技术特征：
技术总结
本发明提供一种基于结构光的曝光控制方法及曝光控制装置。曝光控制方法包括：以第一投影机亮度投射具有多个扫描图样的结构光于物体以扫描物体，并捕获物体对应所述扫描图样的多个第一影像；根据上述第一影像计算出第一立体影像；以第二投影机亮度投射具有多个扫描图样的结构光于物体以扫描物体，并捕获物体对应所述扫描图样的多个第二影像，其中第二投影机亮度小于第一投影机亮度；根据所述第二影像计算出第二立体影像；以及结合第一立体影像及第二立体影像以获得第一完整立体影像。本发明的曝光控制方法及曝光控制装置能够结合不同曝光条件的立体影像获得完整立体影像。
技术研发人员：陈星宏;周詹闵
受保护的技术使用者：光宝电子(广州)有限公司;光宝科技股份有限公司
技术研发日：2016.12.23
技术公布日：2018.10.02