自清洁云台摄像头防护罩的制作方法

文档序号:12193508阅读:来源:国知局

技术特征:

1.自清洁云台摄像头防护罩,其特征在于:包括用于与摄像头镜头配合的膜体(100),膜体(100)包括至少一层膜层单元,膜层单元包括在远离摄像头镜头的方向上依次层叠的膜层单元组件A和膜层单元组件B,膜层单元组件A的材质采用四氮化三硅,膜层单元组件B的材质采用二氧化硅。

2.根据权利要求1所述的自清洁云台摄像头防护罩,其特征在于:所述至少一层膜层单元的数量为3个,分别为在远离摄像头镜头的方向上依次层叠的第一膜层单元、第二膜层单元和第三膜层单元。

3.根据权利要求2所述的自清洁云台摄像头防护罩,其特征在于:第一膜层单元包括第一膜层单元组件A(111)和第一膜层单元组件B(112),第一膜层单元组件A(111)的厚度为9.23nm,第一膜层单元组件B(112)的厚度为44.75nm;

第二膜层单元包括第二膜层单元组件A(121)和第二膜层单元组件B(122),第二膜层单元组件A(121)的厚度为39.33nm,第二膜层单元组件B(122)的厚度为11.52nm;

第三膜层单元包括第三膜层单元组件A(131)和第三膜层单元组件B(132),第三膜层单元组件A(131)的厚度为75.06nm,第三膜层单元组件B(132)的厚度为86.18nm。

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