像素阵列、掩膜装置及像素阵列制作方法与流程

本申请涉及显示装置，尤其涉及一种像素阵列、掩膜装置及像素阵列制作方法。

背景技术：

1、目前，有机发光二极管(organiclight-emitting diode，oled)以高对比度，更快的响应速度，优异的视角而广泛应用于各种电子装置中。随着vr/ar等头戴显示设备的兴起，对有机发光二极管面板的分辨率和显示质量要求也越来越高。

2、通常有机发光二极管蒸镀技术中，精细金属掩膜板(fine metal mask，fmm)应用于蒸镀红色、绿色和蓝色子像素发光层材料，其决定了各子像素的发光面积，位置及间距。广泛应用的沉积掩膜板最小特征尺寸和孔径之间最小间隔均较大(＞20微米),可达到的最高解析度为650ppi左右。而为了减缓纱窗效应，vr/ar等头戴显示设备需求解析度在1000ppi以上，因此掩膜板的开口尺寸和精细蚀刻能力限制了像素密度和像素填充率，从而降低了显示装置的开口率和分辨率，进而影响显示装置的显示性能。

技术实现思路

1、本申请提供一种像素阵列、掩膜装置及像素阵列制作方法，可以解决由于工艺限制，限制显示装置开口率和分辨率提升的问题。

2、为解决上述技术问题，本申请提供一种像素阵列，包括多个像素，每个所述像素包括一个第一子像素、一个第二子像素和一个第三子像素；

3、在一个像素中，所述像素的第一子像素与相邻像素的第一子像素相邻，所述像素的第二子像素与相邻像素的第二子像素相邻，所述像素的第三子像素与相邻像素的第三子像素相邻。

4、在其中一个实施例中，相邻的两个所述第一子像素和相邻的两个第二子像素均沿第一方向或第二方向布置，相邻的两个所述第三子像素沿第三方向布置，其中，所述第一方向与所述第二方向相垂直，所述第三方向与所述第一方向和所述第二方向的夹角均为45度。

5、在其中一个实施例中，所述第一子像素、所述第二子像素和所述第三子像素设置为矩形或者矩形各顶角为圆角的图形。

6、在其中一个实施例中，所述第一子像素设置为直角三角形或者直角三角形的顶角为圆角的图形，且相邻的两个所述第一子像素呈平行四边形或者平行四边形各顶角为圆角的图形。

7、在其中一个实施例中，相邻的两个第一子像素、两个第二子像素和两个第三子像素均沿第一方向或第二方向布置。

8、在其中一个实施例中，所述第一子像素、所述第二子像素以及所述第三子像素均设置为正方形或圆形。

9、为解决上述技术问题，本申请再提供一种显示面板，所述显示面板包括如前所述的像素阵列。

10、为解决上述技术问题，本申请还提供一种掩膜装置，所述掩膜装置用于制造如前所述的像素阵列，所述掩膜装置包括第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板，所述第一掩膜板开设有多个第一蒸镀孔，同一个所述第一蒸镀孔用于形成至少两个像素的第一子像素的发光材料；

11、所述第二掩膜板开设有多个第二蒸镀孔，同一个所述第二蒸镀孔用于形成至少两个像素的第二子像素发光材料；

12、所述第三掩膜板开设有多个第三蒸镀孔，同一个所述第三蒸镀孔用于形成至少两个像素的第三子像素的发光材料。

13、在其中一个实施例中，所述第一蒸镀孔具有第一对称轴，所述第一掩膜板上一部分所述第一蒸镀孔的第一对称轴与第一方向相平行，使得两个第一子像素沿第一方向间隔布置，另一部分所述第一蒸镀孔的第一对称轴与第一方向相垂直。

14、在其中一个实施例中，所述第二蒸镀孔用于形成至少四个像素的第二子像素的发光材料，所述第二蒸镀孔具有第二对称轴，所述第二对称轴与所述第一方向相垂直。

15、在其中一个实施例中，所述第三蒸镀孔用于形成至少四个像素的第三子像素的发光材料，所述第三蒸镀孔具有第三对称轴，所述第三对称轴与所述第三方向一致。

16、在其中一个实施例中，所述掩膜装置还包括第四掩膜板，所述第四掩膜板开设有多个第四蒸镀孔，同一个所述第四蒸镀孔用于形成至少两个所述第一像素点的发光材料，所述第四蒸镀孔呈平行四边形或者平行四边的顶角圆角的形状。

17、为解决上述技术问题，本申请另提供一种像素阵列的制作方法，包括：在衬底上形成像素限定层，所述像素限定层内设置有多个像素开口，利用如前所述的掩膜装置在所述像素开口内蒸镀发光材料，从而形成第一子像素、第二子像素以及第三子像素。

