显示基板及其制作方法和显示装置与流程

文档序号:37359493发布日期:2024-03-22 10:13阅读:5来源:国知局
显示基板及其制作方法和显示装置与流程

本发明实施例涉及显示,尤其涉及一种显示基板及其制作方法和显示装置。


背景技术:

1、显示面板一般包括有效显示区以及环绕有效显示区的周边区,周边区通常使用油墨覆盖,对于窄边框设计的显示面板来说,如图1所示,由于油墨喷涂工艺的精度在150微米左右,可能导致周边区未能精准的被油墨覆盖遮挡,在未被油墨遮挡的区域,光线可入射至显示面板内部,在显示面板的走线区(下pad区)的风险区,由于栅金属走线过于密集,无整面源漏金属层设计的产品形成透射光栅结构,发生衍射;整面源漏金属层设计的产品金属凹槽结构密集,反射严重且反射光线杂散度高,均会改变出射至偏光片光线的偏振态,导致偏光片无法完全吸收出射光,如图2所示,显示面板息屏时可以观测到底部明亮银纹,影响视觉效果。


技术实现思路

1、本发明实施例提供一种显示基板及其制作方法和显示装置,以解决息屏时可以观测到底部明亮银纹,影响视觉效果的问题。

2、为解决上述问题,本发明是这样实现的:

3、第一方面,本发明实施例提供了一种显示基板,包括有效显示区、环绕所述有效显示区的油墨区,以及位于所述油墨区远离所述有效显示区一侧的走线区,所述走线区包括衬底基板、形成于所述衬底基板上的驱动电路层、形成于所述驱动电路层上的平坦层,以及形成于所述平坦层上的封装结构,其中,所述平坦层远离所述衬底基板的一侧经过散射处理,形成散射结构。

4、在其中一些实施例中,所述散射结构包括密铺排布的六边形的凹陷区域,以及形成各六边形的凹陷区域之间间隔的第一凸起区域,所述凹陷区域内设置有第二凸起区域,所述第二凸起区域呈环形的六边形,所述第二凸起区域的中心和所述六边形的凹陷区域的中心重合。

5、在其中一些实施例中,所述第一凸起区域的走线宽度为1.5微米至2微米;且\或

6、所述第二凸起区域的走线宽度为0.75微米至1.25微米;且\或

7、所述第一凸起结构和所述第二凸起结构之间的最小距离为1微米至1.5微米;且\或

8、所述第二凸起结构的对边之间的距离为3.25微米至3.75微米。

9、在其中一些实施例中,所述散射结构上形成有金属镀膜。

10、在其中一些实施例中,所述驱动电路层包括栅金属层和源漏金属层,所述源漏金属层在所述衬底基板上的正投影覆盖所述栅金属层在所述衬底基板上的正投影之间的间隔。

11、在其中一些实施例中,所述显示基板还包括散射粒子,所述散射粒子掺杂于所述平坦层中,或者所述散射粒子掺杂于所述封装结构中压敏胶层中。

12、在其中一些实施例中,所述平坦层的材料包括黑色材料;和\或

13、所述驱动电路层包括金属层,所述金属层远离所述衬底基板的一侧经过黑化处理。

14、第二方面,本发明实施例提供了一种显示装置,包括第一方面任一项所述的显示基板。

15、第三方面,本发明实施例提供了一种显示基板的制作方法,所述显示基板包括有效显示区、环绕所述有效显示区的油墨区,以及位于所述油墨区远离所述有效显示区一侧的走线区,所述方法包括以下步骤:

16、提供一衬底基板;

17、在所述衬底基板上形成驱动电路层;

18、在所述驱动电路层上形成平坦层;

19、对所述走线区的平坦层进行散射处理,使所述平坦层远离所述衬底基板的一侧形成散射结构;

20、在所述平坦层上形成封装结构。

21、在其中一些实施例中,所述对所述走线区的平坦层进行散射处理,使所述平坦层远离所述衬底基板的一侧形成散射结构,包括:

22、通过半透明掩膜板对所述平坦层进行处理,使所述平坦层远离所述衬底基板的一侧形成形貌;

23、在所述平坦层的形貌上形成均匀的金属镀膜以形成散射结构。

24、本发明实施例通过在平坦层上形成散射结构,能够使得由驱动电路层中的金属层衍射及反射的光线能够在平坦层的散射结构处被散射,避免光线反射出显示面板形成银纹对视觉效果造成的不利影响。



技术特征:

1.一种显示基板,其特征在于,包括有效显示区、环绕所述有效显示区的油墨区,以及位于所述油墨区远离所述有效显示区一侧的走线区,所述走线区包括衬底基板、形成于所述衬底基板上的驱动电路层、形成于所述驱动电路层上的平坦层,以及形成于所述平坦层上的封装结构,其中,所述平坦层远离所述衬底基板的一侧经过散射处理,形成散射结构。

2.如权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述散射结构包括密铺排布的六边形的凹陷区域,以及形成各六边形的凹陷区域之间间隔的第一凸起区域,所述凹陷区域内设置有第二凸起区域,所述第二凸起区域呈环形的六边形,所述第二凸起区域的中心和所述六边形的凹陷区域的中心重合。

3.如权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述第一凸起区域的走线宽度为1.5微米至2微米;且\或

4.如权利要求1至3中任一项所述的显示基板,其特征在于,所述散射结构上形成有金属镀膜。

5.如权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述驱动电路层包括栅金属层和源漏金属层,所述源漏金属层在所述衬底基板上的正投影覆盖所述栅金属层在所述衬底基板上的正投影之间的间隔。

6.如权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括散射粒子,所述散射粒子掺杂于所述平坦层中,或者所述散射粒子掺杂于所述封装结构中压敏胶层中。

7.如权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述平坦层的材料包括黑色材料;和\或

8.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1至7中任一项所述的显示基板。

9.一种显示基板的制作方法,所述显示基板包括有效显示区、环绕所述有效显示区的油墨区,以及位于所述油墨区远离所述有效显示区一侧的走线区,其特征在于,所述方法包括以下步骤:

10.如权利要求9所述的方法,其特征在于,所述对所述走线区的平坦层进行散射处理,使所述平坦层远离所述衬底基板的一侧形成散射结构,包括:


技术总结
本发明提供一种显示基板及其制作方法和显示装置。显示基板包括有效显示区、环绕所述有效显示区的油墨区,以及位于所述油墨区远离所述有效显示区一侧的走线区,所述走线区包括衬底基板、形成于所述衬底基板上的驱动电路层、形成于所述驱动电路层上的平坦层,以及形成于所述平坦层上的封装结构,其中,所述平坦层远离所述衬底基板的一侧经过散射处理,形成散射结构。本发明实施例通过在显示基板的平坦层进行散射处理,能够避免光线在驱动电路层的金属层处衍射后反光对视觉效果造成的不良影响。

技术研发人员:付健吉,石博,谭远浩,薛兴皓,宋江
受保护的技术使用者:京东方科技集团股份有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/3/21
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