所述的半导体存储装置,其中,所述第一外围电路区域和所述存储单元区域通过接合位于所述第一衬底上的第一接合焊盘和位于所述第二衬底上的第二接合焊盘而连接,并且其中,所述第一衬底的所述第一表面和所述第二衬底的所述第二表面彼此面对。

17.根据权利要求14的半导体存储装置,其中,

18.根据权利要求17所述的半导体存储装置,所述半导体存储装置还包括:

19.根据权利要求18所述的半导体存储装置,其中,所述第一有源区域和所述第二有源区域呈y形并且是并排布置的。

20.一种电子系统,所述电子系统包括:


技术总结
本发明提供了一种半导体存储装置和电子系统,半导体存储装置包括:衬底,衬底包括第一区域和第二区域,其中,第一区域包括外围电路和第一有源区域(FAR),并且第二区域包括存储单元块。FAR包括在第一方向上延伸的FAR第一延伸部、在第二方向上延伸的FAR第二延伸部和在第三方向上延伸的FAR第三延伸部。FAR第一延伸部、FAR第二延伸部和FAR第三延伸部相对于彼此形成大于90度的相应角度。所述装置包括被配置为传输驱动信号的第一通道晶体管电路,并且第一通道晶体管电路包括:位于FAR第一延伸部上的FAR第一栅极结构、位于FAR第二延伸部上的FAR第二栅极结构、位于FAR第三延伸部上的FAR第三栅极结构以及第一共享源极/漏极。

技术研发人员:李素贤,尹康五,李东镇,林濬熙
受保护的技术使用者:三星电子株式会社
技术研发日:
技术公布日:2024/4/17
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