18、在其中一个实施例中，利用所述掩膜装置在所述像素开口内蒸镀发光材料，形成所述第一子像素、所述第二子像素与所述第三子像素，包括：

19、利用所述第一掩膜板，在一部分像素开口内蒸镀第一发光材料，形成所述第一子像素；

20、利用所述第二掩膜板，在一部分像素开口内蒸镀第二发光材料，形成所述第二子像素；

21、利用所述第三掩膜板，在一部分像素开口内蒸镀第三发光材料，形成所述第三子像素。

22、本申请的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：

23、由上述实施例可知，本申请通过设置多个像素，每个像素包括一个第一子像素、一个第二子像素和一个第三子像素，在一个像素中，像素的第一子像素与相邻像素的第一子像素相邻，像素的第二子像素与相邻像素的第二子像素相邻，像素的第三子像素与相邻像素的第三子像素相邻，能够使得第一子像素、第二子像素和第三子像素之间实现紧密嵌套，从而提高像素填充率，进而提高显示装置的使用寿命。

24、应理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本申请。

技术特征：

1.一种像素阵列，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的像素阵列，其特征在于，相邻的两个所述第一子像素和相邻的两个第二子像素均沿第一方向或第二方向布置，相邻的两个所述第三子像素沿第三方向布置，其中，所述第一方向与所述第二方向相垂直，所述第三方向与所述第一方向和所述第二方向的夹角均为45度。

3.根据权利要求2所述的像素阵列，其特征在于，所述第一子像素、所述第二子像素和所述第三子像素设置为矩形或者矩形各顶角为圆角的图形。

4.根据权利要求2所述的像素阵列，其特征在于，所述第一子像素设置为直角三角形或者直角三角形的顶角为圆角的图形，且相邻的两个所述第一子像素呈平行四边形或者平行四边形各顶角为圆角的图形。

5.根据权利要求1所述的像素阵列，其特征在于，相邻的两个第一子像素、两个第二子像素和两个第三子像素均沿第一方向或第二方向布置。

6.根据权利要求5所述的像素阵列，其特征在于，所述第一子像素、所述第二子像素以及所述第三子像素均设置为正方形或圆形。

7.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括权利要求1至6任一项所述的像素阵列。

8.一种掩膜装置，其特征在于，所述掩膜装置用于制造权利要求1至6任一项所述的像素阵列，所述掩膜装置包括第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板，所述第一掩膜板开设有多个第一蒸镀孔，同一个所述第一蒸镀孔用于形成至少两个像素的第一子像素的发光材料；

9.根据权利要求8所述的掩膜装置，其特征在于，所述第一蒸镀孔具有第一对称轴，所述第一掩膜板上一部分所述第一蒸镀孔的第一对称轴与第一方向相平行，使得两个第一子像素沿第一方向间隔布置，另一部分所述第一蒸镀孔的第一对称轴与第一方向相垂直。

10.根据权利要求8所述的掩膜装置，其特征在于，所述第二蒸镀孔用于形成至少四个像素的第二子像素的发光材料，所述第二蒸镀孔具有第二对称轴，所述第二对称轴与所述第一方向相垂直。

11.根据权利要求8所述的掩膜装置，其特征在于，所述第三蒸镀孔用于形成至少四个像素的第三子像素的发光材料，所述第三蒸镀孔具有第三对称轴，所述第三对称轴与所述第三方向一致。

12.根据权利要求8所述的掩膜装置，其特征在于，所述掩膜装置还包括第四掩膜板，所述第四掩膜板开设有多个第四蒸镀孔，同一个所述第四蒸镀孔用于形成至少两个所述第一像素点的发光材料，所述第四蒸镀孔呈平行四边形或者平行四边的顶角圆角的形状。

13.一种像素阵列制作方法，其特征在于，在衬底上形成像素限定层，所述像素限定层内设置有多个像素开口，利用权利要求8至12任一所述的掩膜装置在所述像素开口内蒸镀发光材料，从而形成第一子像素、第二子像素以及第三子像素。

14.根据权利要求13所述的像素阵列制作方法，其特征在于，利用所述掩膜装置在所述像素开口内蒸镀发光材料，形成所述第一子像素、所述第二子像素与所述第三子像素，包括：

技术总结
本申请涉及一种像素阵列、掩膜装置及像素阵列制作方法。每个像素包括一个第一子像素、一个第二子像素和一个第三子像素，在一个像素中，像素的第一子像素与相邻像素的第一子像素相邻，像素的第二子像素与相邻像素的第二子像素相邻，像素的第三子像素与相邻像素的第三子像素相邻，能够使得第一子像素、第二子像素和第三子像素之间实现紧密嵌套，从而提高像素填充率，进而提高显示装置的使用寿命。

技术研发人员：毕娜,沈阔,白珊珊
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/2/1