超导加速腔及超导加速腔的电解研磨方法_4

文档序号:8384513阅读:来源:国知局
周围设置制冷剂槽,但在图6中省略了制冷剂槽的图示。
[0117]第二实施方式是第一实施方式的变形例,除了以下特别说明的情况,其余与第一实施方式相同,并省略说明。
[0118]第一实施方式的金属膜层1a的膜厚与腔主体10的中心轴方向的位置无关地大致恒定。相对于此,第二实施方式的金属膜层600a的膜厚根据腔主体600的中心轴A方向的位置而有所不同。
[0119]图6所示的腔主体600具备距中心轴A的距离为R3的赤道部(大径部)600d、600e、600f、600g。另外,腔主体600具备距中心轴A的距离为R4的隔圈部(小径部)600h、6001、600j。如图6所示,与赤道部600d、600e、600f、600g相对于中心轴A的距离R3相比,隔圈部600h、6001、600j相对于中心轴A的距离R4较短。如图6所示,腔主体600成为赤道部600d、600e、600f、600g与隔圈部600h、6001、600j沿着中心轴A方向而交替形成的形状。
[0120]腔主体600的外周面由导电性比超导材料高的金属材料覆盖。该覆盖的部分成为金属膜层600a。作为导电性较高的金属材料,例如使用铜、金、银、铝等。将腔主体600的外周面由导电性较高的金属材料进行覆盖是因为在进行电解研磨时使腔主体600作为阳极而发挥功能。
[0121]如图6所示,金属膜层600a的膜厚根据腔主体600的中心轴A方向的位置而有所不同。具体来说,赤道部(大径部)600(1、6006、60(^、60(^的金属膜层600&的膜厚为丁2。另外,隔圈部(小径部)600h、6001、600j的金属膜层600a的膜厚为Tl。与膜厚Tl相比,膜厚T2的膜厚较厚。赤道部与邻接的隔圈部之间的金属膜层600a的膜厚成为膜厚随着从赤道部朝向隔圈部而逐渐变薄的形状。
[0122]腔主体600的出口部600b及入口部600c成为圆筒形状的开口部。如图6所示,出口部600b及入口部600c的内周面的直径与隔圈部600h、6001、600j的内周面的直径一致,分别设为D1。另一方面,赤道部600d、600e、600f、600g的内周面的直径为D2。
[0123]而且,赤道部的内周面相对于中心轴A的距离R3与隔圈部的内周面相对于中心轴A的距离R4的比率、和赤道部中的金属膜层600a的膜厚T2与隔圈部中的金属膜层600a的膜厚Tl的比率如以下的式(I)所示那样一致、或大致一致。
[0124]R4/R3 = T1/T2 (I)
[0125]如此,增厚赤道部中的金属膜层600a的膜厚、减薄隔圈部中的金属膜层600a的膜厚是因为,使基于电解研磨的腔主体600的内周面的研磨量在隔圈部与赤道部处大致一致。在如图2所示进行电解研磨时,阴极设置在腔主体的内侧。因此,在金属膜层600a的膜厚沿着中心轴A恒定的情况下,在靠近阴极的隔圈部处电解研磨的研磨量较多,在远离阴极的赤道部处电解研磨的研磨量变少。在本实施方式中,为了减少这样的隔圈部与赤道部处的研磨量的差异,增厚赤道部中的金属膜层600a的膜厚,减薄隔圈部中的金属膜层600a的膜厚。
[0126]通过增厚赤道部中的金属膜层600a的膜厚,电流变得易于在赤道部中流通。另一方面,通过减薄隔圈部中的金属膜层600a的膜厚,使电流在隔圈部处变得相对难以流通。例如,如式(I)那样,通过设定赤道部中的金属膜层600a的膜厚与隔圈部中的金属膜层600a的膜厚,能够减小隔圈部与赤道部处的研磨量的差异。赤道部中的金属膜层600a的膜厚与隔圈部中的金属膜层600a的膜厚例如像式(I)那样进行设定即可,但为了使隔圈部与赤道部处的研磨量一致,根据各种条件而适当地设定即可。
[0127]如上所述,本实施方式的超导加速腔的腔主体600成为赤道部(大径部)与相对于中心轴A的距离比赤道部短的隔圈部(小径部)沿着中心轴A方向交替形成的形状。另夕卜,赤道部中的金属膜层600a的膜厚T2比隔圈部中的金属膜层600a的膜厚Tl厚。
[0128]这样的话,与在进行电解研磨时靠近供阴极配置的腔主体600的中心轴的隔圈部相比,能够使电流更容易在远离中心轴的赤道部中流通。由此,能够抑制在腔主体600的内表面处产生基于电解研磨的研磨度变得不均匀的不良情况。
[0129]在本实施方式的超导加速腔中,赤道部相对于中心轴A的距离R3与隔圈部相对于中心轴A的距离R4的比率、和赤道部中的金属膜层600a的膜厚T2与隔圈部中的金属膜层600a的膜厚Tl的比率一致、或大致一致。
[0130]这样的话,能够将腔主体600的赤道部中的膜厚T2与隔圈部中的膜厚Tl设为与在进行电解研磨时距供阴极配置的腔主体600的中心轴的距离相应的适当的膜厚。
[0131][其他实施方式]
[0132]在第一实施方式中,将阳极部230插入供给口 20a,将阳极部240插入排出口 20b,但也可以是其他方式。例如,也可以是仅在供给口 20a与排出口 20b中的任一方插入阳极部的方式。由于在腔主体10的外周面上同样地形成有金属膜层10a,因此即使仅向供给口20a与排出口 20b中的任一方插入阳极部,也能够将腔主体10的外周面整体与电源250的正极设为相同电位。
[0133]第一实施方式的图1所示的腔主体10沿着中心轴A而交替地形成四个赤道部(大径部)与三个隔圈部(小径部),但也可以是其他方式。例如也可以是N个赤道部和N-1个隔圈部交替形成(在此,N为2以上的整数。)。
【主权项】
1.一种超导加速腔,其中, 所述超导加速腔具备: 腔主体,其由超导材料形成为筒状 '及 制冷剂槽,其设置于该腔主体的周围,且在形成于所述制冷剂槽与该腔主体的外周面之间的空间内贮存从外部经由供给口而供给来的制冷剂, 所述腔主体的外周面由导电性比所述超导材料高的金属材料覆盖。
2.根据权利要求1所述的超导加速腔,其中, 所述腔主体成为大径部与相对于该腔主体的中心轴的距离比该大径部短的小径部沿着轴向交替形成的形状, 所述供给口的所述轴向的位置与所述大径部的所述轴向的位置一致。
3.根据权利要求1所述的超导加速腔,其中, 所述腔主体成为大径部与相对于该腔主体的中心轴的距离比该大径部短的小径部沿着轴向交替形成的形状, 所述大径部中的所述金属材料的膜厚比所述小径部中的所述金属材料的膜厚厚。
4.根据权利要求3所述的超导加速腔,其中, 所述大径部相对于所述中心轴的距离与所述小径部相对于所述中心轴的距离的比率、和所述大径部中的所述膜厚与所述小径部中的所述膜厚的比率大致一致。
5.一种超导加速腔的电解研磨方法,其中, 所述超导加速腔具备:腔主体,其由超导材料形成为筒状;及制冷剂槽,其设置于该腔主体的周围,且在形成于所述制冷剂槽与该腔主体的外周面之间的空间内贮存从外部经由供给口而供给来的制冷剂,所述腔主体的外周面由导电性比所述超导材料高的金属材料覆至rm., 所述超导加速腔的电解研磨方法具备: 阳极设置工序,在该阳极设置工序中,将与电源的正极连接的阳极部从所述供给口插入而使所述阳极部与所述腔主体的所述外周面接触; 阴极设置工序,在该阴极设置工序中,将与所述电源的负极连接的阴极部插入所述腔主体的内部; 供给工序,在该供给工序中,向所述腔主体的内部供给电解液 '及电解研磨工序,在该电解研磨工序中,开始基于所述电源的通电而对所述腔主体的内表面进行电解研磨。
6.根据权利要求5所述的超导加速腔的电解研磨方法,其中, 所述腔主体成为大径部与相对于该腔主体的中心轴的距离比该大径部短的小径部沿着轴向交替形成的形状, 所述供给口的所述轴向的位置与所述大径部的所述轴向的位置一致。
7.根据权利要求5所述的超导加速腔的电解研磨方法,其中, 所述腔主体成为大径部与相对于该腔主体的中心轴的距离比该大径部短的小径部沿着轴向交替形成的形状, 所述大径部中的所述金属材料的膜厚比所述小径部中的所述金属材料的膜厚厚。
8.根据权利要求7所述的超导加速腔的电解研磨方法,其中, 所述大径部相对于所述中心轴的距离与所述小径部相对于所述中心轴的距离的比率、和所述大径部中的所述膜厚与所述小径部中的所述膜厚的比率大致一致。
【专利摘要】本发明提供一种即使在设置了制冷剂槽之后也能容易地再次进行电解研磨的超导加速腔。该超导加速腔(30)具备:腔主体(10),其由超导材料形成为筒状;及制冷剂槽(20),其设置在腔主体(10)的周围,且在形成于与腔主体(10)的外周面之间的空间贮存从外部经由供给口(20a)而供给来的制冷剂,腔主体(10)的外周面由导电性比超导材料高的金属膜层(10a)覆盖。
【IPC分类】H05H7-20, B23H5-08
【公开号】CN104703379
【申请号】CN201410497415
【发明人】原博史
【申请人】三菱重工业株式会社
【公开日】2015年6月10日
【申请日】2014年9月25日
【公告号】EP2882265A1, US20150163894
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